| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| US | 2019-07-29 15:45 |
北海道 | 北海道大学 | ZnO薄膜を用いた厚みすべりモード共振子の作製と液体負荷時の周波数特性 ○宮田昌哉・高柳真司・松川真美（同志社大）・柳谷隆彦（早大）  US2019-34 |
厚みすべりモード共振子は液体中への振動エネルギー漏洩が非常に少ないため，液体粘度測定や抗原抗体反応検出へ応用することがで... [more] | US2019-34 pp.33-37 |
| ED, CPM, SDM (共催) |
2018-05-24 15:25 |
愛知 | 豊橋技科大VBL | GaN基板上GaNエピ層のFT-IRによる評価 ○堀切文正・成田好伸・吉田丈洋（サイオクス） ED2018-18 CPM2018-5 SDM2018-13 |
フーリエ変換赤外分光(FT-IR)を用いて、自立GaN基板上GaNホモエピタキシャル層の非破壊膜厚測定を行った。FT-I... [more] | ED2018-18 CPM2018-5 SDM2018-13 pp.19-22 |
| LSJ (共催) OFT, OCS (併催) [詳細] |
2017-08-31 17:45 |
北海道 | 北海道大学 | 島状金薄膜によるヘテロコア光ファイバ型LSPRセンサのスペクトル特性と屈折率計測への応用 ○細木 藍・西山道子・渡辺一弘（創価大） OFT2017-30 |
表面プラズモン共鳴(SPR)は光ファイバによる液体屈折率計測の原理として広く使われている．一方，局在型表面プラズモン共鳴... [more] | OFT2017-30 pp.25-28 |
| EMD, R (共催) |
2016-02-19 13:45 |
静岡 | あざれあ(静岡市) | 交流インピーダンス法による電気接点に介在するコンタクトオイルの状態評価 ○寺岡史貴・飯田和生（三重大）・澤田 滋・清水 敦（オートネットワーク技研） R2015-66 EMD2015-94 |
近年、自動車用コネクタの挿入力の低減が課題となっており、その解決策のひとつとしてコンタクトオイルの適用が考えられている。... [more] | R2015-66 EMD2015-94 pp.7-12 |
| US | 2015-06-19 14:10 |
熊本 | 熊本大学 | Brillouin光散乱を用いたc軸配向薄膜の音速および常屈折率の同時測定 ○富田昇太（同志社大）・柳谷隆彦・鈴木雅視（早大）・高柳真司・松川真美（同志社大） US2015-20 |
Brillouin散乱法は試料中を伝搬する音速および屈折率を測定する技術として知られている．この手法は非破壊・非接触で測... [more] | US2015-20 pp.23-28 |
| EMD, R (共催) |
2014-02-21 14:55 |
大阪 | パナソニック「松心会館」 | 電気接点に介在するコンタクトオイルに関する研究 ○小島宏治・飯田和生（三重大）・澤田 滋（オートネットワーク技研） R2013-88 EMD2013-144 |
近年、車載用コネクタは挿入力の低減が課題となっており、コンタクトオイルはその手段の一つである．コンタクトオイルは本来絶縁... [more] | R2013-88 EMD2013-144 pp.25-30 |
| EA, US (併催) |
2011-01-20 11:00 |
京都 | 同志社大学京田辺キャンパス医心館 N-A, N-B | Ti製受音膜裏面に水熱合成PZT多結晶膜を成膜した堅牢ハイドロホンの特性改善のための検討 ○竹内真一・吉村一穂・八木 瞳・川島徳道（桐蔭横浜大）・内田武吉・菊池恒男（産総研）・黒澤 実（東工大） US2010-94 |
我々の開発した耐キャビテーション・ハイドロホンは、超音波洗浄器の水槽中やHIFU 治療装置の集束音場のようなキャビテーシ... [more] | US2010-94 pp.13-18 |
| US | 2010-09-29 15:40 |
宮城 | 東北大学 工学部 電子情報システム・応物系 南講義棟103会議室 | LFB超音波材料解析システムによる損失のある試料に対する漏洩弾性表面波伝搬特性の測定 ○近藤貴則・大橋雄二・荒川元孝・櫛引淳一（東北大） US2010-54 |
表面粗さの異なるZnO多結晶薄膜／合成石英ガラス基板構造試料に対して、直線集束ビーム超音波材料解析(LFB-UMC)シス... [more] | US2010-54 pp.33-37 |
| EMD | 2009-11-20 14:50 |
東京 | 日本工業大学 神田キャンパス | Growth of oxide film on tin plated surface of connector contacts and it effect on contact resistance ○Yuya Nabeta・Yasushi Saitoh・Shigeru Sawada（Mie Univ.）・Yasuhiro Hattori（ANTech）・Terutaka Tamai（Mie Univ.） EMD2009-100 |
[more] | EMD2009-100 pp.133-136 |
| US | 2009-10-22 13:40 |
東京 | 東京大学 生産技術研究所 | 電場ピックアップ法による液体薄膜のレオロジー測定 ○永島嵩之・酒井啓司（東大） US2009-60 |
電場ピックアップ法は、ソフトマター表面近傍の物性を高分解能・非接触測定するのに有効な手法である。この手法を用いれば、従来... [more] | US2009-60 pp.25-28 |
| SCE | 2009-07-21 16:05 |
東京 | 機械振興会館 | 光キャビティ付超伝導ナノワイヤ単一光子検出器の開発 ○三木茂人（NICT）・武田正典（国立天文台）・藤原幹生・佐々木雅英・王 鎮（NICT） SCE2009-16 |
光キャビティ付超伝導ナノワイヤ単一光子検出器(OC-SNSPD)の作製および多チャンネル冷凍機システム搭載の為の実装技術... [more] | SCE2009-16 pp.41-45 |
| ED, CPM, SDM (共催) |
2009-05-14 13:30 |
愛知 | 豊橋技科大サテライトオフィス | 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価 ○以西雅章・倉地雄史・山田典史・武内俊憲・宝珍敬志（静岡大） ED2009-18 CPM2009-8 SDM2009-8 |
青色EL発光特性向上のために、SrS:Cu薄膜EL (Electroluminescent Element) 素子の作製... [more] | ED2009-18 CPM2009-8 SDM2009-8 pp.1-5 |
| EMD | 2009-03-06 13:05 |
東京 | 工学院大学 | 金属表面酸化膜の構造に関する考察 ～ 銅とアルミニウム ～ ○阿部達哉・熱海 修・箕輪 功（玉川大） EMD2008-134 |
電線や接触端子などに広く用いられている銅材、及び軽量さゆえに用いられるようになった車載搭載用のアルミ材の表面の酸化膜の構... [more] | EMD2008-134 pp.1-4 |
| EMD | 2009-03-06 16:35 |
東京 | 工学院大学 | 錫(Sn)めっき接触面での酸化皮膜の成長と接触抵抗特性 ～ エリプソメトリによる研究 ～ ○鍋田佑也・玉井輝雄・斉藤 寧・澤田 滋・飯田和生（三重大）・服部康博（オートネットワーク技研） EMD2008-146 |
錫（Sn)めっきはコネクタ等の接触部に広く用いられ、金（Au)めっきと共に有効利用されている。しかし、Auめっきとは本質... [more] | EMD2008-146 pp.49-52 |
| EMD | 2008-03-07 15:50 |
東京 | 都立産業技術高専（荒川キャンパス） | 銅表面酸化膜の構造調査 ○小林健作・小宮 暖・箕輪 功（玉川大）・高屋敷陽介・高田 肇・渡邊嘉彦（矢崎総業） EMD2007-134 |
銅表面の酸化膜厚とその構造について、接触抵抗の測定・オージェ電子分光から検討した。また、過去のデータから酸化膜厚に対して... [more] | EMD2007-134 pp.41-44 |
| CPM | 2007-11-17 10:15 |
新潟 | 長岡技術科学大学 | バイアス印加RFプラズマ窒化法によるSiC-MIS構造の作製 ○石田芳樹・陳 晨・萩原正宜・塩沢宏章・仙石 昌・林部林平・山上朋彦・上村喜一（信州大） CPM2007-118 |
我々はこれまでにRFプラズマ窒化法によりSiC表面に窒化絶縁膜を形成してSiC-MIS構造を作製する方法を提案し，窒化膜... [more] | CPM2007-118 pp.69-72 |
| CPM | 2005-11-11 13:30 |
福井 | 福井大学 | NiCr薄膜抵抗体における熱歪と抵抗温度係数(TCR)特性 ○岩坪 聡・清水孝晃（富山県工技センター）・津幡 健・桑原大輔（北陸電気工業）・谷野克巳（富山県工技センター） |
抵抗温度係数 Temperature Coefficient of Resistance (TCR) は，薄膜抵抗器にと... [more] | CPM2005-152 pp.1-6 |
| CPM | 2005-11-11 15:10 |
福井 | 福井大学 | プラズマ窒化法による6H-SiC窒化絶縁膜の作製と評価 ○山口哲生・劉 穎慎・石田芳樹・山上朋彦・林部林平・阿部克也・上村喜一（信州大） |
SiCのMOSデバイス応用において大きな問題となっている熱酸化膜中の炭素起因欠陥を抑制し，良質なMIS構造を形成すること... [more] | CPM2005-156 pp.25-28 |
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