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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| ICD, SDM (共催) ITE-IST (連催) [詳細] |
2022-08-08 11:45 |
ONLINE | オンライン開催に変更 現地開催(北海道大学百年記念会館)は中止 | ［招待講演］3次元フラッシュメモリの高ビット密度を実現する半円型ゲート分断構造セルの構造及び動作の最適化検討 ○諸岡 哲・石川貴之・小村政則・加藤竜也・小山幸紀・韓 業飛・菅原陽平・桑原大輔・新屋敷悠介・村山昭之・西山勝哉・杉前紀久子・小倉達郎・竹田 裕・刈谷奈由太・合木悠佑・小沼将大・神谷優太・山下博幸・滋賀秀裕・板垣清太郎・田中里英子・前田高志・大谷紀雄・藤原 実（キオクシア）  SDM2022-36 ICD2022-4 |
3次元フラッシュメモリのセルサイズを縮小し、少ない層数で高いビット密度を実現する技術として期待されているゲート分断構造セ... [more] | SDM2022-36 ICD2022-4 p.12 |
| OME | 2022-01-07 14:05 |
大阪 | 中央電気俱楽部 ２１３号室 | nチャネル高分子トランジスタを用いた有機フローティングゲートメモリのデバイス特性 ○西田直之・服部励太郎・永瀬 隆・安達天規・森川和慶・小林隆史・内藤裕義（阪府大） OME2021-48 |
高分子半導体をチャネルとするトップゲート有機電界効果トランジスタ (有機FET) に高分子絶縁体 (PMMA) と可溶性... [more] | OME2021-48 pp.4-8 |
| SDM | 2021-10-21 13:00 |
ONLINE | オンライン開催 | A study on Ar/N2-plasma sputtering gas pressure dependence on the LaBxNy insulator formation for non-volatile memory applications ○Eun-Ki Hong・Shun-ichiro Ohmi（Tokyo Tech.） SDM2021-46 |
[more] | SDM2021-46 pp.8-11 |
| NS, CQ, ICM, NV (併催) |
2013-11-14 13:45 |
長崎 | 福江文化会館(五島列島) | 特定エリア内における情報共有の配信制御方式 ○小倉一峰・山崎康広・藤田範人（NEC） CQ2013-53 |
近年、災害時などの情報共有手段として、ネットワークの切断が断続的に発生する不安定なネットワークにおいても情報伝達が可能な... [more] | CQ2013-53 pp.13-17 |
| SDM | 2012-06-21 09:40 |
愛知 | 名古屋大学（ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー） | Si量子ドット/NiSiナノドットハイブリッド積層フローティングゲートMOS構造における光励起キャリア移動 ○池田弥央（広島大）・牧原克典・宮崎誠一（名大） SDM2012-45 |
シリコン量子ドット(Si-QDs)とNiSiナノドット(NDs)のハイブリッド積層構造をフローティングゲート(FG)にし... [more] | SDM2012-45 pp.13-16 |
| SDM | 2012-06-21 10:00 |
愛知 | 名古屋大学（ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー） | リステリアDpsを利用したナノドット型フローティングゲートメモリの作製 ○上武央季（奈良先端大/JST）・小原孝介（奈良先端大）・上沼睦典・鄭 彬・石河泰明（奈良先端大/JST）・山下一郎（奈良先端大/JST/パナソニック）・浦岡行治（奈良先端大/JST） SDM2012-46 |
フラッシュメモリの記憶デバイスにあたるフローティングゲートメモリの中でも，電荷保持層がナノドットの二次元配列であるナノド... [more] | SDM2012-46 pp.17-21 |
| ED, SDM (共催) |
2010-07-02 16:05 |
東京 | 東工大 大岡山キャンパス | The optimum physical targets of the 3-dimensional vertical FG NAND flash memory cell arrays with the extended sidewall control gate (ESCG) structure ○Moon-Sik Seo（Tohoku Univ.）・Tetsuo Endoh（Tohoku Univ./JST） ED2010-101 SDM2010-102 |
Recently, the 3-dimensional vertical Floating Gate (FG) NAND... [more] | ED2010-101 SDM2010-102 pp.225-230 |
| ED, SDM (共催) |
2010-07-02 16:15 |
東京 | 東工大 大岡山キャンパス | Study on Collective Electron Motion in Si-Nano Dot Floating Gate MOS Capacitor ○Masakazu Muraguchi（Tohoku Univ.）・Yoko Sakurai・Yukihiro Takada・Shintaro Nomura・Kenji Shiraishi（Univ. of Tsukuba.）・Mitsuhisa Ikeda・Katsunori Makihara・Seiichi Miyazaki（Hiroshima Univ.）・Yasuteru Shigeta（Univ. of Hyogo）・Tetsuo Endoh（Tohoku Univ.） ED2010-122 SDM2010-123 |
The efficiency and stability of electron injection from the ... [more] | ED2010-122 SDM2010-123 pp.319-324 |
| OME | 2010-01-12 10:30 |
東京 | 機械振興会館 | 自己組織化単分子膜を用いた有機不揮発性メモリの作製と閾値制御 ○中川 隆・横田知之・関谷 毅・竹内 健（東大）・Ute Zschieschang・Hagen Klauk（MPI）・染谷隆夫（東大） OME2009-67 |
自己組織化単分子膜(SAM)を絶縁層に用いることで，低電圧駆動フローティング（浮遊）ゲート型有機メモリトランジスタを作製... [more] | OME2009-67 pp.7-11 |
| SDM | 2009-06-19 16:00 |
東京 | 東京大学（生産研An棟） | High-k膜を利用したバイオ系ドット型フローティングゲートメモリ ○小原孝介・山下一郎（奈良先端大）・八重樫利武・茂庭昌弘・吉丸正樹（半導体理工学研究センター）・浦岡行治（奈良先端大/JST） SDM2009-40 |
我々は生体由来の球殻タンパク質(フェリチン)を利用したドット型フローティングゲートメモリの実現を目指した研究を行っている... [more] | SDM2009-40 pp.77-80 |
| SDM, ED (共催) |
2008-07-10 09:00 |
北海道 | かでる２・７（札幌） | リモート水素プラズマ支援によるPdナノドット形成とフローティングゲートMOSメモリ応用 ○島ノ江和広・牧原克典・池田弥央・宮崎誠一（広島大） ED2008-54 SDM2008-73 |
We have studied the formation of Pd-nanodots on SiO2 from ul... [more] | ED2008-54 SDM2008-73 pp.77-80 |
| SDM | 2008-06-10 14:35 |
東京 | 東京大学(生産研 An棟) | High-k膜を利用したバイオ系ドット型フローティングゲートメモリ ○小原孝介・浦岡行治・冬木 隆・山下一郎（奈良先端大）・八重樫利武・茂庭昌弘・吉丸正樹（半導体理工学研究センター） SDM2008-57 |
我々は生体由来の球殻タンパク質(フェリチン)を利用したドット型フローティングゲートメモリの開発を目指した研究を行っている... [more] | SDM2008-57 pp.89-92 |
| SDM | 2007-06-07 15:30 |
広島 | 広島大学（学士会館） | SiO2に埋め込まれたフローティングゲートへの多電子注入機構の提案 ○高田幸宏・村口正和・白石賢二（筑波大） SDM2007-35 |
SiO2中に埋め込まれたマルチ量子ドットから構成されるフローティングゲートへの多電子の同時注入が実験によって報告されてい... [more] | SDM2007-35 pp.23-26 |
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