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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2015-06-19 11:10 |
愛知 | 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー | ［依頼講演］SiC/SiO2界面における窒素化学状態の結晶面方位依存性 ○森 大輔・井上 慧・寺西秀明・広瀬隆之・瀧川亜樹（富士電機）  SDM2015-42 |
SiC(000-1)面（C面）、SiC(0001)面（Si面）それぞれのSiC/SiO2界面の原子構造を明らかにするため... [more] | SDM2015-42 pp.21-26 |
| SDM | 2011-07-04 10:40 |
愛知 | 名古屋大学（ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー） | Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価 ○大野真也・井上 慧・森本真弘・新江定憲・豊島弘明（横浜国大）・吉越章隆・寺岡有殿（原子力機構）・尾形祥一（横浜国大）・安田哲二（産総研）・田中正俊（横浜国大） SDM2011-54 |
面方位(113)、(120)のシリコン高指数面の初期酸化過程を光電子分光法を用いて調べた。酸化状態Sin+(n=1-4)... [more] | SDM2011-54 pp.23-27 |
| NC, MBE (併催) |
2008-03-12 13:30 |
東京 | 玉川大学 | 確率伝搬法を用いたEMアルゴリズムによる画像処理 ○井上 佳・安田宗樹・田中和之（東北大） NC2007-118 |
マルコフ確率場による確率的画像処理におけるEMアルゴリズムを確率伝搬法を用いて構成する．事前確率としては$Q$-イジング... [more] | NC2007-118 pp.37-42 |
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