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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2016-01-22 11:15 |
東京 | 東京大学 山上会館 | アミドネート1価Cu錯体を用いた超臨界流体中Cu堆積 ○Md Rasadujjaman・渡邉満洋（山梨大）・須藤 弘・町田英明（気相成長）・近藤英一（山梨大）  SDM2015-110 |
[more] | SDM2015-110 pp.9-12 |
| SDM | 2014-10-17 11:10 |
宮城 | 東北大学未来研 | MOCVD法によるGeおよびGe1-xSnxのエピタキシャル成長 ○須田耕平・石原聖也・木嶋隆浩・澤本直美（明大）・町田英明・石川真人・須藤 弘（気相成長）・大下祥雄（豊田工大）・小椋厚志（明大） SDM2014-91 |
GeおよびGe1-xSnxは、高移動度トランジスタ、IV族光デバイス等への応用が期待されている。 我々は、t-C4H9... [more] |
SDM2014-91 pp.41-45 |
| CPM | 2010-07-30 09:55 |
北海道 | 道の駅しゃり 会議室 | TDEAV原料を用いたVNx膜のALD成膜 ○武山真弓・佐藤 勝（北見工大）・須藤 弘・町田英明（気相成長）・伊藤 俊・青柳英二（東北大）・野矢 厚（北見工大） CPM2010-37 |
Si-ULSIのCu多層配線において、さらなるバリヤ膜の極薄化と低抵抗化が望まれている。一方、我々は先の研究で反応性スパ... [more] | CPM2010-37 pp.35-38 |
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