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OPE 2007-12-14
14:40
東京 機械振興会館 高アスペクト比ドライエッチング技術を用いて作製したシリコンフォトニック結晶デバイス
細見和彦東大/光協会/日立)・山田宏治赤松正二東大/光協会)・佐川みすず東大/光協会/日立)・勝山俊夫東大/光協会)・荒川泰彦東大
偏光依存性のないフォトニック結晶デバイス実現のために、高アスペクト比ドライエッチング技術を用いて作製する一次元および三次... [more] OPE2007-139
pp.21-26
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