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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| ED, THz (共催) |
2017-12-19 09:40 |
宮城 | 東北大通研ナノ・スピン棟 | InGaAs/InAs/InGaAsコンポジットチャネルHEMTの低温DC・RF特性 ○遠藤 聡・渡邊一世・笠松章史（NICT）・三村高志（NICT/富士通研）  ED2017-82 |
In0.7Ga0.3As/InAs/In0.7Ga0.3AsコンポジットチャネルHEMT及びIn0.7Ga0.3Asチャ... [more] | ED2017-82 pp.37-40 |
| SDM, ICD (共催) ITE-IST (連催) [詳細] |
2017-07-31 12:00 |
北海道 | 北海道大学情報教育館 | ドレインオフセット構造を持った相補型TFET回路のTCADシミュレーション ○浅井栄大・森 貴洋・服部淳一・福田浩一・遠藤和彦・松川 貴（産総研） SDM2017-35 ICD2017-23 |
我々はSi チャネルトンネルトランジスタ(TFET)からなる相補型論理回路のTCAD シミュレーションを行い、ドレインオ... [more] | SDM2017-35 ICD2017-23 pp.21-24 |
| MW, ED (共催) |
2017-01-27 13:25 |
東京 | 機械振興会館地下2階1号室 | AlGaN/GaN HEMTの電気的特性に対する保護膜残留応力依存性 ～ TCADシミュレーションによる検討 ～ ○大石敏之（佐賀大）・山口裕太郎・山中宏治（三菱電機） ED2016-108 MW2016-184 |
AlGaN上に形成された窒化膜保護膜(SiN)の残留応力が，GaN HEMTの電気的特性(ドレイン電流，ゲートリーク電流... [more] | ED2016-108 MW2016-184 pp.63-68 |
| ED | 2016-12-19 14:40 |
宮城 | 東北大通研ナノ・スピン棟 | InP HEMTの低温DC・RF特性に関するドレイン側リセス長の影響 ○遠藤 聡・渡邊一世・笠松章史（NICT）・高橋 剛・芝 祥一・中舍安宏・岩井大介（富士通研）・三村高志（富士通研/NICT） ED2016-81 |
InP系75-nmゲートIn0.52Al0.48As/In0.63Ga0.37As HEMTの温度300及び16 Kにお... [more] | ED2016-81 pp.7-12 |
| ED | 2013-12-16 13:55 |
宮城 | 東北大通研 | 埋め込みゲートを有するInAlAs/InGaAs HEMTのモンテカルロ計算 ○遠藤 聡（NICT/富士通研）・渡邊一世・笠松章史（NICT）・三村高志（富士通研/NICT） ED2013-92 |
InP系HEMTをより高速化する手段の一つとして，ゲート電極フット先端をバリア層に埋め込んだ構造がある．本研究においては... [more] | ED2013-92 pp.13-17 |
| SDM | 2013-11-15 13:25 |
東京 | 機械振興会館 | ウィグナーモンテカルロ法を用いた極微細III-V MOSFETの量子輸送解析 ○大森正規・木場隼介・前川容佑（神戸大）・土屋英昭（神戸大/JST）・鎌倉良成・森 伸也（阪大/JST）・小川真人（神戸大） SDM2013-111 |
本稿では、ウィグナーモンテカルロシミュレーションを用いて、III-V MOSFETにおけるソース・ドレイン(SD)直接ト... [more] | SDM2013-111 pp.65-70 |
| MW, ED (共催) |
2013-01-18 14:30 |
東京 | 機械振興会館 | AlGaN/GaN HEMTのドレインリーク電流解析 ○林 一夫・大石敏之・加茂宣卓・山口裕太郎・大塚浩志・山中宏治・中山正敏（三菱電機）・宮本恭幸（東工大） ED2012-125 MW2012-155 |
AlGaN/GaN HEMTのドレインリーク電流について，実測とTCADシミュレーションの両方から解析した．まず，ピンチ... [more] | ED2012-125 MW2012-155 pp.69-74 |
| MW | 2012-12-13 14:00 |
山梨 | 山梨大学 | E級電力増幅回路のEPWM送信機への応用に関する一検討 ○大山修毅・太郎丸 真（福岡大） MW2012-128 |
E,F級などのスイッチング増幅器はPAEが優れているが，非線形である．このアンプをOFDMなどの線型変調へ適用することが... [more] | MW2012-128 pp.7-12 |
| ICD, SDM (共催) |
2012-08-02 13:25 |
北海道 | 札幌市男女共同参画センター | 完全空乏型Silicon-on-Thin-BOX (SOTB) MOSトランジスタにおけるドレイン電流ばらつき ○水谷朋子（東大）・山本芳樹・槇山秀樹・角村貴昭・岩松俊明・尾田秀一・杉井信之（超低電圧デバイス技研組合）・平本俊郎（東大） SDM2012-69 ICD2012-37 |
65nm技術で作製した薄膜BOX-SOI(SOTB)トランジスタのドレイン電流ばらつきを評価し，バルクMOSトランジスタ... [more] | SDM2012-69 ICD2012-37 pp.33-36 |
| SDM, ED (共催) (ワークショップ) |
2012-06-27 16:00 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | A New RSD Bottom Gate Poly-Si Thin Film Transistor With Inside Spacer ○Yi-Hsiang Chiu・Shan-Jen Yang・Feng-Tso Chien（Feng Chia Univ.）・Chii-Wen Chen（Minghsin Univ.） |
In this research, a raised source/drain (RSD), accompanied w... [more] | |
| ED, SDM, CPM (共催) |
2012-05-18 09:00 |
愛知 | 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー | 半導体ドレイン層及び狭チャネルメサ幅による縦型InGaAsチャネルMISFETの高電圧利得化 ○柏野壮志・平井 準・池田俊介・藤松基彦・宮本恭幸（東工大） ED2012-26 CPM2012-10 SDM2012-28 |
我々はヘテロ接合電子ランチャと真性半導体チャネルを有する縦型MISFETの研究を行っている。この構造により7 MA/cm... [more] | ED2012-26 CPM2012-10 SDM2012-28 pp.43-48 |
| ED | 2011-12-14 13:00 |
宮城 | 東北大学 電気通信研究所 片平キャンパス内 ナノ・スピン総合研究棟 | ［招待講演］InGaAs MOSFETの高電流密度化 ○宮本恭幸・米内義晴・金澤 徹（東工大） ED2011-100 |
ITRS の予測では、将来のMOSFETにおいて、電源電圧=0.6V で2A/mmを超える高い電流駆動能力が求められてい... [more] | ED2011-100 pp.1-6 |
| ED | 2011-12-14 13:40 |
宮城 | 東北大学 電気通信研究所 片平キャンパス内 ナノ・スピン総合研究棟 | InGaAs/InAs/InGaAsコンポジットチャネルHEMTに関するモンテカルロ計算 ～ 歪みInAsのバンド構造と2次元電子ガスのセルフコンシステント解析の導入 ～ ○遠藤 聡（NICT/富士通研）・渡邊一世（NICT）・三村高志（富士通研/NICT） ED2011-101 |
InAlAs/InGaAs 系HEMT を高速化する手段の一つとして，InGaAs チャネル層内に電子の有効質量の軽いI... [more] | ED2011-101 pp.7-12 |
| SDM | 2011-11-11 15:20 |
東京 | 機械振興会館 | 極微細MOSFETにおけるチャネル長変調係数のゲート電圧依存性 ○廣木 彰・尹 鍾鐵（京都工繊大） SDM2011-128 |
極微細MOSFETのドレイン電流解析モデルにおいて，飽和ドレイン電流の特性を決定するチャネル長変調係数は，ディジタル回路... [more] | SDM2011-128 pp.75-80 |
| SDM | 2011-11-11 15:45 |
東京 | 機械振興会館 | 極微細MOSFETにおけるソース・ドレイン寄生抵抗の高次の効果 ○尹 鍾鐵・廣木 彰（京都工繊大） SDM2011-129 |
極微細MOSFETにおけるソース・ドレイン寄生抵抗の高次の効果を調べた。寄生抵抗の高次の効果を含む飽和ドレイン電流を導出... [more] | SDM2011-129 pp.81-85 |
| MW, ED (共催) |
2011-01-14 09:55 |
東京 | 機械振興会館 | AlGaN/GaN HEMTにおけるバッファ層に起因した電流コラプスに与える裏面電極とゲートフィールドプレートの影響の2次元解析 ○小野寺 啓・中島 敦・堀尾和重（芝浦工大） ED2010-183 MW2010-143 |
バッファ層中に深いドナーと深いアクセプタを考慮したAlGaN/GaN HEMTの２次元過渡解析を行い，ゲートフィールドプ... [more] | ED2010-183 MW2010-143 pp.45-50 |
| ED | 2010-12-17 11:15 |
宮城 | 東北大学 電気通信研究所 | ナノゲートIn0.7Ga0.3As/InAs/In0.7Ga0.3AsコンポジットチャネルHEMTに関するモンテカルロ計算 ○遠藤 聡（NICT/富士通研）・渡邊一世（NICT）・三村高志（富士通研/NICT） ED2010-168 |
InP 基板上のInAlAs/InGaAs 系HEMT を高速化する手段の一つとして，InGaAs チャネル層内に電子の... [more] | ED2010-168 pp.59-64 |
| ICD, SDM (共催) |
2010-08-27 16:00 |
北海道 | 札幌エルプラザ内男女共同参画センター | 「電流立上り電圧」ばらつきに起因する微細MOSトランジスタのランダム電流ばらつきの解析 ○水谷朋子（東大）・角村貴昭（MIRAI-Selete）・Anil Kumar（東大）・西田彰男・竹内 潔・稲葉 聡・蒲原史朗（MIRAI-Selete）・寺田和夫（広島市大）・最上 徹（MIRAI-Selete）・平本俊郎（東大/MIRAI-Selete） SDM2010-150 ICD2010-65 |
大規模DMA-TEGにより65nm技術で作製したMOSトランジスタの電流ばらつきを測定し、電流ばらつきがしきい値電圧ばら... [more] | SDM2010-150 ICD2010-65 pp.143-148 |
| ED, LQE, CPM (共催) |
2009-11-20 11:20 |
徳島 | 徳島大学（常三島キャンパス・工業会館） | ステップストレス測定によるAlGaN/GaN HFET電流コラプス解析 ○黒田健太郎・井川裕介・光山健太・敖 金平・大野泰夫（徳島大） ED2009-151 CPM2009-125 LQE2009-130 |
AlGaN/GaN HFETの電流コラプスは、ドレインバイアスによるデバイス内での局所的な負帯電が原因とされている。本研... [more] | ED2009-151 CPM2009-125 LQE2009-130 pp.109-114 |
| MW, ED (共催) |
2009-01-16 10:55 |
東京 | 機械振興会館 | ミリ波向け高耐圧・高出力GaN-HEMT ○牧山剛三・多木俊裕・金村雅仁・常信和清・今西健治（富士通/富士通研）・原 直紀（富士通研）・吉川俊英（富士通/富士通研） ED2008-221 MW2008-186 |
ミリ波（W帯）増幅器向けGaN高移動度トランジスタ（GaN-HEMT）の3端子耐圧向上技術について報告する。GaN-HE... [more] | ED2008-221 MW2008-186 pp.129-133 |
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