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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| US | 2020-11-05 13:00 |
愛知 | 愛知工業大学 八草キャンパス | 低圧スパッタ成膜で増大する負イオン照射がScAlN薄膜の結晶性と圧電性に及ぼす影響 ○冨永卓海・髙柳真司（同志社大）・柳谷隆彦（早大）  US2020-43 |
ScAlN薄膜は，AlN 薄膜よりも非常に大きな圧電性を有すことから，弾性波デバイスへの応用が期待されている．ScAlN... [more] | US2020-43 pp.1-6 |
| US | 2020-09-28 14:50 |
ONLINE | オンライン開催 | ScAlスパッタターゲットから生じる負イオンがScAlN圧電薄膜の結晶配向性や電気機械結合係数に及ぼす影響 ○木原流唯（早大）・高柳真司（同志社大）・柳谷隆彦（早大） US2020-36 |
広帯域なBAWフィルタへの応用を目指して、大きな電気機械結合係数をもつScAlN圧電薄膜が注目されている。Scは酸化しや... [more] | US2020-36 pp.51-56 |
| US | 2015-09-03 15:20 |
北海道 | 第一滝本館 （北海道登別） |
低圧RFマグネトロンスパッタ法によるc軸平行配向ZnO膜の形成とSAW、Lamb波デバイスへの応用 ○高柳真司（同志社大）・柳谷隆彦（早大）・Jean-Claude Gerbedoen・Abdelkrim Talbi（IEMN）・松川真美（同志社大）・Philippe Pernod（IEMN） US2015-50 |
ZnO薄膜はSAWフィルタなど様々な圧電デバイスに応用されてきたが，その多くは(0001)面に優先配向を持つ．一方，(1... [more] | US2015-50 pp.25-30 |
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