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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM 2020-10-29
14:00
ONLINE オンライン開催 極薄バリヤ上のCu(111)配向メカニズム
武山真弓北見工大)・安田光伸東レリサーチセンター)・佐藤 勝北見工大CPM2020-14
Si-LSIにおけるCu配線あるいは3次元LSIにおけるTSVなどの配線は、高い信頼性を持つ配線を形成するためにエレクト... [more] CPM2020-14
pp.11-14
IA 2019-11-14
14:35
東京 関西学院大学 東京丸の内キャンパス(サピアタワー) [招待講演]Interruption Risk of Competitive Block Diffusion in a Bitcoin Network
Masahiro SasabeNAISTIA2019-27
 [more] IA2019-27
pp.21-26
SDM 2017-10-25
16:00
宮城 東北大学未来研 塗布型拡散剤を用いたnm対応コンフォーマルドーピング技術
木下哲郎真下峻一大橋卓矢澤田佳宏木下洋平藤村悟史TOKSDM2017-53
基板種によらないウェハ上の立体構造に対してコンフォーマルに、数ナノメートル膜厚の被膜を形成できる塗布材料を開発した。本研... [more] SDM2017-53
pp.21-24
NS, ASN, RCC, RCS, SR
(併催)
2017-07-19
16:25
北海道 北海道大学 端末間通信による情報拡散のための仮想セル構築方法に関する検討
古谷透音川本雄一西山大樹加藤 寧東北大ASN2017-23
Wi-Fi Direct やBluetooth といった端末間通信技術は,移動端末同士による直接的な通信を実現している.... [more] ASN2017-23
pp.61-66
SDM 2015-03-02
15:25
東京 機械振興会館 [招待講演]CVD/ALDを用いたCu(Mn)/Co(W)配線システムの構築と3次元アトムプローブによるサブナノ構造・バリヤ性評価
嶋 紘平東大)・ツ ユアン韓 斌高見澤 悠東北大)・清水秀治東大)・清水康雄東北大)・百瀬 健東大)・井上耕治永井康介東北大)・霜垣幸浩東大SDM2014-169
ULSI-Cu配線の微細化に伴う配線抵抗の増大及びエレクトロマイグレーションの問題を克服すべく、我々はこれまでに新規バリ... [more] SDM2014-169
pp.39-44
IA 2014-11-06
17:30
海外 タイ・チェンマイ Development of Interpreting System for Antimicrobial Susceptibility Testing by the Disc Diffusion Technique
Chaowarit OngkumChiang Mai Univ.IA2014-60
The purpose of this Development of Interpreting System for A... [more] IA2014-60
pp.139-141
CPM 2012-09-25
14:20
東京 機械振興会館 磁性ガーネット膜を用いた体積磁気ホログラムの回折効率の改善
相良尚人正木幸宏林 攀梅高木宏幸中村雄一井上光輝豊橋技科大CPM2012-88
大容量記録技術の一つにホログラムメモリがある.我々はこれまで,記録材料に磁性ガーネット膜を用いた磁気ホログラムの研究を行... [more] CPM2012-88
pp.15-18
SDM 2011-02-07
15:25
東京 機械振興会館 3次元積層技術における低温バンプレスTSVプロセス
北田秀樹前田展秀東大)・藤本興治大日本印刷)・水島賢子中田義弘中村友二富士通研)・大場隆之東大SDM2010-224
低温プラズマCVDを用いたCu貫通ビア(TSV)製造のCu拡散の挙動を評価した。成膜温度が150℃の低温-PECVD法で... [more] SDM2010-224
pp.49-53
CPM 2010-07-30
09:30
北海道 道の駅しゃり 会議室 ラジカル反応を応用したZrNx膜の低温作製
佐藤 勝武山真弓北見工大)・早坂祐一郎青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2010-36
3次元実装によるSi-ULSI の集積度の向上に必要なSi 貫通ビア配線に適用可能な低温での拡散バリヤの新たな成膜手法と... [more] CPM2010-36
pp.29-34
MI 2010-01-29
14:20
沖縄 那覇市ぶんかテンブス館 [招待講演]Recent Advances in Abdominal MRI and its Clinical Application
Yong Eun ChungSe Hyung KimSeoul Nat. Univ. HospitalMI2009-154
MRI systems have recently undergone dramatic improvement in ... [more] MI2009-154
pp.423-427
CPM 2009-08-11
10:50
青森 弘前大学 ZrBx薄膜の特性評価とCu多層配線への応用
武山真弓佐藤 勝北見工大)・早坂祐一郎青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2009-43
先に我々は、ZrB2 という新たな材料の基本的な特性を評価したが、その際ZrB2 膜は、下地基板の導電性によって、その抵... [more] CPM2009-43
pp.51-55
CPM 2009-08-11
11:15
青森 弘前大学 3次元Si貫通ビアに適用可能なバリヤ膜の新規成膜手法の有用性 ~ 低温作製されたZrNx膜の特性評価 ~
佐藤 勝武山真弓北見工大)・早坂祐一郎青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2009-44
Si-ULSI の3 次元Si 貫通ビア配線にとって,最も重要な要件の一つが200℃以下の低温プロセスである.本研究では... [more] CPM2009-44
pp.57-60
NS, IN
(併催)
2008-03-07
15:40
沖縄 万国津梁館(沖縄) 匿名P2Pネットワークにおける漏洩情報拡散防止方法の提案
田中直毅齊藤泰一東京電機大NS2007-210
匿名P2Pネットワークにおける情報漏洩は,WinnyなどのP2Pファイル共有ソフトを使用するユーザのPCから発生しており... [more] NS2007-210
pp.435-440
CPM 2007-11-16
16:10
新潟 長岡技術科学大学 ZrB2薄膜のキャラクタリゼーションとCu/SiO2間のバリヤ特性
武山真弓北見工大)・中台保夫神原正三アルバックマテリアル)・畠中正信アルバック)・野矢 厚北見工大CPM2007-111
Si-ULSI におけるCu 配線の拡散バリヤに、ZrB2 という新たな材料を適用するために、プロセスに適用可能な低温で... [more] CPM2007-111
pp.35-38
ISEC, LOIS
(共催)
2004-11-09
11:45
大阪 大阪大学 IP電話網の普及競争に関する一考察
水谷直樹奈良産大
IP電話サービスは、同じネットワークへの加入者どうしの通話が無料であるため、
他者の加入状況を参考にして加入の意思決定... [more]
ISEC2004-91 OIS2004-58
pp.45-50
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