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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB
(連催)
CPSY, IPSJ-ARC
(連催)
ICD, IE
(共催)
RECONF
(併催) [詳細]
2019-11-15
16:35
愛媛 愛媛県男女共同参画センター 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法
小平行秀東 梨奈会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2019-53 DC2019-77
製造プロセスの微細化のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する... [more] VLD2019-53 DC2019-77
pp.197-202
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