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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
EMD, CPM, OME
(共催)
2008-06-27
11:20
東京 機械振興会館 ポリアセチレンにおける荷電ソリトンの運動
森 裕平NTTEMD2008-13 CPM2008-32 OME2008-34
高濃度ドープしたトランスポリアセチレンについて、過去の研究例の考察と数値計算から、荷電ソリトンが格子をつくる構造をしてお... [more] EMD2008-13 CPM2008-32 OME2008-34
pp.13-18
EMD, CPM, OME
(共催)
2007-06-29
14:05
東京 機械振興会館 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
森 裕平神原浩久平林克彦NTT)・栗原 隆NTT/京大)・清水正毅檜山爲次郎京大EMD2007-12 CPM2007-30 OME2007-16
二段階吸収材料にオリゴチオフェン、エネルギ受容体に芳香族アジドを、そして分散媒体に各種ポリマーを選んで二段階吸収型のホロ... [more] EMD2007-12 CPM2007-30 OME2007-16
pp.1-6
EMD, CPM, LQE, OPE
(共催)
2006-08-25
11:10
北海道 千歳アルカディア・プラザ 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性
山雄健史堀田 収京都工繊大)・堀口嵩浩藤田静雄京大)・神原浩久森 裕平栗原 隆NTT)・藤野正家群馬高専)・長田裕也中條善樹京大)・秋山誠治竹ノ内久美子前田修一三菱化学科学技研センター
二光子吸収型3次元光メモリ材料への応用を目指し、二光子吸収過程により分子の結合断裂を生じる有機ホウ素化合物材料を用いて、... [more] EMD2006-39 CPM2006-69 OPE2006-81 LQE2006-46
pp.75-79
EMD, CPM, LQE, OPE
(共催)
2006-08-25
11:35
北海道 千歳アルカディア・プラザ オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体Ⅱ
森 裕平神原浩久平林克彦NTT)・栗原 隆NTT/京大)・安達昌文佐々木 豊前田修一三菱化学)・清水正毅檜山爲次郎京大
オリゴチオフェンと芳香族アジドDZDSを利用した、二段階吸収型のホログラムメモリ用材料を提案し、それぞれの分子の励起状態... [more] EMD2006-40 CPM2006-70 OPE2006-82 LQE2006-47
pp.81-86
CPM, EMD, OME
(共催)
2006-06-30
14:00
東京 機械振興会館 オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体
森 裕平神原浩久平林克彦NTT)・栗原 隆NTT/京大)・安達昌文佐々木 豊前田修一三菱化学)・清水正毅檜山為次郎京大
三次元多層光メモリの実現を目的として、二段階の光吸収によるメモリ材料について調べた。二段階光吸収材料としてオリゴチオフェ... [more] EMD2006-9 CPM2006-33 OME2006-43
pp.23-27
CPM, EMD, OME
(共催)
2006-06-30
14:50
東京 機械振興会館 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性
堀口嵩浩藤田静雄京大)・山雄健史堀田 収京都工繊大)・神原浩久栗原 隆中野秀俊森 裕平NTT)・大須賀篤弘長田裕也中條善樹京大)・秋山誠治前田修一三菱化学
大容量 3次元光メモリの実現のため,高効率二光子吸収(TPA)材料に期待が集まっている.今回,大環
状分子であるポルフ... [more]
EMD2006-11 CPM2006-35 OME2006-45
pp.33-38
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