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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
EID, SDM
(共催)
ITE-IDY
(連催) [詳細]
2020-12-02
15:00
ONLINE オンライン開催 TiN電極を用いたTa2O5-ReRAM素子におけるデジタルおよびアナログ抵抗変化の共存
山田和尚木本恒暢京大)・西 佑介京大/舞鶴高専EID2020-11 SDM2020-45
本研究では、Ni/Ta2O5/TiN積層構造を有する素子の抵抗変化現象について調べた.同一の素子において、異なる二種類の... [more] EID2020-11 SDM2020-45
pp.42-45
CPM 2020-10-29
15:30
ONLINE オンライン開催 共スパッタ法を用いた金添加酸化タンタル薄膜の作製と光触媒への応用に向けた基礎検討
伊藤 開橋本祐也三浦健太野口克也加田 渉花泉 修群馬大CPM2020-18
簡便な共スパッタ法を用いて金添加酸化タンタル薄膜(Ta2O5:Au)を作製し,光触媒への応用に向けた基礎検討を行った.7... [more] CPM2020-18
pp.27-30
ITE-IDY, IEE-EDD
(共催)
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
EID
(連催) [詳細]
2019-01-25
09:45
鹿児島 鹿児島大学 稲盛会館 CeO2を用いた薄膜無機EL素子の発光特性
秋山竹將柳原邦俊三浦 登明大EID2018-11
直接衝突励起により発光を得る直流 EL 素子においては、安定的な高電界とキャリヤの注入を同時に満たす構造が必要である。直... [more] EID2018-11
pp.73-76
OPE 2011-12-16
13:55
東京 機械振興会館 スパッタリング法による希土類ドープTa2O5薄膜の作製とその発光特性の評価
三浦健太・○新井勇輝花泉 修群馬大OPE2011-143
スパッタリング法によりEuドープTa2O5薄膜を成膜し,アニール後,波長600nm, 620nm, 650nm及び700... [more] OPE2011-143
pp.13-16
US 2011-09-27
10:25
宮城 東北大学 工学部 電子情報システム・応物系 南講義棟103会議室 直線集束ビーム超音波材料解析システムによるガラス多層膜の評価
荒川元孝櫛引淳一東北大)・伊藤和彦江藤和幸日本航空電子US2011-56
直線集束ビーム超音波材料解析(LFB-UMC)システムを超高フィネス光キャビティー用多層膜の評価に適用した。RFイオンビ... [more] US2011-56
pp.53-57
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