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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM, OME
(共催)
2023-04-22
10:05
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
Neを用いてガラス上にスパッタ堆積したInSb膜のRTAによる結晶化
岡田竜弥チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー琉球大)・梶原隆司佐道泰造九大)・野口 隆琉球大SDM2023-8 OME2023-8
安価な絶縁基板上への高結晶性InSb膜の形成に向けて、ArガスおよびNeガスを用いたRFスパッタリング法により製膜したI... [more] SDM2023-8 OME2023-8
pp.30-31
SDM, OME
(共催)
2023-04-22
10:30
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
スパッタ堆積InSb薄膜/ガラス基板の急速熱処理法による結晶成長
梶原隆司九大)・岡田竜弥チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー野口 隆琉球大)・佐道泰造九大SDM2023-9 OME2023-9
高移動度InSb薄膜の低コストな形成プロセスの創出を目指し、ガラス基板上へArプラズマを用いてスパッタ成膜したInSb膜... [more] SDM2023-9 OME2023-9
pp.32-33
EST 2022-01-28
15:10
ONLINE オンライン開催 テラヘルツ帯における誘電体基板上のInSb球配列のFDTD解析
黒田匠真柴山 純山内潤治中野久松法政大EST2021-92
誘電体基板上に半導体のアンチモン化インジウム(InSb)球を配置した周期構造の解析を3次元FDTD法を用いてテラヘルツ(... [more] EST2021-92
pp.173-177
ED, THz
(共催)
2021-12-21
10:20
宮城 東北大学・電気通信研究所
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
エピスケーリングを施したGaInSb-HEMTの特性評価と遅延時間解析
礒前雄人岸本尚之林 拓也國澤宗真東京理科大)・渡邊一世山下良美町田龍人原 紳介笠松章史NICT)・○遠藤 聡藤代博記東京理科大ED2021-57
我々は3種類のAl0.40In0.60Sb/Ga0.22In0.78Sb-HEMTを作製した.これらのHEMTエピタキシ... [more] ED2021-57
pp.44-47
EST 2020-01-31
13:25
大分 別府国際コンベンションセンター(小会議室31) THz帯で動作するハイブリッドプラズモニック導波路を用いた偏波分割器
山本新大柴山 純山内潤治中野久松法政大EST2019-96
テラヘルツ帯におけるハイブリッドプラズモニック導波路(HPW)と誘電体導波路(DW)から構成される偏波分割器を提案する.... [more] EST2019-96
pp.85-89
EST 2020-01-31
13:50
大分 別府国際コンベンションセンター(小会議室31) InSb素子を用いたTHzセンサの比較検討
中野 純柴山 純山内潤治中野久松法政大EST2019-97
半導体のアンチモン化インジウム(InSb)を用いたテラヘルツ(THz)センサの比較検討を行う.クロスダイポール型,ディス... [more] EST2019-97
pp.91-96
EST 2020-01-31
14:15
大分 別府国際コンベンションセンター(小会議室31) テラヘルツ帯におけるTE透過/TM除去導波路型偏光子の解析
髙橋澄玲柴山 純山内潤治中野久松法政大EST2019-98
誘電体導波路に半導体層を装荷したテラヘルツ帯におけるTE透過/TM除去導波路型偏光子を提案する. はじめに,2次元偏光子... [more] EST2019-98
pp.97-102
ED, THz
(共催) [詳細]
2019-12-23
16:45
宮城 東北大学・電気通信研究所 歪みAl0.40In0.60Sb/Al0.25In0.75Sbステップバッファを用いたGaInSb n-チャネルHEMT
大澤幸希岩木拓也遠藤勇輝平岡瑞穂岸本尚之林 拓也東京理科大)・渡邊一世NICT/東京理科大)・山下良美原 紳介後藤高寛笠松章史NICT)・遠藤 聡藤代博記東京理科大ED2019-83
我々は,世界初となるGaInSb n-チャネルHEMTの作製に成功し,これらのHEMTの特性を評価した.我々が以前に作製... [more] ED2019-83
pp.29-32
EST 2018-09-06
15:15
沖縄 久米島イーフ情報プラザ(沖縄県久米島町) 試料槽を設けたテラヘルツ表面プラズモン共鳴導波路型センサの特性評価
吉原 啓柴山 純山内潤治中野久松法政大EST2018-49
試料槽を設けたTHz帯における表面プラズモン共鳴(SPR)センサの特性を性能指数を用いることで定量的に評価する. まず,... [more] EST2018-49
pp.35-39
ED, THz
(共催)
2017-12-19
09:00
宮城 東北大通研ナノ・スピン棟 [招待講演]アンチモン系トランジスタの開発
藤代博記磯野恭佑高橋択斗原田義彬岡 直希竹内 淳藤澤由衣東京理科大)・藤川紗千恵東京電機大)・町田龍人東京理科大)・渡邊一世山下良美遠藤 聡原 紳介笠松章史NICTED2017-81
量子補正モンテカルロ法を用いた解析により,InSb HEMTは電子有効質量m*が小さいために電子移動度μと電子速度vdが... [more] ED2017-81
pp.33-36
OPE, EST, LQE, EMT, PN, MWP
(共催)
IEE-EMT
(連催) [詳細]
2017-01-18
15:30
三重 伊勢市観光文化会館 試料槽を設けたテラヘルツ表面プラズモン共鳴導波路型センサの特性改善
清水圭介柴山 純山内潤治中野久松法政大PN2016-50 EMT2016-79 OPE2016-125 LQE2016-114 EST2016-89 MWP2016-63
試料槽を設けたTHz帯における表面プラズモン共鳴導波路型センサの特性改善を,特に導波構造に注目しながら行う.まず,2次元... [more] PN2016-50 EMT2016-79 OPE2016-125 LQE2016-114 EST2016-89 MWP2016-63
pp.51-56
ED 2016-07-23
15:55
東京 首都大学東京 南大沢キャンパス 国際交流会館 大会議室 Ge(111)基板上へのInSb薄膜のエピタキシャル成長
三枝孝彰森 雅之前澤宏一富山大ED2016-31
近年、Siを用いた半導体デバイスの微細化による性能向上が限界に達しつつある。そこで我々は、超高速、低消費電力デバイスへの... [more] ED2016-31
pp.21-24
LQE, EST, OPE, EMT, PN, MWP
(共催)
IEE-EMT, PEM
(連催) ※学会内は併催 [詳細]
2016-01-28
09:55
兵庫 神戸市産業振興センター InSbグレーティングによるテラヘルツフィルタのFDTD解析
柴山 純・○梅澤 涼山内潤治中野久松法政大PN2015-61 EMT2015-112 OPE2015-174 LQE2015-161 EST2015-118 MWP2015-87
InSbグレーティングによる局在表面プラズモン共鳴を利用したTHzフィルタの透過特性を検討する.まず,先行研究で用いられ... [more] PN2015-61 EMT2015-112 OPE2015-174 LQE2015-161 EST2015-118 MWP2015-87
pp.169-174
ED 2015-07-25
11:05
石川 ITビジネスプラザ武蔵研修室1(金沢市武蔵町) AlInSbステップバッファ層を用いたInSb量子井戸歪緩和構造の電子輸送特性
竹鶴達哉藤川紗千恵原田義彬鈴木浩基磯野恭佑加藤三四郎辻 大介藤代博記東京理科大ED2015-45
MBE法を用いて成長させたGaAs (100) 基板上InSb量子井戸構造の電子輸送特性向上のため、新たなAlInSbバ... [more] ED2015-45
pp.45-49
EST 2015-05-15
09:30
東京 法政大学 小金井キャンパス テラヘルツ帯における表面プラズモン共鳴導波路型センサの数値解析
柴山 純・○清水圭介山内潤治中野久松法政大EST2015-1
InSb をセンシング部に採用した, テラヘルツ帯での表面プラズモン共鳴(SPR) 導波路型センサを提案する. まず, ... [more] EST2015-1
pp.1-6
ED 2014-08-01
11:45
東京 機械振興会館B3-1室 貫通転位がInSb HEMT のデバイス特性に与える影響の解析
初芝正太長井彰平藤川紗千恵東京理科大)・原 紳介遠藤 聡渡邊一世笠松章史NICT)・藤代博記東京理科大ED2014-55
転位散乱がInSb HEMTのデバイス特性に与える影響を解析するため,量子補正モンテカ
ルロ(QC-MC)シミュレータ... [more]
ED2014-55
pp.13-18
ED 2013-08-09
11:20
富山 富山大学工学部 大会議室 Si(111)上へのSb再構成構造を利用したInSbの選択成長
王 シン森 雅之前澤宏一富山大ED2013-49
最近、ナノワイヤートランジスタ(NW-FETs)、FinFETsなどの立体構造デバイスの研究が盛んに行われている。過去の... [more] ED2013-49
pp.61-65
SDM, ED
(共催)
2013-02-27
16:55
北海道 北海道大学(百年記念会館) Si基板上に直接成長した極薄InSb膜をチャネルとしたAl2O3/InSb MOSFET
前澤宏一伊藤泰平角田 梓中山幸二安井雄一郎森 雅之富山大)・宮崎英志水谷 孝名大ED2012-135 SDM2012-164
表面再構成制御エピタキシー法を用いてSi(111) 基板上に直接成長した6-25 nm のInSb 薄膜をチャネルとして... [more] ED2012-135 SDM2012-164
pp.39-42
ED 2012-07-27
09:30
福井 福井大学 文京キャンパス産学官連携本部3F研修室 量子補正モンテカルロ法による歪みInSb HEMTの遅延時間解析
永井佑太郎佐藤 純原 紳介藤代博記東京理科大)・遠藤 聡渡邊一世NICTED2012-48
InSbの歪みバンド構造を計算し,量子補正モンテカルロ法を用いてInSb HEMTの特性を解析した.またInAs HEM... [more] ED2012-48
pp.37-42
ED 2011-07-30
13:55
新潟 長岡技術科学大学マルチメディアシステムセンター 表面再構成制御成長法で成長したSi(111)基板上のInSb MOSダイオードの作製
角田 梓岩杉達矢中谷公彦中山幸二森 雅之前澤宏一富山大ED2011-55
我々はこれまでに、Si(111)基板上に1原子層程度のIn及びSb原子を吸着させることにより形成されるInSb単分子層を... [more] ED2011-55
pp.91-96
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