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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2022-10-19 17:20 |
ONLINE | オンライン開催に変更 | 強誘電性ノンドープHfO2薄膜を用いたMFSFETのしきい値電圧制御に関する検討 ○田沼将一・Joong-Won Shin・大見俊一郎（東工大）  SDM2022-63 |
強誘電性HfO2薄膜は、従来の強誘電体材料では困難であったSi基板上への形成が可能であり、強誘電体ゲートトランジスタへ(... [more] | SDM2022-63 pp.38-42 |
| SDM | 2021-10-21 13:25 |
ONLINE | オンライン開催 | 界面層を用いた強誘電性ノンドープHfO2薄膜形成に関する検討 ○田沼将一・Joong-Won Shin・大見俊一郎（東工大） SDM2021-47 |
強誘電体HfO_2薄膜は、従来の強誘電体材料では困難であったSi基板上への形成が可能であり、強誘電体ゲートトランジスタ(... [more] | SDM2021-47 pp.12-15 |
| SDM | 2019-10-23 14:20 |
宮城 | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ | Hf界面層を用いた強誘電性ノンドープHfO2薄膜のSi(100)基板上への直接形成 ○片岡正和・林 将生・キム ミンギ・大見俊一郎（東工大） SDM2019-54 |
本研究では、ノンドープHfO2薄膜を用いた強誘電体ゲートFETの実現を目的として、Hf界面層の導入による低誘電率SiO2... [more] | SDM2019-54 pp.7-10 |
| CPM | 2019-08-26 14:20 |
北海道 | 北見工業大学 1号館２F A-207講義室 | スパッタ法によるAZO膜堆積のための導電性酸化物焼結ターゲットの作製 ○清水英彦・岩野春男・川上貴浩・福嶋康夫・永田向太郎（新潟大） CPM2019-39 |
本検討では，1500℃及び1600℃にて焼結させたZnOに2wt.%のAl2O3を添加した導電性を有するAZO焼結体を作... [more] | CPM2019-39 pp.9-12 |
| CPM, IEE-MAG (連催) |
2018-11-01 14:50 |
新潟 | まちなかキャンパス長岡 | スパッタ法によるZnとAZOによる二層膜の検討 ○清水英彦・岩野春男・川上貴浩・福嶋康夫・永田向太郎・坪井 望（新潟大） CPM2018-45 |
Ⅲ族元素をドープしたZnOの薄膜は，低抵抗の膜となることから，ITO薄膜に代わる透明導電膜用材料として注目されている。そ... [more] | CPM2018-45 pp.21-24 |
| US | 2012-09-24 14:45 |
秋田 | 秋田大学 手形キャンパス | RFマグネトロンスパッタ法における基板へのイオン照射を用いた極性反転ZnO薄膜の作製 ○生駒 遼（同志社大）・柳谷隆彦（名工大）・高柳真司（同志社大）・鈴木雅視（名工大）・小田川裕之（熊本高専）・松川真美（同志社大） US2012-61 |
ZnO結晶のc軸方向には極性があり，通常，スパッタ法などで作製したc軸配向ZnO薄膜は成長終端がZn極性面となるように成... [more] | US2012-61 pp.21-25 |
| CPM | 2011-08-11 09:25 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | RFマグネトロンスパッタ法によるAZO透明導電膜の作製 ○梅原 猛・野毛 悟（沼津高専） CPM2011-67 |
RFマグネトロンスパッタ法によるAZO薄膜の成膜条件に関する検討結果について報告する．放電ガスAr中に反応性ガス$O_2... [more] | CPM2011-67 pp.55-60 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2011-06-30 11:15 |
東京 | 機械振興会館 | マグネトロンスパッタ法で作製したZnO系透明導電膜の電気的特性に対するバッファレイヤー挿入効果 ○野本淳一・平野友康・宮田俊弘・南 内嗣（金沢工大） EMD2011-11 CPM2011-47 OME2011-25 |
直流マグネトロンスパッタ法を用いて作製するZnO系透明導電膜の基板上での抵抗率分布の改善及び低抵抗率化を目的として、極め... [more] | EMD2011-11 CPM2011-47 OME2011-25 pp.17-21 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2011-06-30 14:40 |
東京 | 機械振興会館 | マグネトロンスパッタ法による薄膜太陽電池用AZO透明導電膜の作製 ○平野友康・野本淳一・宮田俊弘・南 内嗣（金沢工大） EMD2011-13 CPM2011-49 OME2011-27 |
マグネトロンスパッタ法で作製するAl添加酸化亜鉛(AZO)透明導電膜を薄膜太陽電池用透明電極用途へ適合化することを目的と... [more] | EMD2011-13 CPM2011-49 OME2011-27 pp.29-33 |
| CPM | 2010-10-29 11:50 |
長野 | 信州大学 工学部 地域共同研究センター３階研修室 | スパッタ法を用いた有機EL素子用低温堆積ITO薄膜の検討 ○中村陽平・劉 暢・清水英彦・岩野春男・福嶋康夫・永田向太郎（新潟大）・星 陽一（東京工芸大） CPM2010-105 |
本研究では，低温成膜したITO薄膜のデバイス応用への有効性を検討するため，アンバランスドマグネトロンスパッタ法に基板バイ... [more] | CPM2010-105 pp.71-75 |
| US | 2010-09-30 10:50 |
宮城 | 東北大学 工学部 電子情報システム・応物系 南講義棟103会議室 | RFバイアススパッタ法によるc軸平行配向ZnO薄膜の形成 ～ バイアス周波数が配向性に及ぼす影響 ～ ○高柳真司（同志社大）・柳谷隆彦（名工大）・松川真美・渡辺好章（同志社大） US2010-62 |
c軸が基板面と平行かつ一方向に配向した（(11-20)面，(10-10) 面配向）ZnO薄膜を用いた共振子は横波を励振す... [more] | US2010-62 pp.75-80 |
| US | 2009-09-30 09:00 |
北海道 | 祝いの宿 登別グランドホテル 会議室 | c軸傾斜反転配向ZnO多層膜の作製と横波共振子への応用 ○守里直希・高柳真司（同志社大）・柳谷隆彦（名工大）・松川真美・渡辺好章（同志社大） US2009-47 |
本研究では，これまでに電界方向に対してc軸が23°傾いたZnO膜の作製に成功している．この薄膜を用いてc軸の傾斜方向を交... [more] | US2009-47 pp.53-58 |
| US | 2009-09-30 09:50 |
北海道 | 祝いの宿 登別グランドホテル 会議室 | 直線状エロージョンマグネトロンスパッタリングによる(11-20)配向ZnO圧電膜の大面積成膜 ○川本貴之（同志社大/オムロン）・柳谷隆彦（名工大）・松川真美・渡辺好章（同志社大）・森 嘉一・佐々木 昌・大場正利（オムロン） US2009-49 |
これまで，円形エロージョンを有したRFマグネトロンスパッ装置を用いた（11-20）ZnO圧電膜の作製の報告がなされている... [more] | US2009-49 pp.65-70 |
| US | 2009-09-30 11:45 |
北海道 | 祝いの宿 登別グランドホテル 会議室 | LFB超音波材料解析システムによる石英ガラス上のZnO多結晶薄膜の評価 ○近藤貴則・吉田 翔・高麗友輔・大橋雄二・荒川元孝・櫛引淳一（東北大）・藤井 知（セイコーエプソン） US2009-53 |
DCスパッタリング法およびRFマグネトロンスパッタリング法により合成石英ガラス基板上に作製した複数の異なる膜厚のZnO多... [more] | US2009-53 pp.89-94 |
| CPM | 2008-08-04 14:50 |
北海道 | 室蘭工業大学 | 交互積層法によるMg-Ni薄膜の作製 ○清水英彦・平田 真・岡田智弘・岩野春男・川上貴浩（新潟大） CPM2008-43 |
本研究では，マグネトロンスパッタ(MS)法及びスパッタビーム堆積(SBD)法を用いてMg膜とNi膜を交互に積層する方法に... [more] | CPM2008-43 pp.9-14 |
| US | 2007-09-28 13:00 |
宮城 | 東北大学 | (1120)ZnO膜/石英基板構造のSH型SAW伝搬特性 ○田中厚志（同志社大）・柳谷隆彦（東北大）・松川真美・渡辺好章（同志社大） US2007-48 |
これまでに我々は非結晶基板上に(11-20)面配向ZnO膜を作製する技術を確立してきた．この膜にIDTを形成すると，SH... [more] | US2007-48 pp.31-36 |
| CPM | 2006-08-08 11:25 |
岩手 | 岩手大学 | 対向ターゲットマグネトロンスパッタ法による大面積SmBa2Cu3O7-δ薄膜の作製に関する研究 ○高橋幸也・武蔵慎吾・木村 豊・菊地新司・道上 修（岩手大） |
対向ターゲットマグネトロンスパッタ法（MSFT法）により作製した酸化物超伝導薄膜SmBa2Cu3O7-δ(SBCO)の大... [more] | CPM2006-52 pp.63-67 |
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