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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2022-11-11
14:00
ONLINE オンライン開催 [招待講演]酸窒化膜をゲート絶縁膜に有するSi面4H-SiC MOSFETにおける反転層移動度の評価とモデル化
野口宗隆渡邊 寛三菱電機)・喜多浩之東大)・西川和康三菱電機SDM2022-75
本研究では、酸窒化膜をゲート絶縁膜に有するSi面4H-SiC MOSFETの反転層移動度を広範囲のアクセプタ濃度で評価し... [more] SDM2022-75
pp.50-54
EID, ITE-IDY, IEE-EDD
(連催)
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
(連催) [詳細]
2021-01-28
13:05
ONLINE オンライン開催 凹レンズ効果によるリバースモード液晶素子の散乱特性向上に関する研究
伊藤耀希山口留美子秋田大EID2020-16
電圧オフ時に透過状態、電圧オン時に散乱状態を示すリバースモード液晶素子として働く散乱機構は、いくつか提案されている。その... [more] EID2020-16
pp.5-8
SDM 2018-11-09
10:20
東京 機械振興会館 [招待講演]4H-SiC MOS反転層における電子輸送のモデリング
田中 一森 伸也阪大SDM2018-71
4H-SiC MOS界面における電子散乱過程を定式化し,モンテカルロシミュレーションにより電子移動度の計算を行った.フォ... [more] SDM2018-71
pp.35-40
SANE 2017-11-23
13:00
海外 マレーシア(ボルネオ島) Polarimetric Parameter for Detection of Double-Bounce Scattering Dominated Areas
Junjun YinUniv. Science and Technology Beijing)・Jian YangTsinghua Univ.SANE2017-64
Target backscatter of electromagnetic waves can be character... [more] SANE2017-64
pp.7-12
SDM 2012-12-07
10:30
京都 京都大学(桂) 電子線照射によるSiCの正孔の各種散乱機構の変化
村田耕司森根達也松浦秀治阪電通大)・小野田 忍大島 武原子力機構SDM2012-117
Si (Silicon) に比べ,放射線耐性及び絶縁破壊電界が大きいSiC (Silicon Carbide) は,次世... [more] SDM2012-117
pp.13-18
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