お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Ｃの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 開催スケジュール		 技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
    [Japanese] / [English] 
（ 研究会名/開催地/テーマ  ）→
 
（ 講演検索  検索語:  /  範囲:題目 著者 所属 抄録 キーワード ）→

すべての研究会開催スケジュール  (検索条件: すべての年度)

講演検索結果
 登録講演（開催プログラムが公開されているもの）  （日付・降順）
 1件中　1～1件目  /   
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2012-06-21
10:55		 愛知 名古屋大学（ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー） Al2O3/Ge構造への酸素熱処理および酸素ラジカル処理による界面反応機構の解明
○柴山茂久（名大）・加藤公彦（名大/学振）・坂下満男・竹内和歌奈・田岡紀之・中塚　理・財満鎭明（名大） SDM2012-48		 高駆動力 Ge MOSFETの実現には，低界面準位密度（Dit）かつ低SiO2換算膜厚を有するhigh-k絶縁膜/Ge構... [more] SDM2012-48
pp.27-32
 1件中　1～1件目  /   
ダウンロード書式の初期値を指定してください ＮＥＷ！！
テキスト形式 pLaTeX形式 CSV形式 BibTeX形式
著作権について : 以上の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)

[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]
IEICE / 電子情報通信学会