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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2017-10-26 09:30 |
宮城 | 東北大学未来研 | ［招待講演］ビックデータの活用によるメモリ製造革新 ～ 半導体製造の歩留解析支援システム ～ ○赤堀浩史（東芝メモリ）・中田康太・折原良平・水岡良彰・高木健太郎（東芝）・門多健一・西村孝治・田中祐加子・江口英孝（東芝メモリ）  SDM2017-55 |
半導体製造における歩留解析では，製品の品質検査結果と各工程の処理装置履歴から不良の原因装置を特定し，対策に繋げることで生... [more] | SDM2017-55 pp.31-33 |
| SDM | 2010-10-21 17:40 |
宮城 | 東北大学 | 薄膜アモルファスシリコンの低温結晶化 ○岩鍜治陽子・広田 潤・矢吹 宗・石田浩一・金子和香奈・水島一郎・赤堀浩史（東芝） SDM2010-158 |
センサー、太陽電池、液晶など様々な製品にポリシリコンが多用されている。近年、それらデバイスに対し薄膜ポリシリコン層を用い... [more] | SDM2010-158 pp.31-34 |
| SDM | 2009-10-30 13:00 |
宮城 | 東北大学 | SiO2膜におけるRIEダメージの修復 ○川田宣仁・永嶋賢史・市川 徹・赤堀浩史（東芝） SDM2009-129 |
MOSデバイスの微細化が進むにつれてゲート加工によるRIE（Reactive Ion Etching）ダメージの影響がよ... [more] | SDM2009-129 pp.51-56 |
| SDM | 2009-10-30 14:00 |
宮城 | 東北大学 | 低温形成SiO2膜の電気的特性向上に関する検討 ○永島幸延・赤堀浩史（東芝） SDM2009-131 |
現在、MOSトランジスタにおいて、微細化が進むにつれて低抵抗電極材として、メタルゲートの利用が注目されている。メタルゲー... [more] | SDM2009-131 pp.63-67 |
| SDM | 2008-10-10 15:45 |
宮城 | 東北大学 | シリコン酸化膜中に取り込まれたドーパントの影響 ○永嶋賢史・赤堀浩史（東芝） SDM2008-166 |
一般的なメモリやCMOSプロセスにおいては、拡散層やゲート電極にリンやボロン、砒素等の不純物をドープしたシリコン材料が用... [more] | SDM2008-166 pp.63-68 |
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