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 57件中 1~20件目  /  [次ページ]  
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
WPT 2023-11-10
14:50
東京 八丈町商工会
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]学生手作りストレートラジオによるアナログAM放送受信
大平 孝豊橋技科大WPT2023-29
ワイヤレス電力伝送はキロヘルツ帯のみならずメガヘルツ帯やギガヘルツ帯へスペクトル範囲が広がりつつある。高周波帯を用いるワ... [more] WPT2023-29
p.32
SDM, OME
(共催)
2023-04-22
15:00
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]絶縁基板上における非晶質Ge薄膜の金属誘起横方向成長
角田 功高倉健一郎熊本高専SDM2023-15 OME2023-15
本研究室では,絶縁膜上における非晶質Ge薄膜の金属誘起横方向成長について検討している.金属誘起横方向成長は,金属材料を非... [more] SDM2023-15 OME2023-15
pp.55-58
SDM, OME
(共催)
2023-04-22
15:35
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]ガラス基板上のダブルゲート薄膜トランジスタ
原 明人野村海成永吉輝央新田誠英鈴木 翔伊藤悠人東北学院大SDM2023-16 OME2023-16
我々は, ガラス基板上に高性能な薄膜トランジスタ(TFT)を実現することを目標に研究を進めている.本報告では多結晶4族系... [more] SDM2023-16 OME2023-16
pp.59-62
SDM 2022-11-11
09:30
ONLINE オンライン開催 [招待講演]信号電子の混合効果の抑制によるスーパー時間分解を目指して
江藤剛治阪大)・下ノ村和弘安藤妙子松長誠之廣瀬 裕立命館大)・志村考功渡部平司阪大)・鎌倉良成阪工大)・武藤秀樹リンクリサーチSDM2022-71
シリコン(Si)イメージセンサの理論的限界時間分解能は11.1psである1).それ以下の時間分解能をスーパー時間分解(S... [more] SDM2022-71
pp.32-39
OME, SDM
(共催)
2022-04-23
10:20
宮崎 高千穂ホール(宮崎市)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
非晶質Ge薄膜のMg誘起横方向成長におけるMg拡散量の評価
森本敦己阿部陸斗平井杏奈平井杜和高倉健一郎角田 功熊本高専SDM2022-10 OME2022-10
近年,IV半導体を低融点絶縁基板上に形成するために金属触媒を用いた金属誘起固相成長法が広く研究されている.しかし,この手... [more] SDM2022-10 OME2022-10
pp.47-50
SDM 2021-06-22
17:30
ONLINE オンライン開催 熱処理によるAlおよびAg/Ge(111)上の極薄Ge形成と層厚制御
大田晃生松下圭吾田岡紀之牧原克典宮﨑誠一名大SDM2021-29
化学溶液洗浄したGe(111)上にAlを真空蒸着したAl/Ge(111)において、真空熱処理の温度や時間がAl表面に形成... [more] SDM2021-29
pp.27-31
ED, SDM, CPM
(共催)
2021-05-27
13:45
ONLINE オンライン開催 サブミクロン細線構造を用いたSi上Geエピタキシャル層のバンドギャップ制御
下川愛実園井柊平片廻 陸石川靖彦豊橋技科大ED2021-2 CPM2021-2 SDM2021-13
シリコンフォトニクスにおいて,Si上Geエピタキシャル層は光通信用の受光器や光強度変調器の材料として利用されている.Si... [more] ED2021-2 CPM2021-2 SDM2021-13
pp.7-10
OME, IEE-DEI
(連催)
2021-03-01
13:30
ONLINE オンライン開催 [招待講演]鉛フリー錫系ペロブスカイト太陽電池の研究開発動向
早瀬修二電通大OME2020-19
鉛イオンを含むペロブスカイト層を光吸収層として用いる太陽電池の公認効率は25.5%に達し、単結晶シリコン太陽電池の26.... [more] OME2020-19
pp.1-3
EID, ITE-IDY, IEE-EDD
(連催)
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
(連催) [詳細]
2020-01-23
14:10
鳥取 鳥取大鳥取キャンパス [ポスター講演]Mn5+付活M2AO4 (M = Ca, Sr, Ba, A = Si, Ge)近赤外蛍光体
田中翔人石垣 雅財満祐太郎松原航平新田祐大大観光徳鳥取大EID2019-11
固相反応法によりM2AO4:Mn5+(M = Ca,Sr,Ba, A = Si, Ge)の作製を行い,結晶学的特性や発光... [more] EID2019-11
pp.53-56
SDM 2019-06-21
11:40
愛知 名古屋大学 VBL3F 熱処理によるAl/Ge(111)上の極薄Ge層形成
小林征登大田晃生黒澤昌志洗平昌晃田岡紀之池田弥央牧原克典宮﨑誠一名大SDM2019-27
金属薄膜へのゲルマニウム(Ge)の固溶・偏析を利用してGeの二次元結晶を作成することを目的として、Geと共晶反応を示すA... [more] SDM2019-27
pp.11-15
SDM, ED, CPM
(共催)
2019-05-16
13:25
静岡 静岡大学(浜松) Si上Ge層を用いた近赤外pin受光器の暗電流特性
橘 茉優園井柊平石川靖彦豊橋技科大ED2019-11 CPM2019-2 SDM2019-9
超高真空化学気相堆積法によりSi上へエピタキシャル成長したGe層を用い、シリコンフォトニクス用近赤外pin受光器を作製し... [more] ED2019-11 CPM2019-2 SDM2019-9
pp.5-8
SDM, ED, CPM
(共催)
2019-05-16
14:40
静岡 静岡大学(浜松) 貼り合わせSi-on-Quartz基板上にエピタキシャル成長したGe層における格子ひずみと光学物性の評価
野口恭甫豊橋技科大)・西村道治東大)・松井純爾津坂佳幸兵庫県立大)・石川靖彦豊橋技科大ED2019-14 CPM2019-5 SDM2019-12
Si-on-insulator (SOI)上にエピタキシャル成長したGe層は, 光通信波長のC帯(1.530 ~ 1.5... [more] ED2019-14 CPM2019-5 SDM2019-12
pp.21-24
EID, SDM
(共催)
ITE-IDY
(連催) [詳細]
2018-12-25
11:00
京都 龍谷大学 響都ホール 校友会館 プラスチック基板上のダブルゲートCu-MIC多結晶ゲルマニウム薄膜トランジスタ
内海大樹東北学院大)・北原邦紀塚田真也島根大)・鈴木仁志原 明人東北学院大EID2018-4 SDM2018-77
塗布型ポリイミド(PI)上に銅(Cu)を利用した金属誘起結晶化(MIC)を用いて, ダブルゲート(DG)構造の多結晶ゲル... [more] EID2018-4 SDM2018-77
pp.1-4
SDM, OME
(共催)
2018-04-07
11:20
沖縄 沖縄県青年会館 [招待講演]Ⅳ族系薄膜トランジスタの高性能化・高機能化
原 明人内海大樹西口尚希宮崎 僚東北学院大SDM2018-5 OME2018-5
銅(Cu)を利用した金属誘起結晶化(MIC)を用いて自己整合平面型ダブルゲート(DG) 構造および自己整合平面型4端子(... [more] SDM2018-5 OME2018-5
pp.19-24
LQE 2018-02-23
10:35
神奈川 古河電工横浜事業所 [特別招待講演]Si上へのGeのエピタキシャル成長と受光素子応用
石川靖彦豊橋技科大LQE2017-152
Si上へのGe層のエピタキシャル成長および光通信波長域(1.3–1.6 µm)の受光素子への応用について紹介する。Siと... [more] LQE2017-152
pp.7-10
SDM, EID
(共催)
2017-12-22
15:30
京都 京都大学 Cu-MICを用いたガラス基板上のダブルゲート低温多結晶ゲルマニウムスズ薄膜トランジスタ
西口尚希内海弘樹原 明人東北学院大EID2017-24 SDM2017-85
新たな半導体デバイス材料の一つとしてゲルマニウムスズ(GeSn)が注目されている。 薄膜でのGeSnの低温結晶化として銅... [more] EID2017-24 SDM2017-85
pp.67-70
OME, SDM
(共催)
2017-04-20
13:00
鹿児島 龍郷町生涯学習センター 300℃プロセスによって形成した自己整合四端子Cu-MIC poly-Ge TFTの開発
内海大樹佐々木大精関口竣也竹内翔弥原 明人東北学院大SDM2017-1 OME2017-1
IoTやトリリオンセンサ社会の実現に向けてフレキシブルデバイスやウェアラブルデバイスに対する期待が高まっている. これを... [more] SDM2017-1 OME2017-1
pp.1-4
SDM, OME
(共催)
2016-04-08
16:00
沖縄 沖縄県立博物館・美術館 博物館講座室 非熱的エネルギーを用いた非晶質Ge/SiO2の低温固相成長
草野欽太工藤和樹塘内功大坂口大成茂籐健太熊本高専)・本山慎一楠田 豊古田真浩サムコ)・中 庸行沼田朋子堀場製作所)・高倉健一郎角田 功熊本高専SDM2016-8 OME2016-8
シートコンピュータ等への応用を目指し,絶縁膜上における非晶質Ge薄膜の低温固相成長法を検討した.非晶質Ge薄膜の熱的固相... [more] SDM2016-8 OME2016-8
pp.31-34
SDM, OME
(共催)
2016-04-08
16:25
沖縄 沖縄県立博物館・美術館 博物館講座室 大気圧マイクロ熱プラズマジェット結晶化ゲルマニウム膜の電気特性評価及び高性能薄膜トランジスタの作製
中谷太一原田大夢・○東 清一郎広島大SDM2016-9 OME2016-9
大気圧マイクロ熱プラズマジェット(μ-TPJ)を石英基板上のアモルファスゲルマニウム(a-Ge)膜へ照射し形成した結晶(... [more] SDM2016-9 OME2016-9
pp.35-38
OPE
(共催)
OFT, OCS
(併催) [詳細]
2016-02-19
09:00
沖縄 沖縄大学 Si上Ge層を用いた近赤外受光器の高性能化
石川靖彦宮坂祐司伊藤和貴永友 翔和田一実東大OCS2015-107 OFT2015-62 OPE2015-227
超高真空化学気相堆積法によりSi上へエピタキシャル成長したGe層を用い、シリコンフォトニクス 用近赤外受光器を作製した。... [more] OCS2015-107 OFT2015-62 OPE2015-227
pp.39-42(OCS), pp.39-42(OFT), pp.65-68(OPE)
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