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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2009-06-19
10:50
東京 東京大学(生産研An棟) GeO2/Ge界面形成の物理と電気特性改善技術
渡部平司齊藤真里奈齊藤正一朗岡本 学朽木克博細井卓治小野倫也志村考功阪大SDM2009-29
 [more] SDM2009-29
pp.15-20
SDM 2007-06-08
14:40
広島 広島大学(学士会館) ゲルマニウム窒化膜の形成と評価
朽木克博岡本 学細井卓治志村考功安武 潔渡部平司阪大SDM2007-49
高密度プラズマによるGe基板の窒化を行い、アモルファス純窒化膜(Ge$_3$N$_4$)の形成に成功した。350 $^o... [more] SDM2007-49
pp.97-100
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