| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2021-06-22 13:10 |
ONLINE | オンライン開催 | ［記念講演］イソプロピルアルコールを用いた金属銅及び酸化銅上の表面改質 ○間脇武蔵（東北大）・寺本章伸（広島大）・石井勝利（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ）・志波良信・諏訪智之（東北大）・東雲秀司・清水 亮・梅澤好太（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ）・黒田理人・白井泰雪・須川成利（東北大）  SDM2021-22 |
半導体製造工程における銅配線上での選択的形成プロセスに向けて，イソプロピルアルコール(IPA)を用いた酸化銅の還元反応と... [more] | SDM2021-22 pp.1-6 |
| SDM | 2020-10-22 14:50 |
ONLINE | オンライン開催 | IPAを用いた銅・酸化銅上の表面改質 ○間脇武蔵（東北大）・寺本章伸（広島大）・石井勝利（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ）・志波良信・諏訪智之（東北大）・東雲秀司・清水 亮・梅澤好太（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ）・黒田理人・白井泰雪・須川成利（東北大） SDM2020-19 |
半導体製造工程における銅配線上での選択的形成プロセスに向けて，イソプロピルアルコール(IPA)を用いた酸化銅の還元反応と... [more] | SDM2020-19 pp.25-29 |
| ED, CPM, SDM (共催) |
2018-05-24 15:25 |
愛知 | 豊橋技科大VBL | GaN基板上GaNエピ層のFT-IRによる評価 ○堀切文正・成田好伸・吉田丈洋（サイオクス） ED2018-18 CPM2018-5 SDM2018-13 |
フーリエ変換赤外分光(FT-IR)を用いて、自立GaN基板上GaNホモエピタキシャル層の非破壊膜厚測定を行った。FT-I... [more] | ED2018-18 CPM2018-5 SDM2018-13 pp.19-22 |
| SDM | 2016-06-29 10:00 |
東京 | キャンパス・イノベーションセンター東京 | ［依頼講演］強誘電体HfSiOキャパシタにおける形成プロセスと膜物性・電気特性の関係 ○上牟田雄一・藤井章輔・高石理一郎・井野恒洋・中崎 靖・齋藤真澄・小山正人（東芝） SDM2016-32 |
TiN/HfSiO/TiN構造の膜物性および電気特性について上部TiN電極プロセスおよび結晶化アニール温度との関係を調べ... [more] | SDM2016-32 pp.1-4 |
| ED | 2011-07-30 10:15 |
新潟 | 長岡技術科学大学マルチメディアシステムセンター | 高温溶媒吸着法による色素増感太陽電池の高効率化 ○石田瑛之・吉田洋大・籾山克章・鈴木貴彦・廣瀬文彦（山形大） ED2011-49 |
色素増感太陽電池の発電効率はTiO2層上の色素の吸着量に依存する。これまで、色素吸着量を増やすために、高い比表面積を持つ... [more] | ED2011-49 pp.59-62 |
| EID, ITE-IDY, IEE-EDD, IEIJ-SSL (連催) |
2011-01-29 09:55 |
高知 | 高知工科大学 研究教育棟B | 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成 ○松田時宜・古田 守・平松孝浩・古田 寛・平尾 孝（高知工科大） EID2010-35 |
薄膜トランジスタのような半導体デバイスを、フレキシブル電子ペーパーなどへの応用が期待される低耐熱性基板へ応用するため、絶... [more] | EID2010-35 pp.87-90 |
| US | 2010-09-29 15:15 |
宮城 | 東北大学 工学部 電子情報システム・応物系 南講義棟103会議室 | SiO2/LiNbO3構造SAWデバイスにおけるSiO2膜物性と周波数温度係数の相関性の検討 ○松田 聡・三浦道雄・松田隆志・上田政則・佐藤良夫（太陽誘電）・橋本研也（千葉大） US2010-53 |
SiO2/LiNbO3構造を用いた広帯域温度補償のSAWデバイスにおいて、FT-IR (Fourier-transfor... [more] | US2010-53 pp.29-32 |
| OME | 2008-11-07 13:00 |
長野 | セイコーエプソン(株) | ポリイミドをターゲットとして作製した高周波スパッタ高分子薄膜 ～ 成膜時の電力と圧力が分子構造と基板との密着性に与える影響 ～ ○上村彰宏・岩森 暁（金沢大）・西山逸雄（ダイプラ・ウィンテス） OME2008-58 |
[more] | OME2008-58 pp.1-5 |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]