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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
EMCJ 2021-04-16
13:05
ONLINE オンライン開催 Co-Zr-Nb膜の負の透磁率によるマイクロストリップ線路間のクロストークへの影響
小林拓真室賀 翔田中元志秋田大)・遠藤 恭枦 修一郎石山和志東北大)・直江正幸電磁材料研EMCJ2021-1
 [more] EMCJ2021-1
pp.1-5
EMCJ 2014-03-14
14:25
東京 機械振興会館 磁性薄膜による暗号LSIの情報漏えい低減効果に関する検討
大友真紀子荒井 薫伊藤哲夫遠藤 恭山口正洋林 優一曽根秀昭本間尚文青木孝文東北大EMCJ2013-134
暗号LSIにおける瞬時電流は暗号鍵に応じて変化するため,瞬時電流によって生じる近傍磁界は暗号鍵の解読を目的とした差分電磁... [more] EMCJ2013-134
pp.11-16
EMCJ, IEE-EMC, MW, EST
(連催) [詳細]
2013-10-24
17:05
宮城 東北大 青葉山キャンパス [招待講演]磁性体とICチップレべルEMC
山口正洋室賀 翔遠藤 恭東北大)・永田 真神戸大)・田中 聡東北大EMCJ2013-76 MW2013-116 EST2013-68
LTE(Long Term Evolution)世代以降の携帯端末では、デジタルアシスト技術による Si-CMOS RF... [more] EMCJ2013-76 MW2013-116 EST2013-68
pp.87-92
EMCJ, ITE-BCT
(連催)
2013-03-08
15:55
東京 機械振興会館 LTE級RFICにおける新しい帯域内スプリアス抑制法の提案 ~ バックエンドプロセスによる磁性薄膜集積化 ~
室賀 翔遠藤 恭伊藤哲夫田中 聡東北大)・村上元己堀 和明ルネサス エレクトロニクス)・高橋 覚ルネサスモバイル)・東 直矢永田 真神戸大)・山口正洋東北大EMCJ2012-133
 [more] EMCJ2012-133
pp.91-95
EMCJ 2012-04-20
14:45
石川 金沢大学角間キャンパス LSIチップ上に集積化した磁性薄膜電磁ノイズ抑制体のイントラデカップリング効果
室賀 翔小舘 航遠藤 恭山口正洋東北大EMCJ2012-6
本研究では,薄膜電磁ノイズ抑制体の誘導性結合を評価するため,IEC規格で定められたノイズ抑制シートの評価方法に基づいた測... [more] EMCJ2012-6
pp.31-36
ICD, ITE-IST
(連催)
2011-07-22
11:15
広島 広島工業大学 [招待講演]LTE級携帯端末におけるRFIC受信部の低ノイズ化技術 ~ 近傍磁界ノイズ計測・対策の立場から ~
山口正洋遠藤 恭東北大)・永田 真神戸大ICD2011-30
 [more] ICD2011-30
pp.85-90
ITE-MMS, MRIS
(連催)
2010-12-10
09:30
愛媛 愛媛大学 総合メディアセンター [招待講演]CPW-FMR測定法による磁性薄膜のダンピング定数の評価
遠藤 恭三束芳央大川耕平島田 寛山口正洋東北大MR2010-49
最近急速に発展している磁気記録およびスピントロニクス分野では,Ni-Fe薄膜の高速磁化反転の機構解明が重要な研究課題の一... [more] MR2010-49
pp.51-58
EMCJ 2009-09-04
09:30
京都 けいはんなプラザ 半導体素子レベル低ノイズ化を目的としたオンチップ伝送線路における磁性薄膜電磁ノイズ抑制体の基礎特性評価
室賀 翔遠藤 恭鈴木 充稲垣孝嘉三束芳央山口正洋東北大EMCJ2009-36
チップ上の電源配線を想定し,SOI-CMOSプロセスにより線幅10 μm程度のコプレーナ伝送線路とマイクロストリップ線路... [more] EMCJ2009-36
pp.7-12
ITE-MMS, ITE-CE, MRIS
(共催)
2009-01-15
14:30
大阪 パナソニック 松心会館 狭窄構造を有するNi-Fe磁性細線における磁壁の挙動の評価
永山達郎野村 光阪大)・遠藤 恭東北大)・中谷亮一阪大MR2008-53
本研究では,狭窄構造を有するNi-20at%Fe磁性細線の磁化反転過程およびその際の磁壁の挙動について検討した.磁化状態... [more] MR2008-53
pp.17-21
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