| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM, VLD (共催) |
2007-10-30 14:10 |
東京 | 機械振興会館 | シミュレーションを用いた微小MOSFETにおける寄生抵抗の解析および抽出方法の検討 ○辻井秀二・外園 明・藤原 実・川中 繁・東 篤志・青木伸俊・豊島義明（東芝）  VLD2007-56 SDM2007-200 |
[more] | VLD2007-56 SDM2007-200 pp.27-32 |
| ICD, SDM (共催) |
2007-08-24 10:20 |
北海道 | 北見工業大学 | ［特別招待講演］32nm世代以降のCMOS向けメタルゲート/High-k絶縁膜技術の導入によるMOSFET特性の変化 ○小山正人・小池正浩・上牟田雄一・鈴木正道・辰村光介・土屋義規・市原玲華・後藤正和・長友浩二・東 篤志・川中 繁・中嶋一明・関根克行（東芝） SDM2007-159 ICD2007-87 |
MOSFET性能向上を阻害するゲート絶縁膜薄膜化の物理限界を打破するために、従来のSiO2(SiON)よりも比誘電率の高... [more] | SDM2007-159 ICD2007-87 pp.101-106 |
| ICD, SDM (共催) |
2007-08-24 14:50 |
北海道 | 北見工業大学 | ストレス技術を加えた不純物偏析Schottkyソース/ドレイントランジスタを用いた0.7VにおけるSRAM特性 ○小野田裕之・宮下 桂・中山武雄・木下朋子・西村尚志・東 篤志・山田誠司・松岡史倫（東芝） SDM2007-165 ICD2007-93 |
ストレス技術を加えた不純物偏析Schottkyソース/ドレイントランジスタ(Dopant Segregated Scho... [more] | SDM2007-165 ICD2007-93 pp.131-134 |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]