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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ED, THz
(共催)
2021-12-21
10:20
宮城 東北大学・電気通信研究所
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
エピスケーリングを施したGaInSb-HEMTの特性評価と遅延時間解析
礒前雄人岸本尚之林 拓也國澤宗真東京理科大)・渡邊一世山下良美町田龍人原 紳介笠松章史NICT)・○遠藤 聡藤代博記東京理科大ED2021-57
我々は3種類のAl0.40In0.60Sb/Ga0.22In0.78Sb-HEMTを作製した.これらのHEMTエピタキシ... [more] ED2021-57
pp.44-47
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2021-10-08
15:35
ONLINE オンライン開催 Pt/Co/CoO/アモルファスTiOx構造における電圧誘起保磁力変化
野崎友大田丸慎吾甲野藤 真野﨑隆行久保田 均福島章雄湯浅新治産総研MRIS2021-9
近年、磁気抵抗メモリ(MRAM)にも適用可能な低消費電力な書き込みの手段として、電圧による磁気異方性制御(VCMA)効果... [more] MRIS2021-9
pp.13-16
CPM 2020-10-29
14:30
ONLINE オンライン開催 ステアリング結晶を形成した多結晶Si基板上へのInNナノ柱状結晶の成長
薛 後耀白石孝輝飯塚洋介谷口真悟齋藤 宇齋藤 翼佐藤祐一秋田大CPM2020-15
低コスト太陽電池の形成に広く用いられている多結晶Siを基板としてInNナノ柱状結晶を形成した.その際,結晶の配向性を整え... [more] CPM2020-15
pp.15-18
OPE, LQE, OCS
(共催)
2015-10-30
11:15
大分 別府国際コンベンションセンター InP(001)微傾斜基板上における多重積層InAs量子ドットレーザの諸特性
赤羽浩一梅沢俊匡松本 敦山本直克NICTOCS2015-73 OPE2015-123 LQE2015-92
これまでに我々はInP(001)微傾斜基板上において歪補償法を用いた自己組織化InAs量子ドットの多重積層構造の形成を行... [more] OCS2015-73 OPE2015-123 LQE2015-92
pp.159-162
LQE, LSJ
(共催)
2014-05-23
13:15
福井 福井大学文京キャンパス 正弦波組成プロファイルをもつAlGaAs分布型ブラッグ反射鏡
真鍋直樹下村 哲愛媛大LQE2014-13
分子線エピタキシー装置を用いてAl組成が正弦関数様に変化するAlGaAs分布型ブラッグ反射器(DBR)を作製した。計算で... [more] LQE2014-13
pp.57-60
SDM 2013-06-18
13:35
東京 機械振興会館 Si基板上への鉄酸化物ナノドットのエピタキシャル成長とその電子状態測定
石部貴史中村芳明・○松井秀紀竹内正太郎酒井 朗阪大SDM2013-54
Si基板上鉄酸化物薄膜は、安価で環境低負荷な抵抗変化型メモリ(ReRAM)材料として期待されている。しかし、ON/OFF... [more] SDM2013-54
pp.51-55
SDM, ED
(共催)
2013-02-27
16:55
北海道 北海道大学(百年記念会館) Si基板上に直接成長した極薄InSb膜をチャネルとしたAl2O3/InSb MOSFET
前澤宏一伊藤泰平角田 梓中山幸二安井雄一郎森 雅之富山大)・宮崎英志水谷 孝名大ED2012-135 SDM2012-164
表面再構成制御エピタキシー法を用いてSi(111) 基板上に直接成長した6-25 nm のInSb 薄膜をチャネルとして... [more] ED2012-135 SDM2012-164
pp.39-42
LQE 2012-12-13
09:35
東京 機械振興会館 高速MBE成長法による19層積層InGaAs/GaAs量子ドットレーザの利得評価
田之上文彦首都大東京/NICT)・菅原宏治首都大東京)・赤羽浩一山本直克NICTLQE2012-121
高速分子線エピタキシ(MBE)成長技術を用いて,共振器長100~600$ \mu $mの19層積層InGaAs量子ドット... [more] LQE2012-121
pp.1-4
ED, LQE, CPM
(共催)
2012-11-30
11:00
大阪 大阪市立大学 Mg共添加GaN:Euを活性層とした赤色発光ダイオードの作製
大谷龍輝関口寛人豊橋技科大)・高木康文浜松ホトニクス)・岡田 浩若原昭浩豊橋技科大ED2012-80 CPM2012-137 LQE2012-108
希土類添加半導体は発光線幅が狭く,温度消光が小さいといった優れた発光特性を有するため,次世代発光デバイスとして注目されて... [more] ED2012-80 CPM2012-137 LQE2012-108
pp.65-70
ED, SDM, CPM
(共催)
2012-05-17
13:40
愛知 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 高温成長によるGaAsN混晶の結晶性向上
深見太志浦上法之関口寛人岡田 浩若原昭浩豊橋技科大ED2012-18 CPM2012-2 SDM2012-20
Si上発光デバイスの活性層材料としてGaAsN混晶は有望である。460°Cで成長した試料に比べ、600°Cで成長したGa... [more] ED2012-18 CPM2012-2 SDM2012-20
pp.7-10
LQE 2011-12-16
13:10
東京 機械振興会館 [奨励講演]光励起によるGaAs1-xBix/GaAs薄膜のファブリ・ペローレーザ発振 ~ その発振波長の低温度依存性 ~
富永依里子尾江邦重吉本昌広京都工繊大LQE2011-127
光励起によるGaAs0.975Bi0.025/GaAsファブリ・ペロー共振器付き薄膜からのレーザ発振を実現した。GaAs... [more] LQE2011-127
pp.21-24
LQE, ED, CPM
(共催)
2011-11-17
10:05
京都 京都大学桂キャンパス 桂ホール 分子線エピタキシ法による6H-SiC(0001)基板上へのAlN/GaN短周期超格子のコヒーレント成長
菊地諒介奥村宏典木本恒暢須田 淳京大ED2011-73 CPM2011-122 LQE2011-96
本研究室ではこれまで、SiC基板のステップ高さ制御、AlN層成長直前のGa先行照射を行い、窒素プラズマ点灯と同時に成長を... [more] ED2011-73 CPM2011-122 LQE2011-96
pp.1-4
LQE, ED, CPM
(共催)
2011-11-18
10:45
京都 京都大学桂キャンパス 桂ホール GaN:EuへのMg共ドーピングによる発光特性への影響
関口寛人豊橋技科大)・高木康文浜松ホトニクス)・大谷龍輝岡田 浩若原昭浩豊橋技科大ED2011-91 CPM2011-140 LQE2011-114
希土類添加半導体は発光線幅が狭く温度消光が小さいなどの優れた発光特性を有するため,次世代発光デバイス材料として注目されて... [more] ED2011-91 CPM2011-140 LQE2011-114
pp.93-97
ED 2011-07-30
13:30
新潟 長岡技術科学大学マルチメディアシステムセンター Sbテンプレートを使用したSi(111)面上GaSb薄膜の作製とその評価
豊田英之岡部晃也神保良夫内富直隆長岡技科大ED2011-54
本研究では、分子線エピタキシー法(MBE)によるSi(111)面上GaSb薄膜の作製とその評価を行った。Si-GaSb間... [more] ED2011-54
pp.85-89
CPM, SDM, ED
(共催)
2011-05-19
14:15
愛知 名古屋大学 VBL BGaPの分子線エピタキシー成長
浦上法之深見太志関口寛人岡田 浩若原昭浩豊橋技科大ED2011-11 CPM2011-18 SDM2011-24
Si基板上歪量子井戸レーザ用の歪補償層への応用に向けて、希薄BGaP層の分子線エピタキシャル成長を検討した。BGaP層の... [more] ED2011-11 CPM2011-18 SDM2011-24
pp.55-58
LQE 2010-12-17
15:25
東京 機械振興会館 光励起によるGaAs1-xBix/GaAs薄膜のファブリ・ペローレーザ発振 ~ その発振波長の低温度依存性 ~
富永依里子尾江邦重吉本昌広京都工繊大LQE2010-124
光励起によるGaAs0.975Bi0.025/GaAsファブリ・ペロー共振器付き薄膜からのレーザ発振を実現した。GaAs... [more] LQE2010-124
pp.47-50
ED, LQE, CPM
(共催)
2009-11-19
11:15
徳島 徳島大学(常三島キャンパス・工業会館) RF-MBE法における新規高品質InN結晶成長手法の提案とInGaN結晶成長への応用
山口智広立命館大)・名西やすし立命館大/ソウル国立大ED2009-133 CPM2009-107 LQE2009-112
InN成長のための新しいRF-MBE(radio-frequency plasma-assisted molecular... [more] ED2009-133 CPM2009-107 LQE2009-112
pp.25-29
LQE, ED, CPM
(共催)
2008-11-27
09:30
愛知 名古屋工業大学 RF-MBE法を用いたTiマスク選択成長による規則配列InGaN/GaNナノコラムの作製
関口寛人菊池昭彦岸野克巳上智大ED2008-152 CPM2008-101 LQE2008-96
GaNナノコラムは結晶中に貫通転位を含まず優れた発光特性を有する。我々は可視全域で発光するInGaN/GaN量子井戸ナノ... [more] ED2008-152 CPM2008-101 LQE2008-96
pp.1-6
EMT, LQE, OPE, PN
(共催)
2008-01-29
09:55
大阪 大阪電気通信大学 分子線エピタキシー法によるGaAs1-xBix/GaAs多重量子井戸構造の製作
木下雄介富永依里子尾江邦重吉本昌広京都工繊大PN2007-56 OPE2007-164 LQE2007-142
温度無依存発振波長を持つ新規半導体レーザ製作に向けて、GaAs基板上にGaAs1-xBix/GaAs多重量子井戸(MQW... [more] PN2007-56 OPE2007-164 LQE2007-142
pp.107-110
CPM 2007-11-17
15:30
新潟 長岡技術科学大学 Si基板上に成長したGaSb/AlGaSb多重量子井戸構造の評価
豊田英之安田武史藤江周作長岡技科大)・中村新一青学大)・神保良夫内富直隆長岡技科大CPM2007-127
本研究では、分子線エピタキシー法(MBE)によるSi基板上へのGaSb/AlGaSb多重量
子井戸構造(MQW)の作製... [more]
CPM2007-127
pp.115-119
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