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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM 2024-02-29
15:35
山形 山形大学工学部
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
パルスレーザー堆積法によるCaFeO3薄膜の作製と磁化特性評価
吉原大道車井健慎田村怜大岩田展幸日大CPM2023-111
新たに立ち上げた超高真空用パルスレーザー堆積装置を用いて, SrTiO3(STO)基板上にCaFeOx(CFO)薄膜を成... [more] CPM2023-111
pp.62-64
CPM 2023-08-01
09:45
北海道 北見工業大学
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
3°オフ角Si(110)基板上へのSiC/AlN多層構造の作製およびグラフェンの形成
齋藤遼佑奈良友奎葛西大希郡山春人遠田義晴中澤日出樹弘前大CPM2023-19
3 ̊オフ角Si(110)基板上にパルスレーザーアブレーション(PLD)法によりAlN薄膜を作製し、AlN上にモノメチル... [more] CPM2023-19
pp.29-32
CPM 2019-08-26
15:50
北海道 北見工業大学 1号館2F A-207講義室 オフ角Si(110)基板上AlN層の形成とその上へのSiCヘテロエピタキシャル成長
中澤日出樹奈良友奎葛西大希弘前大CPM2019-42
これまで、AlN/Si基板上にSiC低温バッファ層を形成しその上にSiC薄膜を成長させた後、高温加熱を施すことでグラフェ... [more] CPM2019-42
pp.23-28
CPM 2018-08-09
14:50
青森 弘前大学文京町地区キャンパス SiC/AlN/Si(110)基板上グラフェンの成長
中澤日出樹成田舜基奈良友奎遠田義晴弘前大CPM2018-9
3ºオフ角を有するSi(110)基板上に、レーザーアブレーション法を用いて様々な成長条件でAlN薄膜を作製した結果、レー... [more] CPM2018-9
pp.7-12
CPM 2018-08-09
15:10
青森 弘前大学文京町地区キャンパス SiC/SiCバッファ層/AlN/Si(110)多層構造におけるSiCバッファ層形成条件の検討
奈良友奎工藤あさひ中澤日出樹弘前大CPM2018-10
AlNターゲットを用いたレーザーアブレーション法により3ºオフ角Si(110)基板上にAlN層を成長させ、AlN層上にモ... [more] CPM2018-10
pp.13-16
R, EMD, CPM, LQE, OPE
(共催)
2017-08-31
13:55
青森 弘前文化センター レーザーアブレーション法によるSiCバッファ層を用いたAlN/Si(110)基板上へのSiCエピタキシャル成長
奈良友奎成田舜基中澤日出樹弘前大R2017-25 EMD2017-19 CPM2017-40 OPE2017-49 LQE2017-22
AlNターゲットを用いたレーザーアブレーション法により3°オフ角Si(110)基板上にAlN層を成長させ、AlN層上にモ... [more] R2017-25 EMD2017-19 CPM2017-40 OPE2017-49 LQE2017-22
pp.7-10
CPM 2015-08-10
13:20
青森 弘前大学 文京町地区キャンパス 総合教育棟 レーザーアブレーション法によるAlN/Si(110)基板上SiC薄膜の作製と評価
目黒一煕成田舜基・○中澤日出樹弘前大CPM2015-31
AlN/Si(110)基板上にSiC低温バッファ層を形成後、その層上にレーザーアブレーション法により基板温度およびレーザ... [more] CPM2015-31
pp.1-5
CPM 2015-08-10
14:00
青森 弘前大学 文京町地区キャンパス 総合教育棟 レーザーアブレーション法によるAlN/Si(110)基板上へのSiC成長
成田舜基目黒一煕中澤日出樹弘前大CPM2015-33
AlNターゲットを用いたレーザーアブレーション法によりSi(110)基板上にAlN層を形成し、結晶性および表面モフォロジ... [more] CPM2015-33
pp.11-14
CPM 2014-09-04
13:55
山形 山形大学工学部百年周年記念会館 セミナールーム1,2,3 オフ角Si(001)基板上に形成したAlN層上へのSiCヘテロエピタキシャル成長
目黒一熙成田次理上村駿洋中澤日出樹弘前大CPM2014-76
4ºオフ角Si(100)基板およびSi(110)基板上に、窒化アルミニウム(AlN)ターゲットを用いたレーザーアブレーシ... [more] CPM2014-76
pp.7-12
OME, EMD, CPM
(共催)
2014-06-20
14:40
東京 機械振興会館 Bi系ペロブスカイト型酸化物人工超格子の磁気的-電気的特性
渡部雄太及川貴大稲葉隆哲大島佳祐高瀬浩一橋本拓也山本 寛岩田展幸日大EMD2014-18 CPM2014-38 OME2014-26
パルスレーザー堆積(Pulsed laser deposition : PLD)法により、Bi系ペロブスカイト型酸化物人... [more] EMD2014-18 CPM2014-38 OME2014-26
pp.55-60
CPM 2013-10-24
14:20
新潟 新潟大ときめいと パルスレーザー堆積法によるBi系フェライトを用いた人工超格子の作製
岩田展幸渡部雄太及川貴大稲葉隆哲大島佳祐山本 寛日大CPM2013-95
Bi系フェライトを含む酸化物人工超格子をパルスレーザー堆積(PLD)法にて作製した。[ABO3(A=La, Ca, B=... [more] CPM2013-95
pp.13-18
CPM 2011-08-10
13:00
青森 弘前大学 文京町キャンパス レーザーアブレーション法によるAlN成長のSi基板面方位依存性
鈴木大樹熊谷知貴中澤日出樹弘前大CPM2011-56
KrFエキシマーレーザーおよび窒化アルミニウム(AlN)ターゲットを用いたレーザーアブレーション法によりSi(100)基... [more] CPM2011-56
pp.1-6
OPE 2010-12-17
15:35
東京 機械振興会館地下3階2号室 PLD法によるSi基板上へのErxY2-XSiO5結晶薄膜作製
岩谷賢治一色秀夫電通大OPE2010-137
パルス・レーザー堆積(PLD)法をもちいてErxY2-xSiO5結晶の作製を行った。結晶構造、PL微細構造は組成によらず... [more] OPE2010-137
pp.31-35
CPM 2010-07-30
10:20
北海道 道の駅しゃり 会議室 レーザーアブレーション法によるSi基板上AlN薄膜の形成
中澤日出樹鈴木大樹遲澤遼一岡本 浩弘前大CPM2010-38
KrFエキシマレーザーおよび窒化アルミニウム(AlN)ターゲットを用いたレーザーアブレーション法によりSi基板上にAlN... [more] CPM2010-38
pp.39-44
ITE-MMS, MRIS
(共催)
2010-03-12
16:20
愛知 名古屋大学 強磁性La2NiMnO6トンネルバリアを用いたスピンフィルター効果の評価
桂木敏文宮崎悠也志治佑一田中雅章壬生 攻名工大)・近藤浩太京大)・葛西伸哉物質・材料研究機構)・小野輝男京大MR2009-65
強磁性絶縁体La2NiMnO6のスピンフィルター効果を検証するために,SrTiO3基板上にLa0.7Sr0.3MnO3(... [more] MR2009-65
pp.39-43
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