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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
RCC, ASN, RCS, NS, SR
(併催)
2015-07-31
15:25
長野 JA長野県ビル ダミー信号を用いた秘密通信方式における電力分配法の一検討
中林郁弥梅林健太鈴木康夫東京農工大RCS2015-129
本稿では,ダミー信号を用いた秘密通信方式において,秘密容量を増加させるための電力分配方法について検討した. OFDM(O... [more] RCS2015-129
pp.169-173
EST, MWP, OPE, MW, EMT, IEE-EMT
(共催) [詳細]
2013-07-18
10:20
北海道 稚内総合文化センター 微細構造の実効誘電率計算のための静電界解析
平野拓一広川二郎安藤 真東工大MW2013-50 OPE2013-19 EST2013-14 MWP2013-9
著者らは、CMOSチップで必須となるダミーメタルの影響評価を行い、等価媒質定数を求める手法を提案してきた。等価媒質定数の... [more] MW2013-50 OPE2013-19 EST2013-14 MWP2013-9
pp.13-18
MW 2013-03-07
13:50
広島 広島大学 [招待講演]テラヘルツ集積回路に向けたオンチップ伝送線路のモデル化に関する考察
土谷 亮小野寺秀俊京大MW2012-176
本稿では100GHz以上で動作する集積回路に向けたオンチップ伝送線路のモデル化について議論する.
チップ内では製造上の... [more]
MW2012-176
pp.93-96
AP 2012-03-16
11:15
静岡 熱海市中央公民館 CMOSチップ上周期配列ダミーメタルフィルの等価異方性媒質定数の抽出
平野拓一岡田健一広川二郎安藤 真東工大AP2011-208
単位セルの固有値解析を用いたCMOSチップ上周期配列ダミーメタルフィルの等価異方性媒質定数の抽出を行った。60GHzにお... [more] AP2011-208
pp.55-60
EMT, PN, LQE, OPE, MWP, EST
(共催)
IEE-EMT
(連催) [詳細]
2012-01-27
15:15
大阪 大阪大学コンベンションセンター シリコンCMOSオンチップマイクロストリップ線路に埋め込んだダミーメタルフィル面積密度とサイズの伝送特性への影響
平野拓一岡田健一広川二郎安藤 真東工大PN2011-63 OPE2011-179 LQE2011-165 EST2011-113 MWP2011-81
60 GHzにおいて、シリコンCMOSオンチップガイド付マイクロストリップ線路に埋め込んだダミーメタルの面積密度、サイズ... [more] PN2011-63 OPE2011-179 LQE2011-165 EST2011-113 MWP2011-81
pp.207-210
VLD, IPSJ-SLDM
(共催)
2007-05-11
14:35
京都 京大会館 ダミーフィルが配線の高周波特性に与える影響
土谷 亮小野寺秀俊京大VLD2007-16
本稿はダミーフィルが配線特性に与える影響について議論する.
近年の微細プロセスでは,配線の疎密による配線厚さのばらつき... [more]
VLD2007-16
pp.55-59
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