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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM, ED, SDM
(共催)
2014-05-29
13:20
愛知 名古屋大学VBL3階 異なるAl濃度を有するp型4H-SiCエピ膜の価電子帯近傍の深い準位
中根浩貴加藤正史市村正也名工大ED2014-38 CPM2014-21 SDM2014-36
超高耐圧SiCバイポーラデバイスの実現にはキャリアライフタイムの制御が必要とされ、深い準位の理解が必要不可欠である。p型... [more] ED2014-38 CPM2014-21 SDM2014-36
pp.101-104
SDM, ED, CPM
(共催)
2013-05-16
13:55
静岡 静大(浜松)創造科学技術大学院 4H-SiC中の深い準位を形成する欠陥構造の同定の試み
中根浩貴加藤正史市村正也名工大)・大島 武原子力機構ED2013-17 CPM2013-2 SDM2013-24
SiCデバイスの性能向上には、キャリアライフタイムの制御方法の確立が必要である。そのためには深い準位の物理的起源の理解が... [more] ED2013-17 CPM2013-2 SDM2013-24
pp.7-12
ED, LQE, CPM
(共催)
2012-11-30
14:55
大阪 大阪市立大学 InNの非輻射性キャリア再結合過程におけるキャリア輸送及び熱活性化過程の影響
今井大地石谷善博千葉大)・王 新強北京大物理学院)・草部一秀吉川明彦千葉大ED2012-87 CPM2012-144 LQE2012-115
InNのバンド端発光効率低下を引き起こす深い準位を介したキャリア状態遷移過程について,熱活性型状態遷移過程、非輻射性再結... [more] ED2012-87 CPM2012-144 LQE2012-115
pp.103-108
ED, SDM, CPM
(共催)
2012-05-18
11:15
愛知 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 低エネルギー電子線照射を施したp型4H-SiCにおける再結合中心の評価
吉原一輝加藤正史市村正也名工大)・畑山智亮奈良先端大)・大島 武原子力機構ED2012-31 CPM2012-15 SDM2012-33
SiCは大電力、低損失デバイス材料として期待されているが、デバイス性能に多大な影響を与える結晶欠陥を解明するには至ってい... [more] ED2012-31 CPM2012-15 SDM2012-33
pp.67-72
LQE, ED, CPM
(共催)
2011-11-17
15:15
京都 京都大学桂キャンパス 桂ホール AlGaN/GaN HFET電流コラプスの回復過程解析
細川大志井川裕介木尾勇介敖 金平大野泰夫徳島大ED2011-82 CPM2011-131 LQE2011-105
AlGaN/GaN HFETの電流コラプス機構解析を目的として、ストレス印加後の回復過程の解析を行なった。回復過程におけ... [more] ED2011-82 CPM2011-131 LQE2011-105
pp.43-48
ED, LQE, CPM
(共催)
2009-11-20
10:55
徳島 徳島大学(常三島キャンパス・工業会館) MgドープGaN表面特性のアニールによる変化
小川恵理橋詰 保北大/JSTED2009-150 CPM2009-124 LQE2009-129
Mgドープ量の異なるGaN表面にSiO2保護膜を形成し,1000〜1100oCの高温でアニールを行い,アニ... [more] ED2009-150 CPM2009-124 LQE2009-129
pp.105-108
CPM, ED, SDM
(共催)
2008-05-16
15:30
愛知 名古屋工業大学 電流DLTS法を用いたundoped 6H-SiC中の深い準位の評価
鬼頭孝輔加藤正史市村正也名工大ED2008-21 CPM2008-29 SDM2008-41
本研究では2種類の高抵抗6H-SiCバルクウェハに対し,抵抗率上昇機構解明の電気的測定手法として,電流-電圧測定、容量-... [more] ED2008-21 CPM2008-29 SDM2008-41
pp.101-106
ED 2007-06-16
09:30
富山 富山大学 [招待講演]金属/p-GaN界面の電流輸送特性と最近の進展
塩島謙次福井大ED2007-41
低Mgドープp-GaN基板を用いて良好なショットキー接触を実現し、電極界面の電気的特性を明らかにした結果を中心として、金... [more] ED2007-41
pp.57-60
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