| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2007-06-29 14:05 |
東京 | 機械振興会館 | 二段階吸収型ホログラフィック記録材料 ○森 裕平・神原浩久・平林克彦（NTT）・栗原 隆（NTT/京大）・清水正毅・檜山爲次郎（京大）  EMD2007-12 CPM2007-30 OME2007-16 |
二段階吸収材料にオリゴチオフェン、エネルギ受容体に芳香族アジドを、そして分散媒体に各種ポリマーを選んで二段階吸収型のホロ... [more] | EMD2007-12 CPM2007-30 OME2007-16 pp.1-6 |
| EMD, CPM, LQE, OPE (共催) |
2006-08-25 11:35 |
北海道 | 千歳アルカディア・プラザ | オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体Ⅱ ○森 裕平・神原浩久・平林克彦（NTT）・栗原 隆（NTT/京大）・安達昌文・佐々木 豊・前田修一（三菱化学）・清水正毅・檜山爲次郎（京大） |
オリゴチオフェンと芳香族アジドDZDSを利用した、二段階吸収型のホログラムメモリ用材料を提案し、それぞれの分子の励起状態... [more] | EMD2006-40 CPM2006-70 OPE2006-82 LQE2006-47 pp.81-86 |
| CPM, EMD, OME (共催) |
2006-06-30 14:00 |
東京 | 機械振興会館 | オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体 ○森 裕平・神原浩久・平林克彦（NTT）・栗原 隆（NTT/京大）・安達昌文・佐々木 豊・前田修一（三菱化学）・清水正毅・檜山為次郎（京大） |
三次元多層光メモリの実現を目的として、二段階の光吸収によるメモリ材料について調べた。二段階光吸収材料としてオリゴチオフェ... [more] | EMD2006-9 CPM2006-33 OME2006-43 pp.23-27 |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]