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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM 2009-09-25
14:00
東京 機械振興会館 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性を利用した積層導波路型光メモリ
香取重尊池之上卓己藤田静雄京大)・平林克彦神原浩久NTT)・栗原 隆九州先端科学技研CPM2009-85
二光子吸収効率の向上を目的としてフェニル基(フェニレン型)およびチェニル基(チェニレン型)を導入した有機ホウ素ポリマーを... [more] CPM2009-85
pp.13-17
EMD 2008-12-19
14:45
東京 玉川大学 有機ホウ素ポリマーを用いた二光子吸収型光メモリ装置
池之上卓己香取重尊藤田静雄京大)・神原浩久平林克彦NTT)・栗原 隆NTT/九州先端科学技研EMD2008-109
有機ホウ素ポリマーを用いて二光子吸収型の光メモリ装置を作製した.単層の光メモリ媒体を用意し,基本的なデータ記録・再生実験... [more] EMD2008-109
pp.17-21
CPM, LQE, OPE, EMD
(共催)
2007-08-23
13:15
北海道 北海道大学 二光子吸収特性を利用した有機ホウ素化合物の導波路構造型多層光メモリへの応用
香取重尊石塚知明岡田真理子藤田静雄京大)・神原浩久平林克彦八木生剛NTT)・栗原 隆京大/NTTEMD2007-33 CPM2007-54 OPE2007-71 LQE2007-34
我々は有機ホウ素ポリマーが高い二光子吸収特性を有することに注目し、三次元光メモリへの応用を検討している。有機ホウ素ポリマ... [more] EMD2007-33 CPM2007-54 OPE2007-71 LQE2007-34
pp.23-26
EMD, CPM, OME
(共催)
2007-06-29
14:05
東京 機械振興会館 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
森 裕平神原浩久平林克彦NTT)・栗原 隆NTT/京大)・清水正毅檜山爲次郎京大EMD2007-12 CPM2007-30 OME2007-16
二段階吸収材料にオリゴチオフェン、エネルギ受容体に芳香族アジドを、そして分散媒体に各種ポリマーを選んで二段階吸収型のホロ... [more] EMD2007-12 CPM2007-30 OME2007-16
pp.1-6
EMD 2006-12-15
14:40
東京 機械振興会館 有機ホウ素ポリマーの二光子吸収結合断裂
堀口嵩浩藤田静雄京大)・山雄健史堀田 収京都工繊大)・神原浩久栗原 隆NTT)・藤野正家群馬高専)・長田裕也中條善樹京大)・秋山誠治竹ノ内久美子前田修一三菱化学
 [more] EMD2006-60
pp.15-19
EMD, CPM, LQE, OPE
(共催)
2006-08-25
11:10
北海道 千歳アルカディア・プラザ 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性
山雄健史堀田 収京都工繊大)・堀口嵩浩藤田静雄京大)・神原浩久森 裕平栗原 隆NTT)・藤野正家群馬高専)・長田裕也中條善樹京大)・秋山誠治竹ノ内久美子前田修一三菱化学科学技研センター
二光子吸収型3次元光メモリ材料への応用を目指し、二光子吸収過程により分子の結合断裂を生じる有機ホウ素化合物材料を用いて、... [more] EMD2006-39 CPM2006-69 OPE2006-81 LQE2006-46
pp.75-79
EMD, CPM, LQE, OPE
(共催)
2006-08-25
11:35
北海道 千歳アルカディア・プラザ オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体Ⅱ
森 裕平神原浩久平林克彦NTT)・栗原 隆NTT/京大)・安達昌文佐々木 豊前田修一三菱化学)・清水正毅檜山爲次郎京大
オリゴチオフェンと芳香族アジドDZDSを利用した、二段階吸収型のホログラムメモリ用材料を提案し、それぞれの分子の励起状態... [more] EMD2006-40 CPM2006-70 OPE2006-82 LQE2006-47
pp.81-86
CPM, EMD, OME
(共催)
2006-06-30
14:00
東京 機械振興会館 オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体
森 裕平神原浩久平林克彦NTT)・栗原 隆NTT/京大)・安達昌文佐々木 豊前田修一三菱化学)・清水正毅檜山為次郎京大
三次元多層光メモリの実現を目的として、二段階の光吸収によるメモリ材料について調べた。二段階光吸収材料としてオリゴチオフェ... [more] EMD2006-9 CPM2006-33 OME2006-43
pp.23-27
CPM, EMD, OME
(共催)
2006-06-30
14:50
東京 機械振興会館 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性
堀口嵩浩藤田静雄京大)・山雄健史堀田 収京都工繊大)・神原浩久栗原 隆中野秀俊森 裕平NTT)・大須賀篤弘長田裕也中條善樹京大)・秋山誠治前田修一三菱化学
大容量 3次元光メモリの実現のため,高効率二光子吸収(TPA)材料に期待が集まっている.今回,大環
状分子であるポルフ... [more]
EMD2006-11 CPM2006-35 OME2006-45
pp.33-38
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