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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| OME | 2022-12-19 16:10 |
東京 | 東京理科大学葛飾キャンパス | フッ素ドープB型炭酸アパタイト系固体電解質の導電特性と熱安定性 ○赤松 怜・田中優実（東京理科大）  OME2022-49 |
フッ素ドープ系B型炭酸アパタイト（FCA; (Ca10-x Na2x/3)[(PO4)6-x(CO3)x][(OH)2-... [more] | OME2022-49 pp.30-32 |
| SDM | 2018-06-25 15:15 |
愛知 | 名古屋大学 VBL３F | リモートプラズマ支援CVDにより形成したSiO2/GaN界面の化学結合状態および熱的安定性評価 ○松田亮平・大田晃生（名大）・田岡紀之（産総研）・池田弥央・牧原克典（名大）・清水三聡（産総研）・宮崎誠一（名大） SDM2018-22 |
n型GaN(0001)基板上に、リモートプラズマ支援CVDにより厚さ~6.2nmのSiO2を堆積し、X線光電子分光法(X... [more] | SDM2018-22 pp.29-32 |
| SDM | 2015-03-02 13:05 |
東京 | 機械振興会館 | ［招待講演］双方向遷移モデルを用いた垂直磁化型STT-MRAMにおける熱安定性の面積依存性評価 ○角田浩司・青木正樹・能代英之・射場義久・吉田親子・山崎裕一・高橋 厚・畑田明良・中林正明・杉井寿博（超低電圧デバイス技研組合） SDM2014-166 |
STT-MRAMに用いられるトップピン型垂直磁気トンネル接合(MTJ)の熱安定性Δについて，メモリアレイのデータ保持特性... [more] | SDM2014-166 pp.23-28 |
| OME | 2013-10-11 15:10 |
大阪 | 阪大中之島センター | 熱刺激電流測定法による有機気光学デバイスの熱安定性の評価 ○杵村和彦・池本龍馬（東工大）・山田俊樹・大友 明（NICT）・田口 大・間中孝彰・岩本光正（東工大） OME2013-63 |
有機電気光学デバイスは、高速化と低消費電力化を必要とする次世代の光変調器など幅広い分野での応用が期待されている。このデバ... [more] | OME2013-63 pp.63-68 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2012-07-20 11:05 |
茨城 | 茨城大学 日立キャンパス | リニアテープシステム用バリウムフェライト媒体の長期保存性能 ○栗橋悠一・清水 治・村田悠人・浅井雅彦・野口 仁（富士フイルム） MR2012-18 |
バリウムフェライト磁性体(BaFe)は優れた高記録密度特性を有し，アーカイブ用リニアテープにおいて現行のメタル磁性体(M... [more] | MR2012-18 pp.53-57 |
| ITE-MMS, MRIS (共催) |
2009-10-08 13:55 |
福岡 | 福岡交通センター | ［招待講演］スピントルク磁化反転を用いた不揮発RAM(SPRAM) ○高橋宏昌・伊藤顕知・早川 純・三浦勝哉・山本浩之・山ノ内路彦・小埜和夫・竹村理一郎・河原尊之（日立）・佐々木龍太郎（東北大）・長谷川晴弘（東北大/日立）・池田正二（東北大）・松岡秀行（日立）・大野英男（東北大） |
SPRAM(Spin Transfer Torque MRAM)は、電流によるスピントランスファトルクによってMTJ素子... [more] | |
| MRIS, ITE-MMS (共催) |
2009-07-16 14:15 |
東京 | 東京工業大学 | リニアテ－プシステムにおける塗布型バリウムフェライト媒体の高密度化研究 ○原澤 建・松本彩子・武者敦史・清水 治（富士フイルム） MR2009-15 |
粒子体積1500nm3の微粒子バリウムフェライト磁性体を用いて熱安定性を確保したテ－プを作製した。GMRヘッドとGPR4... [more] | MR2009-15 pp.13-17 |
| MRIS, ITE-MMS (共催) |
2009-07-16 14:40 |
東京 | 東京工業大学 | データストレージ用磁気テープの熱安定性 ○西尾博明・山元 洋（明大） MR2009-16 |
平均体積(Vphy)が小さい(約2000-5000 nm3)針状メタル(MP)および六板状Ba-ferrite(BF)粒... [more] | MR2009-16 pp.19-24 |
| MRIS, ITE-MMS (共催) |
2008-11-21 16:50 |
東京 | 早稲田大学 | 垂直磁気記録媒体用Co-Pt-TiO2グラニュラ膜への熱処理による磁気特性・記録再生特性の改善 ○有明 順・木谷貴則（秋田県産技総研センター）・本多直樹（東北工大） MR2008-35 |
垂直磁気記録媒体用Co-Pt-TiO2薄膜に熱処理を施し，磁気特性，結晶特性そして記録特性がどのように変化するかを調べた... [more] | MR2008-35 pp.31-36 |
| SDM | 2007-06-08 14:40 |
広島 | 広島大学（学士会館） | ゲルマニウム窒化膜の形成と評価 ○朽木克博・岡本 学・細井卓治・志村考功・安武 潔・渡部平司（阪大） SDM2007-49 |
高密度プラズマによるGe基板の窒化を行い、アモルファス純窒化膜(Ge$_3$N$_4$)の形成に成功した。350 $^o... [more] | SDM2007-49 pp.97-100 |
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