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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
LQE, CPM, ED
(共催)
2020-11-27
15:20
ONLINE オンライン開催 ナノストライプパターン加工した低転位密度AlNテンプレート上へのMOVPE成長と結晶性評価
伊庭由季乃正直花奈子窪谷茂幸上杉謙次郎肖 世玉三宅秀人三重大ED2020-24 CPM2020-45 LQE2020-75
Face-to-face配置でアニールしたスパッタAlNテンプレート(FFA Sp-AlN)に周期300 nmと深さ12... [more] ED2020-24 CPM2020-45 LQE2020-75
pp.91-94
CPM 2018-03-01
15:45
東京 東京工科大学 結晶作製実験をふりかえって
高野 泰静岡大CPM2017-123
25 年間 III-V 族化合物半導体結晶の作製法を探究した。基板と格子定数が異なる層を結晶成長させることに従事した。... [more] CPM2017-123
pp.31-32
CPM, ED, SDM
(共催)
2014-05-28
10:50
愛知 名古屋大学VBL3階 GaInN/GaNヘテロ接合における緩和過程の転位密度依存性
石原耕史近藤保成松原大幸岩谷素顕上山 智竹内哲也名城大)・赤﨑 勇名城大/名大ED2014-18 CPM2014-1 SDM2014-16
GaInN/GaNヘテロ接合はLEDや半導体レーザ、さらには太陽電池など幅広い応用が可能である。これまで本ヘテロ接合の緩... [more] ED2014-18 CPM2014-1 SDM2014-16
pp.1-6
LQE, ED, CPM
(共催)
2011-11-17
10:55
京都 京都大学桂キャンパス 桂ホール エッチピット法によるAlNエピタキシャル膜中の貫通転位の評価
野村拓也三宅秀人平松和政三重大)・龍 祐樹桑原崇彰桑野範之九大ED2011-75 CPM2011-124 LQE2011-98
高性能AlGaN系深紫外発光デバイスの実現のためには、AlNを基板として用いることが有望である. 本研究ではエッチピット... [more] ED2011-75 CPM2011-124 LQE2011-98
pp.11-14
LQE, ED, CPM
(共催)
2008-11-27
17:40
愛知 名古屋工業大学 ELO-AINテンプレート上に作製した270nm帯ALGaN紫外LED
乗松 潤平山秀樹藤川紗千恵野口憲路理研/埼玉大/JST)・高野隆好理研/パナソニック電工)・椿 健治理研/埼玉大/JST)・鎌田憲彦埼玉大/JSTED2008-168 CPM2008-117 LQE2008-112
波長250-280nm帯の紫外LED・LDは今後殺菌用途応用への展開が予測され、その高効率・高出力化が大変期待されている... [more] ED2008-168 CPM2008-117 LQE2008-112
pp.77-82
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