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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| ED | 2019-04-18 13:25 |
宮城 | 東北大・通研 | 室温原子層堆積法を用いたZnO薄膜の特性評価 ○吉田一樹・齋藤健太郎・三浦正範・鹿又健作・廣瀬文彦（山形大）  ED2019-2 |
酸化亜鉛(ZnO)は低コスト、ワイドバンドギャップ、高い可視光透過性、無毒といった特徴を持つ。このため透明導電膜、UVセ... [more] | ED2019-2 pp.5-8 |
| SDM, EID (共催) |
2014-12-12 11:00 |
京都 | 京都大学 | 炭素系多原子分子イオンのシリコンへの照射効果 ○竹内光明・林 恭平・龍頭啓充・高岡義寛（京大）・永山 勉・松田耕自（日新イオン機器） EID2014-17 SDM2014-112 |
炭化水素多原子分子イオンC$_{n}$H$_{n}^{+}$($n$=3, 7, 14)及びC$_{n}$H$_{2n+... [more] | EID2014-17 SDM2014-112 pp.21-24 |
| ED | 2013-04-18 14:40 |
宮城 | 東北大学電通研 片平北キャンパス ナノ・スピン総合研究棟4階 カンファレンスルーム | 有機太陽電池用反射防止膜の試作と評価 ○永瀬拓人・鹿又健作・鈴木貴彦・久保田 繁・廣瀬文彦（山形大） ED2013-5 |
本研究では、P3HT: PCBM系の有機薄膜太陽電池に多層の反射防止構造(ARC:antireflection coat... [more] | ED2013-5 pp.17-20 |
| OME | 2011-12-21 13:55 |
東京 | 機械振興会館 | 静電塗布法による有機薄膜成長過程の実時間その場診断 ○日當大我・猪野智久・福田武司・上野啓司・白井 肇（埼玉大） OME2011-68 |
静電塗布（ESD)法によるPEDOT:PSS製膜初期過程を分光エリプソメトリーによる実時間その場計測により評価した。70... [more] | OME2011-68 pp.11-16 |
| OME, EID (共催) |
2009-03-06 15:15 |
東京 | 機械振興会館 | アモルファス性有機半導体膜内における分子配向 ○横山大輔（九大）・坂口明生・鈴木道夫（ジェー・エー・ウーラム・ジャパン）・安達千波矢（九大） EID2008-88 OME2008-99 |
従来、低分子有機アモルファス膜は光学的に等方的であり、その膜中で分子は三次元的にランダムに配向していると考えられてきた。... [more] | EID2008-88 OME2008-99 pp.27-32 |
| SDM, OME (共催) |
2008-04-11 10:35 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | ガラス基板上の不純物ドープSi薄膜のアニールによる電気的活性化 ○野口 隆・宮平知幸・川井健司（琉球大）・鈴木俊治・佐藤正輝（SEN） SDM2008-4 OME2008-4 |
高濃度にホウ素やリンをドープしたSi薄膜に対して、紫外光でパルスであるエキシマレーザアニール(ELA)が施され、その導電... [more] | SDM2008-4 OME2008-4 pp.17-22 |
| ED, SDM (共催) |
2007-06-25 17:10 |
海外 | Commodore Hotel Gyeongju Chosun, 慶州， 韓国 | Efficient Activation of Dopant in Poly-Si film using Excimer Laser Annealing ○Takashi Noguchi（University of the Ryukyus） |
微細な高性MOS FETの場合と同様に、ガラス、プラスチック基板上などにつくる高性能Si TFTの実現において、不純物ド... [more] | |
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