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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SS 2017-03-09
11:25
沖縄 てんぶす那覇 バグ予測に向けたJavaメソッドの名前と実装の特徴の関係に関する考察
鈴木 翔阿萬裕久川原 稔愛媛大SS2016-64
本稿では,Javaプログラムにおけるメソッドについて,
その名前といくつかの実装上の特徴に着目した品質評価法に関する検... [more]
SS2016-64
pp.25-30
IE, ITS
(共催)
ITE-AIT, ITE-HI, ITE-ME, ITE-MMS, ITE-CE
(共催)
(連催) [詳細]
2017-02-20
10:30
北海道 北海道大学 オンライン動画学習サービスにおける閲覧数・離脱率の推定
福島悠介山崎俊彦相澤清晴東大)・森 健志郎鈴木顕照Schoo
近年,UdacityやCourseraといったインターネット上で誰もが講義を受講できるサービス(Massive Open... [more]
KBSE, SS
(共催)
IPSJ-SE
(連催) [詳細]
2016-07-14
16:50
北海道 北海道立道民活動センター メソッド名の長さと構成に着目したソースコード品質に関する定量的調査
鈴木 翔阿萬裕久川原 稔愛媛大SS2016-14 KBSE2016-20
 [more] SS2016-14 KBSE2016-20
pp.137-142
SID-JC, IEIJ-SSL
(共催)
EID, ITE-IDY, IEE-EDD
(連催) [詳細]
2016-01-29
10:20
富山 富山大学 AlGaNナノリングによるバイオセンシング動作
武島歩志光野徹也鈴木 翔静岡大)・酒井 優山梨大)・菊池昭彦岸野克巳上智大)・原 和彦静岡大EID2015-36
 [more] EID2015-36
pp.89-91
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
EID, ITE-IDY, IEE-EDD
(連催) [詳細]
2015-01-23
11:02
京都 龍谷大学響都ホール校友会館 トップダウンによる三角形状GaNマイクロディスクの光学特性に関する検討
鈴木 翔光野徹也静岡大)・酒井 優山梨大)・岸野克巳上智大)・原 和彦静岡大EID2014-53
一辺1.5 umから4.4 um、高さ1.2 um程度の三角形状GaNマイクロディスクを三角格子状に配列したマイクロディ... [more] EID2014-53
pp.103-105
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
EID, ITE-IDY, IEE-EDD
(連催) [詳細]
2015-01-23
11:10
京都 龍谷大学響都ホール校友会館 六角形状GaNマイクロディスクレーザの光放射特性の検討
光野徹也鈴木 翔静岡大)・酒井 優山梨大)・岸野克巳上智大)・原 和彦静岡大EID2014-54
六角形状GaNマイクロディスクとは一辺が1.5um、厚さ250nm程度の高品質GaN結晶である。本構造はウィスパリングモ... [more] EID2014-54
pp.107-109
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
EID, ITE-IDY, IEE-EDD
(連催) [詳細]
2014-01-24
14:26
新潟 新潟大学 駅南キャンパス トップダウンによる六角形状GaNマイクロディスクアレイからの光励起発振
鈴木 翔光野徹也静岡大)・山野晃司岸野克巳上智大)・原 和彦静岡大EID2013-15
電子線描画と反応性イオンエッチングにより、GaN薄膜を微細加工することで、一辺1.5 um、高さ900 nm程度の六角形... [more] EID2013-15
pp.29-31
SS 2010-08-05
16:00
北海道 旭川市民文化会館 高階書換え系における引数切り落とし法と実効規則
鈴木 翔草刈圭一朗名大)・フレデリック ブランキINRIASS2010-24
静的依存対法は高階書換え系の停止性証明法である.
この手法は一階の書換え系上で提案された依存対法と型付き$\lambd... [more]
SS2010-24
pp.47-52
SS 2009-12-17
15:50
香川 香川大学幸町キャンパス 高階書換え系における引数切り落とし法と実効規則
鈴木 翔草刈圭一朗坂部俊樹酒井正彦西田直樹名大SS2009-39
項書換え系(TRS)の拡張として高階関数を直接扱える単純型付き項書換え系(STRS)や
さらに$\lambda$抽象も... [more]
SS2009-39
pp.25-30
SDM 2007-06-08
13:35
広島 広島大学(学士会館) Ge/High-k膜の界面反応に着目した電気特性の制御
喜多浩之能村英幸鈴木 翔高橋俊岳西村知紀鳥海 明東大SDM2007-47
High-k/Ge MISキャパシタの電気特性はHigh-k材料によって大きく異なっている.HfO2/Geは600℃での... [more] SDM2007-47
pp.85-90
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