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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2020-10-05 14:20 |
ONLINE | オンライン開催 | SmFe2超磁歪薄膜を用いたピエゾエレクトロニック・磁気トンネル接合素子の最近の研究 ○浦下宗輝・小野澤 隼・北川涼太・冨田誠人・春本高志・史 蹟・中村吉男・高村陽太・中川茂樹（東工大）  MRIS2020-3 |
磁気抵抗ランダムアクセスメモリ(MRAM)の不揮発性記憶素子である磁気トンネル接合素子(MTJ)においては，磁化反転時に... [more] | MRIS2020-3 pp.12-15 |
| SDM | 2009-11-13 13:00 |
東京 | 機械振興会館 | ［チュートリアル招待講演］薄層SOIデバイスの性能、有用性と今後の展開の見通し ～ 20年前の議論、10年前の議論と現在の課題 ～ ○大村泰久（関西大） SDM2009-146 |
本報告では、先ず、過去50年のSOIデバイス技術の歴史を見たとき、現代の薄層SOI MOSFET技術の到達点と近未来の3... [more] | SDM2009-146 pp.61-66 |
| ITE-MMS, MRIS (共催) |
2009-10-09 11:35 |
福岡 | 福岡交通センター | 応力アシスト磁化反転用スピン注入型垂直磁化GMR多層膜の作製 ○神保和弥・齋藤直哉・中川茂樹（東工大） MR2009-27 |
垂直 MRAM の書き込み時の消費電力を低減させる手法である応力アシスト磁化反転（Stress AssistedMagn... [more] | MR2009-27 pp.37-40 |
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