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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| HWS, VLD (共催) |
2023-03-01 15:20 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
ボロノイ図を用いたSRAF配置とLUTベース光強度評価による高速SRAF最適化手法 ○齊藤颯太・堀本 遊・高橋篤司（東工大）・小平行秀（会津大）・児玉親亮（キオクシア）  VLD2022-80 HWS2022-51 |
近年，集積回路の微細化に伴い光リソグラフィにおいて転写パターンの忠実度の低下やプロセス変動耐性の低下が問題となっている．... [more] | VLD2022-80 HWS2022-51 pp.43-48 |
| VLD, DC, RECONF, ICD (共催) IPSJ-SLDM (連催) [詳細] |
2022-11-30 10:20 |
熊本 | 金沢市文化ホール （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
LUTベースの光強度推定による高速なSRAF最適化手法 ○齊藤颯太・高橋篤司（東工大） VLD2022-40 ICD2022-57 DC2022-56 RECONF2022-63 |
近年，集積回路の微細化に伴い光リソグラフィにおいて転写パターンの忠実度の低下やプロセス変動耐性の低下が問題となっている．... [more] | VLD2022-40 ICD2022-57 DC2022-56 RECONF2022-63 pp.121-126 |
| VLD, DC, RECONF, ICD, IPSJ-SLDM (連催) (併催) [詳細] |
2021-12-02 15:35 |
ONLINE | オンライン開催 | シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法 ○小平行秀・中山晴貴・野中尚貴（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 |
半導体プロセスの微細化のために，光リソグラフィ技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウ... [more] | VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 pp.162-167 |
| HWS, VLD (共催) [詳細] |
2020-03-04 16:00 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （開催中止，技報発行あり） |
ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2019-105 HWS2019-78 |
製造プロセスの微細化のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する... [more] | VLD2019-105 HWS2019-78 pp.65-70 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2019-11-15 16:35 |
愛媛 | 愛媛県男女共同参画センター | 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法 ○小平行秀・東 梨奈（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2019-53 DC2019-77 |
製造プロセスの微細化のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する... [more] | VLD2019-53 DC2019-77 pp.197-202 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) CPM, ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2018-12-07 14:10 |
広島 | サテライトキャンパスひろしま | 0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮・野嶋茂樹（東芝メモリ） VLD2018-70 DC2018-56 |
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のため，光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている．光リソグ... [more] | VLD2018-70 DC2018-56 pp.209-214 |
| VLD, IPSJ-SLDM (連催) |
2018-05-16 15:50 |
福岡 | 北九州国際会議場 | マスク最適化のための2次計画法を用いたピクセルベースOPC手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大） VLD2018-3 |
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている．光リソ... [more] | VLD2018-3 pp.31-36 |
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