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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM 2016-11-19
10:20
石川 金沢工大 扇が丘キャンパス Cuプラグに適用可能なTiHfN合金膜のバリヤ特性
佐藤 勝北見工大)・青柳英二東北大)・野矢 厚武山真弓北見工大CPM2016-70
 [more] CPM2016-70
pp.45-48
CPM 2016-07-22
16:30
愛媛 愛媛大学工学部本館3階会議室 薄いHfNx膜上のCu(111)面高配向成長
佐藤 勝北見工大)・青柳英二東北大)・武山真弓北見工大CPM2016-27
 [more] CPM2016-27
pp.15-18
CPM 2015-11-06
15:15
新潟 まちなかキャンパス長岡 ラジカル窒化による遷移金属窒化物の有用性
武山真弓佐藤 勝北見工大)・青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2015-89
我々は、遷移金属窒化物を用いて、スパッタとラジカル処理を組み合わせた新たな手法の有用性と問題点を反応性スパッタによって得... [more] CPM2015-89
pp.27-30
CPM 2013-08-02
10:55
北海道 釧路生涯学習センターまなぼっと幣舞 シリコン貫通ビアに適用可能なナノ結晶組織を有するHfNx膜のバリヤ特性
佐藤 勝武山真弓北見工大)・青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2013-51
高性能な3次元LSIを実現するためには、シリコン貫通ビア配線(TSV)が重要な要素技術となる。我々は、TSVに適用できる... [more] CPM2013-51
pp.63-68
CPM 2012-08-09
09:25
山形 山形大学工学部100周年記念会館セミナー室 反応性スパッタによるZrNxナノ結晶バリヤ膜の形成過程
佐藤 勝武山真弓北見工大)・青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2012-44
Cu多層配線は微細化に伴い、数nmオーダーの膜厚の拡散バリヤ膜が要請され、かつ優れたバリヤ性を実現する必要がある。我々は... [more] CPM2012-44
pp.45-49
CPM 2010-07-30
09:30
北海道 道の駅しゃり 会議室 ラジカル反応を応用したZrNx膜の低温作製
佐藤 勝武山真弓北見工大)・早坂祐一郎青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2010-36
3次元実装によるSi-ULSI の集積度の向上に必要なSi 貫通ビア配線に適用可能な低温での拡散バリヤの新たな成膜手法と... [more] CPM2010-36
pp.29-34
CPM 2010-07-30
09:55
北海道 道の駅しゃり 会議室 TDEAV原料を用いたVNx膜のALD成膜
武山真弓佐藤 勝北見工大)・須藤 弘町田英明気相成長)・伊藤 俊青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2010-37
Si-ULSIのCu多層配線において、さらなるバリヤ膜の極薄化と低抵抗化が望まれている。一方、我々は先の研究で反応性スパ... [more] CPM2010-37
pp.35-38
CPM 2009-08-11
10:50
青森 弘前大学 ZrBx薄膜の特性評価とCu多層配線への応用
武山真弓佐藤 勝北見工大)・早坂祐一郎青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2009-43
先に我々は、ZrB2 という新たな材料の基本的な特性を評価したが、その際ZrB2 膜は、下地基板の導電性によって、その抵... [more] CPM2009-43
pp.51-55
CPM 2009-08-11
11:15
青森 弘前大学 3次元Si貫通ビアに適用可能なバリヤ膜の新規成膜手法の有用性 ~ 低温作製されたZrNx膜の特性評価 ~
佐藤 勝武山真弓北見工大)・早坂祐一郎青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2009-44
Si-ULSI の3 次元Si 貫通ビア配線にとって,最も重要な要件の一つが200℃以下の低温プロセスである.本研究では... [more] CPM2009-44
pp.57-60
CPM 2006-11-09
16:10
石川 金沢大学 Cu/ZrN/SiOC/Si構造の熱的安定性と界面モフォロジーの検討
野矢 厚佐藤 勝武山真弓北見工大)・青柳英二東北大
 [more] CPM2006-119
pp.37-40
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