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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2011-10-21
09:00
宮城 東北大学未来研 [招待講演]角度分解硬X線光電子分光法によるHfO2/Si/歪みGe/SiGe構造の評価
野平博司小松 新那須賢太郎星 裕介榑林 徹澤野憲太郎東京都市大)・マクシム ミロノフWarwick大)・白木靖寛東京都市大SDM2011-103
Si-cap層の厚さとHfO2堆積後の熱処理(PDA)が,HfO2/Si-cap/歪みGe/Si0.5Ge0.5/Si ... [more] SDM2011-103
pp.37-41
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