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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2016-06-29 10:20 |
東京 | キャンパス・イノベーションセンター東京 | ［依頼講演］HfO2基強誘電体薄膜の作製と特性評価 ○舟窪 浩・清水荘雄・片山きりは・三村和仙（東工大）  SDM2016-33 |
HfO2基強誘電体について、エピタキシャル膜を作製した。X線回折での構成相の解析方法を検討し、強誘電相の解析方法を確立し... [more] | SDM2016-33 pp.5-8 |
| MRIS, ITE-MMS, IEE-MAG (連催) |
2016-03-04 13:10 |
愛知 | 名古屋大学 | 強誘電性Y:HfO2薄膜におけるナノスケールドメイン反転 ○陳 舟・平永良臣（東北大）・清水荘雄・片山きりは・三村和仙・舟窪 浩（東工大）・長 康雄（東北大） MR2015-34 |
近年，Y:HfO2薄膜など，酸化ハフニウム薄膜の強誘電性が相続き証明された．しかしながら，これまでの研究では，直接的に強... [more] | MR2015-34 pp.29-32 |
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