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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
HWS, VLD
(共催) [詳細]
2020-03-04
16:00
沖縄 沖縄県青年会館
(開催中止,技報発行あり)
ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法
東 梨奈小平行秀会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2019-105 HWS2019-78
製造プロセスの微細化のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する... [more] VLD2019-105 HWS2019-78
pp.65-70
HWS, VLD
(共催) [詳細]
2020-03-04
16:50
沖縄 沖縄県青年会館
(開催中止,技報発行あり)
リソグラフィホットスポット検出用既存訓練データの修正による訓練データの追加生成
片岡 岳稲木雅人永山 忍若林真一広島市大VLD2019-107 HWS2019-80
半導体製造工程のリソグラフィにおいて発生する,異常な短絡や開放を引き起こす確率の高い回路パターンをホットスポットと呼ぶ.... [more] VLD2019-107 HWS2019-80
pp.77-82
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB
(連催)
CPSY, IPSJ-ARC
(連催)
ICD, IE
(共催)
RECONF
(併催) [詳細]
2019-11-15
15:45
愛媛 愛媛県男女共同参画センター 配線幅および配線間距離を考慮した特徴量によるリソグラフィホットスポット検出
片岡 岳稲木雅人永山 忍若林真一広島市大VLD2019-51 DC2019-75
半導体製造工程の一つであるリソグラフィにおいて発生する,異常な短絡や開放を引き起こす確率の高い回路パターンのことをホット... [more] VLD2019-51 DC2019-75
pp.185-190
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB
(連催)
CPSY, IPSJ-ARC
(連催)
CPM, ICD, IE
(共催)
RECONF
(併催) [詳細]
2018-12-07
14:10
広島 サテライトキャンパスひろしま 0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法
東 梨奈小平行秀会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮野嶋茂樹東芝メモリVLD2018-70 DC2018-56
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のため,光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている.光リソグ... [more] VLD2018-70 DC2018-56
pp.209-214
VLD, IPSJ-SLDM
(連催)
2018-05-16
15:50
福岡 北九州国際会議場 マスク最適化のための2次計画法を用いたピクセルベースOPC手法
東 梨奈小平行秀会津大VLD2018-3
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている.光リソ... [more] VLD2018-3
pp.31-36
SDM, EID
(共催)
2017-12-22
10:30
京都 京都大学 薄型結晶シリコン太陽電池に向けたナノインプリントテクスチャの光閉じ込め効果
中井雄也石河泰明浦岡行治奈良先端大EID2017-11 SDM2017-72
薄型結晶シリコン太陽電池の実現には光吸収層内での光り閉じ込め効果が重要であり,光の多重反射を目的としたテクスチャを形成す... [more] EID2017-11 SDM2017-72
pp.1-4
VLD, DC
(共催)
CPM, ICD, IE
(共催)
CPSY, RECONF
(併催) [詳細]
2016-11-29
10:30
大阪 立命館大学大阪いばらきキャンパス ディープラーニングを用いたリソグラフィシミュレーションモデルの高精度化
渡辺友希松縄哲明木村泰己野嶋茂樹東芝VLD2016-56 DC2016-50
微細な半導体パターンを製造するにあたり,リソグラフィシミュレーションは必要不可欠な技術となっている.高精度なシミュレーシ... [more] VLD2016-56 DC2016-50
pp.73-78
VLD 2015-03-02
13:00
沖縄 沖縄県青年会館 A Fast Lithographic Mask Correction Algorithm
Ahmd AwadAtsushi TakahashiTokyo Institute of TechnologyVLD2014-153
As technology nodes downscaling into sub-16 nm regime, the i... [more] VLD2014-153
pp.1-6
ED 2011-10-20
16:45
青森 八戸ポータルミュージアム はっち マイクロサイズ電子線筐筒用の電子銃部に関する研究
藤野高弘小池昭史静岡大)・長尾昌善吉田知也西 季産総研)・村田英一酒井健太郎名城大)・根尾陽一郎青木 徹三村秀典静岡大ED2011-65
我々研究グループは電子源と電子光学系を半導体加工技術により同一基板内に作製したマイクロサイズの電子線筐筒(マイクロカラム... [more] ED2011-65
pp.27-32
SDM, ED
(共催)
2009-02-26
15:40
北海道 北海道大学 Field Emitter Arrayの高機能化とその応用
根尾陽一郎武田匡史田上智也堀江 瞬青木 徹三村秀典静岡大)・吉田知也長尾昌善金丸正剛産総研ED2008-228 SDM2008-220
我々は電界放射微小電子源(Field Emission Array: FEA)に従来にない構造の集束電極を付加することで... [more] ED2008-228 SDM2008-220
pp.23-27
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