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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ITE-IDY, IEE-EDD
(共催)
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
EID
(連催) [詳細]
2018-01-26
10:00
静岡 静岡大学 浜松キャンパス Rubrene/PTCDI-C13積層構造を持つマルチファンクションダイオードの特性改善
山田雅弘森本勝大中 茂樹岡田裕之富山大EID2017-42
有機材料のストークスシフトや異なる発光・吸収波長帯を利用して、発光とセンシングの両機能を持つ複合デバイスができる。これま... [more] EID2017-42
pp.69-72
SDM, EID
(共催)
2014-12-12
11:15
京都 京都大学 エレクトロルミネッセンス(EL)発光強度を用いたシリコン太陽電池モジュールの機能解析
富本剛史都築翔太谷 あゆみ奈良先端大EID2014-18 SDM2014-113
太陽光発電モジュールの評価において、電圧を印加し発光強度の濃淡を撮像することで欠陥を発見できるエレクトロルミネッセンスイ... [more] EID2014-18 SDM2014-113
pp.25-29
IMQ 2014-05-16
13:50
東京 東海大学 高輪キャンパス HDR画像の有機ELディスプレイによる主観評価実験
杉山賢二本土雄大鈴木 愛粟野直之成蹊大IMQ2014-3
HDR(High Dynamic Range)画像の主観画質評価は、評価対象処理がLow DR画像へのトーン変換であれば... [more] IMQ2014-3
pp.13-16
SDM 2012-12-07
15:45
京都 京都大学(桂) 結晶系Si太陽電池による逆方向エレクトロルミネッセンス法を用いた電気的特性の解析
杉村恵美嶋崎成一谷 あゆみ冬木 隆奈良先端大SDM2012-133
太陽電池の空間的な欠陥評価法としてエレクトロルミネッセンス(EL)イメージング法が注目されている。順方向バイアス印加時の... [more] SDM2012-133
pp.107-111
LQE, ED, CPM
(共催)
2011-11-18
15:30
京都 京都大学桂キャンパス 桂ホール GaN系THz帯量子カスケードレーザ構造の作製と自然放出光の観察
寺嶋 亘平山秀樹理研ED2011-99 CPM2011-148 LQE2011-122
我々はテラヘルツ帯量子カスケードレーザ(THz-QCL)における未踏周波数領域5-12 THz帯の開拓と動作温度の高温化... [more] ED2011-99 CPM2011-148 LQE2011-122
pp.131-134
OME, SDM
(共催)
2011-04-15
11:30
佐賀 産総研九州センター 高耐久化に向けた有機薄膜太陽電池の劣化解析法
山成敏広・○吉田郵司産総研SDM2011-5 OME2011-5
有機薄膜太陽電池の実用化において、高耐久化は極めて重要な研究開発要素である。その高耐久化を実現するためには、有機薄膜太陽... [more] SDM2011-5 OME2011-5
pp.17-20
OME, SDM
(共催)
2011-04-15
15:25
佐賀 産総研九州センター 配向ポリフルオレン薄膜上への色素蒸着による白色偏光EL
ヘック クライレ溝黒登志子・○谷垣宣孝産総研SDM2011-9 OME2011-9
我々は摩擦転写法によって共役系高分子の配向薄膜を作製することにより偏光電界発光(EL)素子の作製を目指して研究している.... [more] SDM2011-9 OME2011-9
pp.37-41
OME, OPE
(共催)
2010-11-12
13:00
東京 機械振興会館地下3階2号室 パルス電圧印加によるテトラセン電界効果トランジスタ内の電界発光メカニズム
大嶋優記金 英輝間中孝彰岩本光正東工大OME2010-55 OPE2010-125
テトラセン電界効果トランジスタ(FET)に対して、パルス電圧を印加した際に観測されるエレクトロルミネッセンス(EL)の発... [more] OME2010-55 OPE2010-125
pp.1-5
CPM 2010-10-29
12:40
長野 信州大学 工学部 地域共同研究センター3階研修室 横方向DCELデバイスにおけるZnOナノロッド上でのEL蛍光体の堆積形態の影響
佐藤知正松澤友紀金城貴樹平手孝士神奈川大CPM2010-107
無機EL蛍光体と導電性ZnOナノロッドとを組み合わせた横方向電界印加型DC-TFELデバイスにおいて,ZnOナノロッドE... [more] CPM2010-107
pp.81-86
EMD, CPM, OME
(共催)
2010-06-25
14:50
東京 機械振興会館 地下3階研修2号室 キラルなポリジアセチレン薄膜の作製とその重合過程の検討
金 英輝篠 竜徳大嶋優記間中孝彰岩本光正東工大EMD2010-11 CPM2010-25 OME2010-30
光重合過程への円偏光の導入により、キラルなポリジアセチレン(PDA)薄膜の作製が可能である。本手法では、モノマー蒸着時の... [more] EMD2010-11 CPM2010-25 OME2010-30
pp.13-17
ED 2010-04-22
10:00
山形 伝国の杜(米沢) 液晶性を有する有機EL材料の発光特性
海老原裕貴佐藤武志粟野 宏高橋辰宏米竹孝一郎山形大ED2010-1
液晶駆動と有機EL駆動を併せ持つ液晶・有機EL素子に用いる発光性、キャリア輸送性材料について、著者らはこれまでに種々の棒... [more] ED2010-1
pp.1-4
ITE-IDY, EID, IEIJ-SSL, IEE-EDD
(共催)
2010-01-28
14:35
福岡 九州大学(筑紫地区) 直流反応性スパッタリング法を用いたBaAl2S4 : Eu EL素子の作製
渡邉康裕三浦 登松本皓永中野鐐太郎明大EID2009-57
直流反応性スパッタリング法を用いて、BaAl2S4 : Eu 薄膜の作製を行った。導入ガスとして Ar および H2S ... [more] EID2009-57
pp.41-44
LQE 2009-12-11
11:50
東京 機械振興会館 地下3階2号室 有機EL素子のプラズモン発光とピーク波長
佐藤由章寺村晃彦佐久間吉彦小島修司笠原健一立命館大)・大塚岳夫阪大)・三浦伸仁カネカLQE2009-144
燐光型有機EL素子は三重項からの発光を用いることができ、緑色や赤色で高い発光効率が実現されているが、短波長領域では未だ十... [more] LQE2009-144
pp.31-35
ED 2009-07-30
14:50
大阪 大阪大学(銀杏会館) 有機光センサーデバイスの応用に向けた有機発光素子の過渡応答特性
梶井博武高法田憲義高田亮太郎笠間大輔大森 裕阪大ED2009-105
燐光及び蛍光有機EL素子を作製し、パルス電圧駆動時の過渡ELに関する検討を行った。基本的な応答特性を検証し、蛍光素子は、... [more] ED2009-105
pp.19-22
ED, CPM, SDM
(共催)
2009-05-14
13:55
愛知 豊橋技科大サテライトオフィス 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の評価
山田典史宝珍敬志以西雅章静岡大ED2009-19 CPM2009-9 SDM2009-9
青色EL素子の高輝度化を目的として、SrS:Cu薄膜を生成し、結晶特性およびPL(Photoluminescent)発光... [more] ED2009-19 CPM2009-9 SDM2009-9
pp.7-10
OME 2008-12-11
14:30
東京 機械振興会館 有機EL現象を用いた交流電界下でのキャリア注入過程の評価と解析
大嶋優記金 英輝間中孝彰岩本光正東工大OME2008-79
交流電界下での有機ELメカニズムを明らかにするため、OFETからのEL観測を行った。テトラセンFETに対して矩形波の交流... [more] OME2008-79
pp.19-24
LQE, ED, CPM
(共催)
2008-11-27
13:10
愛知 名古屋工業大学 ナノインプリント技術により周期的微細構造を施したGaN系デバイスからの電流注入発光特性
遠野充明張 晶直井美貴酒井士郎徳島大)・和地順蔵SCIVAXED2008-158 CPM2008-107 LQE2008-102
ナノインプリント技術および反応性イオンエッチング(RIE)を用いて,p-GaN上に正三角形状に配置した周期的円柱パターン... [more] ED2008-158 CPM2008-107 LQE2008-102
pp.29-32
ITE-BCT, IEE-CMN
(共催)
OFT, OCS
(併催) [詳細]
2008-11-20
13:50
大分 日本文理大学 湯布院研修所 OLEDによる光無線通信の可能性
貫田雅剛春山真一郎中川正雄慶大OCS2008-86
有機Electroluminescence(OLED)は薄型ディスプレイやテレビ,そして新しい照明器具の技術として注目を... [more] OCS2008-86
pp.13-17
OME 2008-05-29
16:20
東京 電気倶楽部第3会議室 円偏光誘起したキラルポリジアセチレンの電界発光現象の観測
金 英輝深田正憲大嶋優記間中孝彰岩本光正東工大OME2008-30
ガラス基板上に作製したジアセチレン薄膜について、光重合過程に円偏光を用い、合成した青相ポリジアセチレンにキラリティーを誘... [more] OME2008-30
pp.51-54
CPM, ED, SDM
(共催)
2008-05-15
13:50
愛知 名古屋工業大学 ステップアニールによる青色EL素子用SrS:Cu薄膜の評価
山田典史板倉巧周倉地雄史以西雅章静岡大ED2008-3 CPM2008-11 SDM2008-23
青色EL素子の高輝度化を目的として、SrS:Cu薄膜を生成し、結晶特性および発光特性の熱処理(ステップアニール)条件依存... [more] ED2008-3 CPM2008-11 SDM2008-23
pp.11-14
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