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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2024-01-31
14:05
東京 金沢工業大学大学院 虎ノ門キャンパス
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]CBA(CMOS Directly Bonded to Array)技術を適用した、インターフェース速度3.2Gbps・プログラム速度205MB/sの高性能3次元フラッシュメモリ
小林茂樹田代健二峯村洋一中上恒平有田幸司大橋貴志キオクシア)・舟山幸太酒井久弥虫賀満輝岡部堅一菅野善宏清水 悟藤倉栄一中江彰宏山口謙介ウエスタンデジタル)・山脇秀之中嶋一明佐藤 充キオクシアSDM2023-77
 [more] SDM2023-77
pp.13-16
SDM 2011-02-07
16:25
東京 機械振興会館 メタルハードマスクプロセスを用いた32nm以細対応ELK配線技術
松本 晋原田剛史森永泰規稲垣大介柴田潤一田代健二可部達也岩崎晃久平尾秀司筒江 誠野村晃太郎瀬尾光平樋野村 徹虎澤直樹鈴木 繁パナソニックSDM2010-226
ELK(Extremely Low-k, k=2.4)を用いた高性能な32nm世代多層配線を開発した。その新規主要技術は... [more] SDM2010-226
pp.59-63
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