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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
OME, SDM
(共催)
2022-04-23
11:50
宮崎 高千穂ホール(宮崎市)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]固相結晶化In2O3:Hによる薄膜トランジスタの高移動度化(>100 cm2V-1s-1)
曲 勇作島根大)・片岡大樹高知工科大)・葉 文昌島根大)・古田 守高知工科大SDM2022-13 OME2022-13
本研究では低温で固相結晶化した水素化多結晶酸化インジウム(In2O3:H)薄膜の金属から半導体への転移に成功し、酸化物半... [more] SDM2022-13 OME2022-13
pp.61-64
ED 2010-04-23
10:45
山形 伝国の杜(米沢) 有機ゲート絶縁膜を用いたFETの試作とキャリア輸送特性評価
橋本将貴鈴木貴彦廣瀬文彦山形大ED2010-14
我々は多結晶Si中の粒界の電荷輸送への影響を調査するために、150ºC以下でSiFETを低温形成し電気特性評価... [more] ED2010-14
pp.61-65
CPM 2009-10-29
14:50
富山 富山県立大学 有機絶縁膜を用いたシリコンTFTの低温形成
橋本将貴鈴木貴彦成田 克廣瀬文彦山形大CPM2009-91
我々は多結晶Siに特有な粒界を横切る電荷の輸送機構を評価する為に、SiFETの製作プロセスの低温化に取り組んだ。具体的に... [more] CPM2009-91
pp.9-11
CPM 2009-08-11
11:15
青森 弘前大学 3次元Si貫通ビアに適用可能なバリヤ膜の新規成膜手法の有用性 ~ 低温作製されたZrNx膜の特性評価 ~
佐藤 勝武山真弓北見工大)・早坂祐一郎青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2009-44
Si-ULSI の3 次元Si 貫通ビア配線にとって,最も重要な要件の一つが200℃以下の低温プロセスである.本研究では... [more] CPM2009-44
pp.57-60
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