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すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM, OME (共催) |
2023-04-22 10:05 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
Neを用いてガラス上にスパッタ堆積したInSb膜のRTAによる結晶化 ○岡田竜弥・チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー（琉球大）・梶原隆司・佐道泰造（九大）・野口 隆（琉球大）  SDM2023-8 OME2023-8 |
安価な絶縁基板上への高結晶性InSb膜の形成に向けて、ArガスおよびNeガスを用いたRFスパッタリング法により製膜したI... [more] | SDM2023-8 OME2023-8 pp.30-31 |
| SDM, OME (共催) |
2023-04-22 10:30 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
スパッタ堆積InSb薄膜/ガラス基板の急速熱処理法による結晶成長 ○梶原隆司（九大）・岡田竜弥・チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー・野口 隆（琉球大）・佐道泰造（九大） SDM2023-9 OME2023-9 |
高移動度InSb薄膜の低コストな形成プロセスの創出を目指し、ガラス基板上へArプラズマを用いてスパッタ成膜したInSb膜... [more] | SDM2023-9 OME2023-9 pp.32-33 |
| OME | 2022-12-19 16:10 |
東京 | 東京理科大学葛飾キャンパス | フッ素ドープB型炭酸アパタイト系固体電解質の導電特性と熱安定性 ○赤松 怜・田中優実（東京理科大） OME2022-49 |
フッ素ドープ系B型炭酸アパタイト（FCA; (Ca10-x Na2x/3)[(PO4)6-x(CO3)x][(OH)2-... [more] | OME2022-49 pp.30-32 |
| CPM | 2018-08-10 11:05 |
青森 | 弘前大学文京町地区キャンパス | Si基板上SiO2薄膜の電子線照射による還元反応 ○藤森敬典・千田陽介・増田悠右・氏家夏樹・遠田義晴（弘前大） CPM2018-18 |
20 nm～100 nm厚のSiO_{2}膜を有するSi(100)表面に様々な条件で電子線照射し、その後フッ酸処理や真 ... [more] | CPM2018-18 pp.47-52 |
| ITE-IDY, IEE-EDD (共催) IEIJ-SSL, SID-JC (共催) EID (連催) [詳細] |
2018-01-26 09:00 |
静岡 | 静岡大学 浜松キャンパス | 溶液合成法により作製したZnS:Cu分散型EL素子 ○上田祥平・田中聡士・猿田航己・石垣 雅・大観光徳（鳥取大） EID2017-37 |
分散型無機EL素子の発光特性を改善すべく、ZnS:Cuナノ粒子の溶液合成におけるCuの高濃度付活、ならびに同ナノ粒子の熱... [more] | EID2017-37 pp.49-52 |
| SDM | 2015-06-19 13:00 |
愛知 | 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー | シリコン熱酸化膜の水素アニール効果に関する第一原理計算 ○川内伸悟・白川裕規・洗平昌晃（名大）・影島愽之（島根大）・遠藤哲郎（東北大）・白石賢二（名大） SDM2015-45 |
なぜ高品質なSi/SiO2界面は熱酸化によって容易に形成されるのか。この疑問はシリコン技術の成功に密接に関係しているにも... [more] | SDM2015-45 pp.37-40 |
| ED, CPM, SDM (共催) |
2015-05-28 13:00 |
愛知 | 豊橋技科大VBL棟 | 液体原料を用いた熱CVDによるグラフェンの合成 ○岸 直希・岩田鷹明・岩間一樹・包 建峰・劉 会濤・曽我哲夫（名工大） ED2015-16 CPM2015-1 SDM2015-18 |
我々は安全・簡便なグラフェン合成を目指し、炭素源として液体原料であるエタノールを、またキャリアガスとして窒素を用いたグラ... [more] | ED2015-16 CPM2015-1 SDM2015-18 pp.1-4 |
| LQE, ED, CPM (共催) |
2014-11-28 13:40 |
大阪 | 大阪大学 吹田キャンパス 理工学図書館 | 界面顕微光応答法によるAu/Ni/n-GaNショットキー接触の熱劣化過程の2次元評価 ○塩島謙次・山本晋吾・木原雄平（福井大） ED2014-91 CPM2014-148 LQE2014-119 |
金属/半導体界面の電気的特性を二次元評価できる界面顕微光応答法を開発し、Au /Ni / n-GaNショットキー接触の熱... [more] | ED2014-91 CPM2014-148 LQE2014-119 pp.85-90 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2014-11-25 16:10 |
東京 | 早稲田大学 | 急速加熱処理による合成鉄白金ナノ粒子配列膜の規則化過程 ○相川健一郎・藤平誉樹・蜂巣琢磨・杉山敦史・逢坂哲彌（早大）・山根 明・坂脇 彰・茂 智雄（昭和電工） MR2014-27 |
我々は，予め化学合成した数ナノメートル径の鉄白金(FePt)ナノ粒子を用いたビットパターンメディア向けの記録層作製プロセ... [more] | MR2014-27 pp.23-28 |
| SDM | 2013-06-18 16:10 |
東京 | 機械振興会館 | ［依頼講演］熱酸化SiC-MOSデバイス中の可動イオンの異常生成と特性改善技術 ○渡部平司・チャンタパン アタウット（阪大）・中野佑紀・中村 孝（ローム）・細井卓治・志村考功（阪大） SDM2013-61 |
熱酸化によって4H-SiC(0001)基板上に形成したMOSデバイス中の可動イオンの異常生成を詳細に調べると共に，その改... [more] | SDM2013-61 pp.87-90 |
| OME, SDM (共催) |
2013-04-26 09:10 |
鹿児島 | 屋久島環境文化村センター | ［招待講演］有機EL、有機太陽電池の創製と解析 ○梶 弘典（京大） SDM2013-9 OME2013-9 |
1) ポリチオフェン－PC61BMからなるバルクヘテロ型有機薄膜太陽電池（BHJ OSCs）において、熱処理により光電変... [more] | SDM2013-9 OME2013-9 pp.43-48 |
| SDM, ED (共催) (ワークショップ) |
2012-06-27 11:30 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | ［招待講演］Gate Stack Technologies for Silicon Carbide Power MOS Devices ○Takuji Hosoi・Takashi Kirino・Yusuke Uenishi・Daisuke Ikeguchi・Atthawut Chanthaphan（Osaka Univ.）・Akitaka Yoshigoe・Yuden Teraoka（JAEA）・Shuhei Mitani・Yuki Nakano・Takashi Nakamura（ROHM）・Takayoshi Shimura・Heiji Watanabe（Osaka Univ.） |
[more] | |
| SDM | 2012-06-21 10:55 |
愛知 | 名古屋大学（ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー） | Al2O3/Ge構造への酸素熱処理および酸素ラジカル処理による界面反応機構の解明 ○柴山茂久（名大）・加藤公彦（名大/学振）・坂下満男・竹内和歌奈・田岡紀之・中塚 理・財満鎭明（名大） SDM2012-48 |
高駆動力 Ge MOSFETの実現には，低界面準位密度（Dit）かつ低SiO2換算膜厚を有するhigh-k絶縁膜/Ge構... [more] | SDM2012-48 pp.27-32 |
| ED, SDM, CPM (共催) |
2012-05-17 16:45 |
愛知 | 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー | Ga2O3酸素センサの作製と評価 ○以西雅章・山本貴弘・鳥井琢磨（静岡大） ED2012-25 CPM2012-9 SDM2012-27 |
あらまし 近年、環境問題に対する関心の高まりから、排気ガスの制御に酸素ガスセンサが注目されている。酸化ガリウムは900... [more] | ED2012-25 CPM2012-9 SDM2012-27 pp.39-42 |
| SDM | 2011-12-16 10:00 |
奈良 | 奈良先端科学技術大学院大学 | ZnS系無機EL蛍光体の発光特性に対する高圧水蒸気熱処理による効果 ○紺谷拓哉・谷口真央・堀田昌宏（奈良先端大）・田口信義（イメージテック）・石河泰明・浦岡行治（奈良先端大） SDM2011-132 |
硫化亜鉛(ZnS)等の?-?族半導体材料を用いた分散型無機ELは，照明や次世代ディスプレイへの応用が期待されている．スク... [more] | SDM2011-132 pp.1-5 |
| SDM | 2011-07-04 15:40 |
愛知 | 名古屋大学（ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー） | 高温熱処理によるTiN/HfLaSiO/SiO2ゲートスタック中Hf及びLa原子のTiN電極中への拡散とMIPS構造による抑制 ○大嶽祐輝・有村拓晃・佐伯雅之・力石薫介・北野尚武・細井卓治・志村考功・渡部平司（阪大） SDM2011-65 |
ゲートファーストプロセスによるMetal/High-kスタックの実現に向け、TiN/HfLaSiO/SiO2ゲートスタッ... [more] | SDM2011-65 pp.87-92 |
| CPM, SDM, ED (共催) |
2011-05-19 16:40 |
愛知 | 名古屋大学 ＶＢＬ | B-Ga2O3（100）基板上GaN及びAlGaNの成長 ○伊藤 駿・竹田健一郎・永田賢吾・青島宏樹・竹原孝祐・岩谷素顕・竹内哲也・上山 智（名城大）・赤サキ 勇（名城大/名大）・天野 浩（名大） ED2011-16 CPM2011-23 SDM2011-29 |
beta-Ga2O3は260nmまでの光を透過しかつ導電性があることから、紫外の縦型伝導LED実現の可能性を秘めている基... [more] | ED2011-16 CPM2011-23 SDM2011-29 pp.77-81 |
| CPM, SDM, ED (共催) |
2011-05-20 13:25 |
愛知 | 名古屋大学 ＶＢＬ | Ga2O3酸素センサの作製と評価 ○山本貴弘・茅野真也・池田紘基・鈴木嘉文・以西雅章（静岡大） ED2011-27 CPM2011-34 SDM2011-40 |
近年、環境問題に対する関心の高まりから、排気ガスの制御に酸素ガスセンサが注目されている。酸化ガリウムは900℃以上で酸素... [more] | ED2011-27 CPM2011-34 SDM2011-40 pp.135-138 |
| EID, ITE-IDY, IEE-EDD, IEIJ-SSL (連催) |
2011-01-28 14:15 |
高知 | 高知工科大学 研究教育棟B | 赤外線急速加熱によるZnS系無機ELの作製 ○堀口昌吾・紺谷拓哉・堀田昌宏（奈良先端大）・田口信義（イメージテック）・浦岡行治（奈良先端大/JST） EID2010-29 |
硫化亜鉛(ZnS)等のII-VI族半導体材料を用いた分散型無機ELは，照明や次世代ディスプレイへの応用が期待されている．... [more] | EID2010-29 pp.33-36 |
| OME, OPE (共催) |
2010-11-12 13:50 |
東京 | 機械振興会館地下3階2号室 | TPD蒸着膜の熱重合による正孔輸送層の形成 室山雅和・市田杏子・田尻亜弥子・加藤大智・田中邦明・乙木栄志・○臼井博明（東京農工大） OME2010-56 OPE2010-126 |
テトラフェニルジアミノビフェニルのジビニル誘導体DvTPDを蒸着し，引き続き加熱することによって重合膜を形成した．200... [more] | OME2010-56 OPE2010-126 pp.7-12 |
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