お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 開催スケジュール
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
    [Japanese] / [English] 
研究会名/開催地/テーマ  )→
 
講演検索  検索語:  /  範囲:題目 著者 所属 抄録 キーワード )→

すべての研究会開催スケジュール  (検索条件: すべての年度)

講演検索結果
 登録講演(開催プログラムが公開されているもの)  (日付・降順)
 6件中 1~6件目  /   
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2016-11-11
13:30
東京 機械振興会館 [招待講演]チャージポンピング法による単一MOS界面トラップの個別検出と解析 ~ 原子スケールの視点で新たなトラップ物理を目指して ~
土屋敏章島根大SDM2016-86
チャージポンピング(CP)法で,単一のMOS界面トラップを個別に検出して評価する究極的な手法を用いて,全く新しい視点でト... [more] SDM2016-86
pp.43-47
SDM 2012-12-07
13:30
京都 京都大学(桂) デバイスシミュレーションによるアモルファス酸化物半導体における劣化現象の理論的解析
浦川 哲上岡義弘山崎はるか石河泰明浦岡行治奈良先端大SDM2012-125
透明アモルファス酸化物半導体(TAOS)はa-Siに代わる次世代材料として,薄膜トランジスタなど次世代情報端末への応用が... [more] SDM2012-125
pp.59-64
ED, MW
(共催)
2010-01-14
14:05
東京 機械振興会館 HfO2/AlGaN/GaN MOSFETの過渡応答解析
林 慶寿岸本 茂水谷 孝名大ED2009-186 MW2009-169
時間を考慮したデバイスシミュレーションを行うことで、HfO2/AlGaN/GaN MOSFETにおいてHfO2/AlGa... [more] ED2009-186 MW2009-169
pp.65-70
OME 2010-01-12
16:05
東京 機械振興会館 in-situ電界効果熱刺激電流法によるペンタセン/ゲート絶縁膜界面のトラップ準位密度評価
藤井孝博千葉大)・松井弘之産総研)・長谷川達生産総研/東大)・国吉繁一酒井正俊工藤一浩中村雅一千葉大OME2009-76
有機薄膜トランジスタ(OTFT)において、有機半導体/ゲート絶縁膜界面のトラップ準位はTFTの動作特性・動作安定性に大き... [more] OME2009-76
pp.51-56
LQE, ED, CPM
(共催)
2008-11-28
11:40
愛知 名古屋工業大学 HfO2/AlGaN/GaN MOSFETのデバイスシミュレーション ~ HfO2/AlGaN界面の影響 ~
林 慶寿杉浦 俊岸本 茂水谷 孝名大ED2008-175 CPM2008-124 LQE2008-119
HfO2/AlGaN/GaN MOSFETのシミュレーションを行い、デバイスの動作機構の解明及び界面トラップのデバイス特... [more] ED2008-175 CPM2008-124 LQE2008-119
pp.115-120
SDM 2007-12-14
16:40
奈良 奈良先端科学技術大学院大学 4H-SiC nMOSFETおよびpMOSFETに対するチャージポンピング測定
岡本 大矢野裕司畑山智亮浦岡行治冬木 隆奈良先端大SDM2007-234
4H-SiC nMOSFETとpMOSFETに対してチャージポンピング(CP)測定を行った.nチャネルMOSFETに対し... [more] SDM2007-234
pp.51-54
 6件中 1~6件目  /   
ダウンロード書式の初期値を指定してください NEW!!
テキスト形式 pLaTeX形式 CSV形式 BibTeX形式
著作権について : 以上の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会