電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 開催スケジュール
技報閲覧サービス
技報オンライン
‥‥ (ESS/通ソ/エレソ/ISS)
技報アーカイブ
‥‥ (エレソ/通ソ)
    [Japanese] / [English] 
研究会名/開催地/テーマ  )→
 
講演検索  検索語:  /  範囲:題目 著者 所属 抄録 キーワード )→

すべての研究会開催スケジュール  (すべての年度)

講演検索結果
 登録講演(開催プログラムが公開されているもの)  (日付・降順)
 3件中 1~3件目  /   
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2015-06-19
11:30
愛知 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー [依頼講演]SiO2/SiC MOS界面の欠陥特性に酸窒化処理が与える影響
竹内和歌奈名大)・山本建策デンソー)・坂下満男名大)・金村髙司デンソー)・中塚 理財満鎭明名大SDM2015-43
SiO2/4H-SiC界面特性に対するNOガス雰囲気熱処理の効果を調べた。NOガス雰囲気熱処理MOSキャパシタ試料の電気... [more] SDM2015-43
pp.27-30
SDM 2013-06-18
16:45
東京 機械振興会館 [依頼講演]SiC酸化メカニズム解明への試み ~ Si酸化との共通点/異なる点 ~
土方泰斗八木修平矢口裕之埼玉大SDM2013-62
SiC半導体を用いたパワーMOSFETが従来のSi系パワーデバイスを凌駕するには,SiC酸化メカニズムのより一層の理解が... [more] SDM2013-62
pp.91-96
SDM 2012-10-25
15:45
宮城 東北大学未来研 AR-XPS及びHAX-PESによるSiO2/SiC界面の化学結合状態評価
岡田葉月小松 新渡辺将人東京都市大)・泉 雄大室 隆圭介高輝度光科学研究センター)・澤野憲太郎野平博司東京都市大SDM2012-90
我々は、SPring-8のBL27SUでSiO2/SiCの角度分解X線光電子分光(AR-XPS)測定とエッチングにより酸... [more] SDM2012-90
pp.5-9
 3件中 1~3件目  /   
ダウンロード書式の初期値を指定してください NEW!!
テキスト形式 pLaTeX形式 CSV形式 BibTeX形式
著作権について : 以上の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.
(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会