お知らせ 研究会の開催と会場に参加される皆様へのお願い(2020年10月開催~)
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 開催スケジュール
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
    [Japanese] / [English] 
研究会名/開催地/テーマ  )→
 
講演検索  検索語:  /  範囲:題目 著者 所属 抄録 キーワード )→

すべての研究会開催スケジュール  (すべての年度)

講演検索結果
 登録講演(開催プログラムが公開されているもの)  (日付・降順)
 18件中 1~18件目  /   
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2021-06-11
10:25
宮城 東北大通研
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
傾斜配向Co/Pt多層磁性膜の作製と本質的な一軸異方性の定量解析
宮崎大輝斉藤 伸東北大)・本多直樹田河育也東北工大MRIS2021-5
傾斜配向磁性膜において結晶配向軸の傾斜角度の定量的な評価を行うとともに、膜の形状磁気異方性を含んだ実効的な磁気異方性エネ... [more] MRIS2021-5
pp.22-27
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2016-12-09
10:30
愛媛 愛媛大学 Co/Pt原子層積層スパッタ堆積による傾斜異方性膜の作製
本多直樹東北工大)・日向慎太朗齊藤 伸東北大MR2016-38
ビットパターン媒体用の弱傾斜磁気異方性膜の作製を検討した.初めに高Ms高垂直磁気異方性を持つCo/Pt積層膜の室温作製を... [more] MR2016-38
pp.51-56
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2015-12-11
11:20
愛媛 愛媛大学 傾斜磁気異方性による2層ECCドットのスイッチング磁界の低減
本多直樹東北工大)・山川清志秋田県産技センターMR2015-33
スイッチング磁界とその印加磁界角度依存性が小さな2層ECCドットを提案する.通常のECCドットではスイッチング磁界の印加... [more] MR2015-33
pp.63-68
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2014-12-12
09:50
愛媛 愛媛大学 室温作製Co/Pt積層膜の磁気特性の積層構造依存性
土屋垂穂本多直樹内田裕久東北工大)・斎藤 伸日向慎太朗東北大MR2014-38
高垂直磁気異方性膜の室温作製のため、原子層積層によるL11規則化Co-Pt積層膜のスパッタ作製を検討した。コリメータを用... [more] MR2014-38
pp.59-64
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2014-12-12
10:30
愛媛 愛媛大学 3層ECCグラニュラー媒体のシングル記録のシミュレーション解析
本多直樹東北工大)・山川清志秋田県産技センターMR2014-39
高密度記録BPM用として検討してきた3層ECCドットをグラニュラー媒体に適用し,シールドプレーナー型ヘッドを用いたシング... [more] MR2014-39
pp.65-70
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2014-06-13
10:45
宮城 東北大学 パターン媒体方式による垂直磁気記録の高密度化
本多直樹東北工大)・山川清志秋田県産技センターMR2014-6
パターン媒体方式で面密度2 Tdot/in2以上の高密度記録を達成するための手法を検討した.ドットが高面密度ではドット間... [more] MR2014-6
pp.31-36
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2013-12-12
16:15
愛媛 愛媛大学 積層スパッタ堆積による垂直磁気異方性Co/Pt膜の作製
土屋垂穂本多直樹東北工大MR2013-30
原子層積層コリメータスパッタ堆積により,高磁気異方性Co/Pt積層膜の低温作製を検討した.基板温度が高いほど,また,Ar... [more] MR2013-30
pp.33-38
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2013-12-13
09:45
愛媛 愛媛大学 3層ECCドットビットパターン媒体への高密度記録特性のシミュレーション解析
本多直樹東北工大)・山川清志秋田県産技総研センターMR2013-32
ECCドットの磁化反転をシミュレーション解析した.スピンモデル解析結果より提案した3層ECCドットの磁気パラメータを,実... [more] MR2013-32
pp.43-48
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2012-12-14
10:00
愛媛 愛媛大学 コリメータスパッタリングによる傾斜異方性膜の作製
本多章人本多直樹東北工大)・有明 順秋田県産技センターMR2012-37
 [more] MR2012-37
pp.37-41
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2011-12-16
09:30
愛媛 愛媛大学 多層交換結合複合粒子の磁化反転の解析
本多直樹東北工大MR2011-32
2-4層構造ECC粒子の磁化反転磁界を単純スピンモデルを用いて解析した.2層構造では,ソフト層の異方性磁界をゼロとするこ... [more] MR2011-32
pp.49-55
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2011-12-16
10:00
愛媛 愛媛大学 コリメータスパッタ堆積膜の結晶配向制御
本多章人本多直樹東北工大MR2011-33
傾斜コリメータスパッタリングによる傾斜配向膜の作製を検討した。大きな傾斜角を得るには,傾斜コリメータの使用だけでは効果が... [more] MR2011-33
pp.57-62
ITE-MMS, MRIS
(連催)
2010-12-10
10:45
愛媛 愛媛大学 総合メディアセンター コリメータスパッタリングによる結晶配向制御の基礎検討
本多直樹本多章人東北工大MR2010-51
傾斜異方性磁気記録媒体の作製を目指して,コリメータスパッタリングによる薄膜の結晶配向制御の基礎検討を行った.Co-Cr合... [more] MR2010-51
pp.65-72
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2010-06-10
13:00
宮城 東北大学電気通信研究所 弱傾斜異方性ビットパターン媒体の記録特性におよぼす異方性傾斜方向の影響
本多直樹東北工大)・山川清志大内一弘秋田県産技総研センター)・小向達也東北工大
 [more]
ITE-MMS, MRIS
(共催)
2009-12-10
13:30
愛媛 愛媛大学 工学部 傾斜異方性ビットパターン媒体におけるスイッチング磁界分散低減機構の解析
本多直樹小向達也東工大MR2009-38
高面記録密度の実現が期待されるビットパターン媒体では,高密度になるほどドット間の静磁気相互作用のためスイッチング磁界の分... [more] MR2009-38
pp.7-11
ITE-MMS, MRIS
(共催)
2009-11-13
13:45
東京 早稲田大学 1 Tbit/in2級微細磁性ドットアレイの形状が磁気特性、記録特性に及ぼす影響
有明 順近藤祐治秋田県産技総研センター)・石尾俊二秋田大)・本多直樹東北工大MR2009-30
1 Tbit/in2級のビットパターン媒体(BPM)作製のための作製プロセスや媒体設計上の課題抽出のため,微細磁性ドット... [more] MR2009-30
pp.7-12
ITE-MMS, MRIS
(共催)
2009-06-11
14:45
宮城 東北大学電気通信研究所 弱傾斜異方性ビットパターン媒体とシールドプレーナーヘッドを用いた高密度記録のシミュレーション検討
本多直樹東北工大)・山川清志大内一弘秋田県産技総研センターMR2009-3
傾斜異方性ビットパターン媒体の傾斜角を60度とする弱傾斜媒体の記録特性をシミュレーションにより検討した.シールドプレーナ... [more] MR2009-3
pp.9-14
MRIS, ITE-MMS
(共催)
2008-11-21
16:50
東京 早稲田大学 垂直磁気記録媒体用Co-Pt-TiO2グラニュラ膜への熱処理による磁気特性・記録再生特性の改善
有明 順木谷貴則秋田県産技総研センター)・本多直樹東北工大MR2008-35
垂直磁気記録媒体用Co-Pt-TiO2薄膜に熱処理を施し,磁気特性,結晶特性そして記録特性がどのように変化するかを調べた... [more] MR2008-35
pp.31-36
MRIS, ITE-MMS
(共催)
2008-10-09
13:30
秋田 秋田県産業技術総合センター 秋田県高度技術研究所 ビットパターン媒体用1Tbit/in2級Co-Ptドットアレイの作製
近藤祐治千葉 隆有明 順田口 香秋田県産技総研センター)・鈴木基寛河村直己高輝度光科学研究センター)・Zulfakri Bin Mohamad保坂純男群馬大)・長谷川 崇石尾俊二秋田大)・本多直樹東北工大MR2008-19
ビットパターン媒体作製に関して,イオンエッチング時に生じる磁気的な加工ダメージを軽減するために,低エネルギーイオンによる... [more] MR2008-19
pp.1-6
 18件中 1~18件目  /   
ダウンロード書式の初期値を指定してください NEW!!
テキスト形式 pLaTeX形式 CSV形式 BibTeX形式
著作権について : 以上の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会