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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2022-12-08
13:55
愛媛 愛媛大学 + オンライン開催
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
垂直磁化SAF固定層を用いたCPP-GMR膜の電流誘起磁化反転
潘 達曹 哲大島大輝加藤剛志名大MRIS2022-19
3次元磁気メモリ素子開発を目指し,垂直磁化Co/Pd膜の電流誘起磁化反転を検討した. Ruを介して人工積層フェリ磁性(S... [more] MRIS2022-19
pp.7-10
MRIS, ITE-MMS, IEE-MAG
(連催)
2019-10-17
13:00
福岡 九州大学 (西新プラザ) 希土類磁性体を用いた無磁場中スピンオービットトルク磁化反転
若江将和伊藤正裕黒川雄一郎大西紘平湯浅裕美九大MRIS2019-15
磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM : Magnetic Random Access Memory)は不揮発かつ高速動... [more] MRIS2019-15
pp.1-5
MRIS, ITE-MMS, IEE-MAG
(連催)
2019-10-18
14:00
福岡 九州大学 (西新プラザ) 層間結合した強磁性多層膜における非線形スピンダイナミクスの観測
屋冨祖 稔宮崎圭司木村 崇九大MRIS2019-36
複数の磁性層を持つ磁性多層膜において、マイクロ波を照射すると、各磁性層の共鳴状態に対応した磁化の歳差運動が励起される。こ... [more] MRIS2019-36
pp.117-118
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2016-06-09
16:35
宮城 東北大学 [招待講演]磁気スキルミオンのデバイス機能とダイナミクス
望月維人青学大MR2016-7
キラルな結晶構造を持つ磁性体中に発現する「スキルミオン」と呼ばれる渦上の磁気テクスチャは,(1) ナノスケールの極小サイ... [more] MR2016-7
pp.39-44
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2015-10-22
13:55
大阪 大阪大学吹田キャンパス 巨大磁気抵抗効果を用いたスピン流アシスト効果の検出
高橋真央能崎幸雄慶大MR2015-16
強磁性体/非磁性体/強磁性体の擬スピンバルブ3層膜において、一方の強磁性体が共鳴する周波数のマイクロ波を印加してスピンポ... [more] MR2015-16
pp.7-10
ICD, SDM
(共催)
2014-08-04
13:55
北海道 北海道大学 情報教育館(札幌市) [招待講演]混載メモリ適用に向けたスピン注入型MRAMの開発
杉井寿博射場義久青木正樹能代英之角田浩司畑田明良中林正明山崎裕一高橋 厚吉田親子超低電圧デバイス技研組合SDM2014-68 ICD2014-37
本論文では,エレクトロニクス機器に使用されるシステムLSIの混載メモリに関する課題を取り上げ,不揮発,無限回書き換え,高... [more] SDM2014-68 ICD2014-37
pp.35-38
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2013-07-12
16:35
東京 中央大学 スピン注入書き込み技術の進展とノーマリオフコンピューティングへの適用検討
伊藤順一與田博明藤田 忍下村尚治北川英二安部恵子野村久美子野口紘希東芝MR2013-13
スピン注入書き込みMRAMをキャッシュメモリに用いたプロセッサは、通常状態が常に電源オフである”ノーマリーオフコンピュー... [more] MR2013-13
pp.37-41
ICD 2013-04-11
13:30
茨城 産業技術総合研究所 つくばセンター [招待講演]Restructuring of Memory Hierarchy in Computing System with Spintronics-Based Technologies
Tetsuo EndohTohoku Univ.ICD2013-5
現在のコンピュータシステムのメモリ階層においては,性能と消費電力との間のトレードオフが大きくなっており,低消費電力かつ高... [more] ICD2013-5
pp.21-26
ICD 2012-12-17
13:30
東京 東工大蔵前会館 ロイアルブルーホール [招待講演]混載SRAM置き換え用STT-MRAMの高性能化とインテグレーション
杉井寿博射場義久青木正樹能代英之角田浩司畑田明良中林正明山崎裕一高橋 厚吉田親子超低電圧デバイス技研組合ICD2012-90
本論文では,超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)で開発中の混載SRAM置き換え用STT-MRAMに関して,開発の背景... [more] ICD2012-90
pp.17-20
ITE-MMS, ITE-CE
(共催)
MRIS
(連催) [詳細]
2012-01-20
09:00
大阪 パナソニック企業年金基金 松心会館 超高精細スピン注入型空間光変調素子の光変調特性
町田賢司船橋信彦青島賢一加藤大典久我 敦菊池 宏NHK)・石橋隆幸長岡技科大)・清水直樹NHKMR2011-37
視域角の広い電子ホログラフィーの実現を目指し,サブミクロン磁性体に電流を流すことによって高速スイッチングが可能なスピン注... [more] MR2011-37
pp.41-46
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2011-11-18
15:30
東京 早稲田大学 スピントルク発振素子の再生ヘッド応用
永澤鶴美首藤浩文工藤 究楊 涛水島公一佐藤利江東芝MR2011-22
記録密度2Tb/in2以上のハードディスクドライブ(HDD)では,再生ヘッドのスピントルクノイズや熱揺らぎノイズの増大に... [more] MR2011-22
pp.21-25
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2011-07-15
16:45
東京 中央大学 後楽園キャンパス 記録密度5Tbpsiに向けた再生ヘッドデザイン
高岸雅幸岩崎仁志橋本 進東芝MR2011-7
記録密度2Tb/in2 to 5Tb/in2のハードディスクドライブ(HDD)で使用可能な再生素子のパフォーマンスをスピ... [more] MR2011-7
pp.49-53
SDM 2010-11-11
13:00
東京 機械振興会館 [招待講演]磁性体メモリ最新動向と多値スピン注入MRAM(MLC-SPRAM)
石垣隆士河原尊之竹村理一郎小埜和夫伊藤顕知日立)・大野英男東北大SDM2010-173
本稿では、スピン注入型磁性体メモリの最新動向と多値スピン注入MRAM(MLC-SPRAM)について述べる。2つの直列接続... [more] SDM2010-173
pp.11-15
ITE-MMS, MRIS
(連催)
2010-10-14
16:15
秋田 秋田県産業技術総合研究センター 高度技術研究所 垂直磁気異方性制御が可能なL10型Fe(PdxPt1-x)合金を用いたスピン注入書き込みMRAM用FePt基TMR積層膜の作製
大宮翔吾吉村 哲江川元太斉藤 準秋田大MR2010-27
我々は、高い規則度を有しながら垂直磁気異方性磁界の制御が可能なL10-Fe(Pd,Pt)薄膜を作製した。
本薄膜をスピ... [more]
MR2010-27
pp.31-36
ICD, SDM
(共催)
2010-08-27
14:35
北海道 札幌エルプラザ内男女共同参画センター 不揮発再構成可能な回路へのスピンMOSFETの応用
井口智明丸亀孝生棚本哲史杉山英行石川瑞恵斉藤好昭東芝SDM2010-147 ICD2010-62
スピン注入書き込み可能な新しいタイプのスピンMOSFET(Spin-transfer-Torque Switching ... [more] SDM2010-147 ICD2010-62
pp.125-129
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2010-06-10
14:00
宮城 東北大学電気通信研究所 1平方インチあたり2テラビット以上の記録密度でのCPP-MR素子の要求特性
高岸雅幸山田健一郎岩崎仁志福家ひろみ橋本 進東芝MR2010-2
平方インチあたり2テラビット(2Tb/in2)から5テラビット(5Tb/in2)の記録密度のハードディスク(HDD)を実... [more] MR2010-2
pp.13-19
ICD 2010-04-22
15:45
神奈川 湘南工大 [依頼講演] 双方向ローカルライトドライバ,1/0平均化リファレンスセル,2T1Rセルレイアウトを用いた32Mb SPRAM
竹村理一郎河原尊之日立)・三浦勝哉山本浩之日立/東北大)・早川 純松崎 望小埜和夫山ノ内路彦伊藤顕知高橋宏昌日立)・池田正二東北大)・長谷川晴弘松岡秀行日立)・大野英男東北大ICD2010-10
1.8 V動作,32 nsアクセス,セル書き込み時間40 nsの32 Mb SPRAMを試作した。本チップは,150 n... [more] ICD2010-10
pp.53-57
ITE-MMS, MRIS
(共催)
2009-10-08
13:55
福岡 福岡交通センター [招待講演]スピントルク磁化反転を用いた不揮発RAM(SPRAM)
高橋宏昌伊藤顕知早川 純三浦勝哉山本浩之山ノ内路彦小埜和夫竹村理一郎河原尊之日立)・佐々木龍太郎東北大)・長谷川晴弘東北大/日立)・池田正二東北大)・松岡秀行日立)・大野英男東北大
SPRAM(Spin Transfer Torque MRAM)は、電流によるスピントランスファトルクによってMTJ素子... [more]
SDM, ED
(共催)
2009-06-24
15:00
海外 海雲台グランドホテル(釜山、韓国) Transient characteristic of fabricated Magnetic Tunnel Junction (MTJ) programmed with CMOS circuit
Masashi KamiyanagiFumitaka IgaShoji IkedaTohoku Univ.)・Katsuya MiuraTohoku Univ./Hitachi)・Jun HayakawaHitachi)・Haruhiro HasegawaTakahiro HanyuHideo OhnoTetsuo EndohTohoku Univ.ED2009-52 SDM2009-47
In this paper, it is shown that our fabricated MTJ of 60x180... [more] ED2009-52 SDM2009-47
pp.9-12
SDM, ED
(共催)
2009-06-24
15:15
海外 海雲台グランドホテル(釜山、韓国) Study of the DC Performance of Fabricated Magnetic Tunnel Junction Integrated on Back-end Metal Line of CMOS Circuits
Fumitaka IgaMasashi KamiyanagiShoji IkedaTohoku Univ.)・Katsuya MiuraTohoku Univ./Hitachi)・Jun HayakawaHitachi)・Haruhiro HasegawaTakahiro HanyuHideo OhnoTetsuo EndohTohoku Univ.ED2009-53 SDM2009-48
In this paper, we have succeeded in the fabrication of high ... [more] ED2009-53 SDM2009-48
pp.13-16
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