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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| EMCJ | 2021-04-16 13:05 |
ONLINE | オンライン開催 | Co-Zr-Nb膜の負の透磁率によるマイクロストリップ線路間のクロストークへの影響 ○小林拓真・室賀 翔・田中元志（秋田大）・遠藤 恭・枦 修一郎・石山和志（東北大）・直江正幸（電磁材料研）  EMCJ2021-1 |
[more] | EMCJ2021-1 pp.1-5 |
| EMCJ | 2014-03-14 14:25 |
東京 | 機械振興会館 | 磁性薄膜による暗号LSIの情報漏えい低減効果に関する検討 ○大友真紀子・荒井 薫・伊藤哲夫・遠藤 恭・山口正洋・林 優一・曽根秀昭・本間尚文・青木孝文（東北大） EMCJ2013-134 |
暗号LSIにおける瞬時電流は暗号鍵に応じて変化するため，瞬時電流によって生じる近傍磁界は暗号鍵の解読を目的とした差分電磁... [more] | EMCJ2013-134 pp.11-16 |
| EMCJ, MW, EST (共催) IEE-EMC (連催) [詳細] |
2013-10-24 17:05 |
宮城 | 東北大 青葉山キャンパス | ［招待講演］磁性体とICチップレべルEMC ○山口正洋・室賀 翔・遠藤 恭（東北大）・永田 真（神戸大）・田中 聡（東北大） EMCJ2013-76 MW2013-116 EST2013-68 |
LTE(Long Term Evolution)世代以降の携帯端末では、デジタルアシスト技術による Si-CMOS RF... [more] | EMCJ2013-76 MW2013-116 EST2013-68 pp.87-92 |
| EMCJ, ITE-BCT (連催) |
2013-03-08 15:55 |
東京 | 機械振興会館 | LTE級RFICにおける新しい帯域内スプリアス抑制法の提案 ～ バックエンドプロセスによる磁性薄膜集積化 ～ ○室賀 翔・遠藤 恭・伊藤哲夫・田中 聡（東北大）・村上元己・堀 和明（ルネサス エレクトロニクス）・高橋 覚（ルネサスモバイル）・東 直矢・永田 真（神戸大）・山口正洋（東北大） EMCJ2012-133 |
[more] | EMCJ2012-133 pp.91-95 |
| EMCJ | 2012-04-20 14:45 |
石川 | 金沢大学角間キャンパス | LSIチップ上に集積化した磁性薄膜電磁ノイズ抑制体のイントラデカップリング効果 ○室賀 翔・小舘 航・遠藤 恭・山口正洋（東北大） EMCJ2012-6 |
本研究では，薄膜電磁ノイズ抑制体の誘導性結合を評価するため，IEC規格で定められたノイズ抑制シートの評価方法に基づいた測... [more] | EMCJ2012-6 pp.31-36 |
| ICD, ITE-IST (連催) |
2011-07-22 11:15 |
広島 | 広島工業大学 | ［招待講演］LTE級携帯端末におけるRFIC受信部の低ノイズ化技術 ～ 近傍磁界ノイズ計測・対策の立場から ～ ○山口正洋・遠藤 恭（東北大）・永田 真（神戸大） ICD2011-30 |
[more] | ICD2011-30 pp.85-90 |
| ITE-MMS, MRIS (連催) |
2010-12-10 09:30 |
愛媛 | 愛媛大学 総合メディアセンター | ［招待講演］CPW-FMR測定法による磁性薄膜のダンピング定数の評価 ○遠藤 恭・三束芳央・大川耕平・島田 寛・山口正洋（東北大） MR2010-49 |
最近急速に発展している磁気記録およびスピントロニクス分野では，Ni-Fe薄膜の高速磁化反転の機構解明が重要な研究課題の一... [more] | MR2010-49 pp.51-58 |
| EMCJ | 2009-09-04 09:30 |
京都 | けいはんなプラザ | 半導体素子レベル低ノイズ化を目的としたオンチップ伝送線路における磁性薄膜電磁ノイズ抑制体の基礎特性評価 ○室賀 翔・遠藤 恭・鈴木 充・稲垣孝嘉・三束芳央・山口正洋（東北大） EMCJ2009-36 |
チップ上の電源配線を想定し，SOI-CMOSプロセスにより線幅10 μm程度のコプレーナ伝送線路とマイクロストリップ線路... [more] | EMCJ2009-36 pp.7-12 |
| ITE-MMS, ITE-CE, MRIS (共催) |
2009-01-15 14:30 |
大阪 | パナソニック 松心会館 | 狭窄構造を有するNi-Fe磁性細線における磁壁の挙動の評価 ○永山達郎・野村 光（阪大）・遠藤 恭（東北大）・中谷亮一（阪大） MR2008-53 |
本研究では，狭窄構造を有するNi-20at%Fe磁性細線の磁化反転過程およびその際の磁壁の挙動について検討した．磁化状態... [more] | MR2008-53 pp.17-21 |
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