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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2023-11-09
14:00
東京 機械振興会館 5階 5S-2 会議室
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]半導体ナノシートにおける表面ラフネス散乱の量子論に基づく数値解析
岡田 丈田中 一森 伸也阪大SDM2023-65
単一モード半導体ナノシートにおいて,表面ラフネス散乱で決まる平均自由行程を数値計算により求める手法を提案する.平均自由行... [more] SDM2023-65
pp.10-15
SDM 2023-06-26
10:10
広島 広島大学 ナノデバイス研究所 [記念講演]表面ラフネス散乱の非線形理論に基づく 極薄膜nMOSFETのチャネル材料と面方位の最適設計
隅田 圭姜 旼秀陳 家驄トープラサートポン カシディット竹中 充高木信一東大SDM2023-27
FinFETの次世代チャネルとしてCMOSに採用され始めているナノシートチャネルは, チャネルの極薄膜化により短チャネル... [more] SDM2023-27
pp.1-4
SDM 2022-11-10
11:00
ONLINE オンライン開催 [招待講演]表面ラフネス散乱の非線形理論に基づく極薄膜nMOSFETチャネル材料と面方位の最適設計
隅田 圭姜 旼秀陳 家驄トープラサートポン カシディット竹中 充高木信一東大SDM2022-65
将来のCMOSチャネルには極薄膜(ETB)のナノシート構造が最も有望視されている. また別の応用として, 量子コンピュー... [more] SDM2022-65
pp.7-12
SDM 2022-01-31
15:00
ONLINE オンライン開催 [招待講演]表面ラフネス散乱の新モデルに基づく極薄膜nMOSFETの最適なチャネル材料と面方位の設計
隅田 圭陳 家驄トープラサートポン カシディット竹中 充高木信一東大SDM2021-71
極薄膜(ETB)ナノシートチャネルは, 優れたスケーラビリティを理由に将来のテクノロジーノードにおけるチャネル構造として... [more] SDM2021-71
pp.12-15
PN, MWP, EMT, PEM
(共催)
IEE-EMT
(連催) [詳細]
2022-01-27
10:35
ONLINE オンライン開催 不規則表面からのミリ波帯散乱実験のモデル化
吉野理玖金谷智彦高田慎太郎実野邦久早大)・稲垣恵三NICT)・川西哲也早大PN2021-33 EMT2021-49 MWP2021-38
近年, 高速無線通信の実現に向けてミリ波帯やテラヘルツ帯の開発が注目を集めている. 一方で, これらの帯域の波長の短さに... [more] PN2021-33 EMT2021-49 MWP2021-38
pp.7-10
SANE 2021-11-11
14:30
ONLINE オンライン開催 Theoretical and Experimental Analysis of Terahertz Scattering from Rough Surfaces
Suyun WangTakayoshi YamadaNICT)・Kun-Shan ChenGuilin University of Technology)・Yasuko KasaiNICTSANE2021-38
In this paper, we explore the terahertz scattering from stat... [more] SANE2021-38
pp.36-39
SANE 2019-11-01
14:00
海外 韓国(済州島) Depolarization of Scattering From a Spatially Anisotropic Rough Surface With Inhomogeneous Dielectric Profile
Ying YangGLUT)・Kun-Shan ChenGuofei ShangZhao-Liang LiHebei GEO Univ.SANE2019-69
Abstract Depolarized response is an inherent feature of elec... [more] SANE2019-69
pp.107-111
SANE 2018-11-08
13:50
海外 中国(許昌市) L-band bistatic radar returns from bare soils: a simulation study for soil moisture retrieval using global sensitivity analysis method
Jiangyuan ZengKun-Shan ChenRADI/CASSANE2018-57
In this paper, an attempt is made to identify the optimal bi... [more] SANE2018-57
pp.11-16
AP 2018-03-09
14:50
群馬 ホテル一井(群馬・草津温泉) 物理光学法を用いた粗面散乱シミュレーション
三宅時生高田潤一東工大AP2017-204
次世代移動通信では高周波数帯が用いられるため,電波伝搬は粗面の散乱の影響を大きく受ける.本報では,有限サイズの粗面による... [more] AP2017-204
pp.69-73
ED, SDM
(共催)
2007-06-25
13:00
海外 Commodore Hotel Gyeongju Chosun, 慶州, 韓国 ホール効果測定による極薄SOIにおけるキャリア散乱要因の検討
吉岡裕典木本恒暢京大
極薄SOIを用いたMOSFETは次世代LSIの有望な候補である。しかしながら、SOIの膜厚が約10 nm以下になると、そ... [more]
SDM 2006-06-22
09:25
広島 広島大学, 学士会館 Si(110)基板上CMOSトランジスタ特性のGate酸化プロセス依存性
桧山 晋王 俊利加藤孝義平野智之田井香織岩元勇人ソニー
Si(110)基板上にCMOSトランジスタを形成し、正孔移動度のGate酸化プロセス依存性評価を行った。評価を行った酸化... [more] SDM2006-53
pp.65-69
LQE 2006-06-02
09:35
福井 福井大学 反射法と結像法の併用による表面凹凸のハイブリッド測定システム
上月具挙舒 芹福井大)・當間安厚北計工業)・菅 博広島国際大)・石川和彦福井高専)・桜井哲真上田正紘福井大
鏡面試料の表面うねりと粗面試料の表面粗さの両方を測定し得る光学的システムを開発した。システムは測定試料からの反射光を用い... [more] LQE2006-1
pp.1-6
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