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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM, ED, SDM
(共催)
2014-05-29
10:35
愛知 名古屋大学VBL3階 超狭帯域LED光源の開発とその皮膚医学応用
小笠原正弘ミニョンベルクリニック)・平尾 孝藤田静雄京大ED2014-35 CPM2014-18 SDM2014-33
 [more] ED2014-35 CPM2014-18 SDM2014-33
pp.85-90
R 2011-05-13
15:00
高知 高知市文化プラザ「かるぽーと」 酸化亜鉛薄膜トランジスタ(ZnO TFT)のバイアスストレス劣化メカニズム
古田 守平松孝浩松田時宜平尾 孝高知工科大)・鎌田雄大藤田静雄京大R2011-11
 [more] R2011-11
pp.19-22
EID, ITE-IDY, IEE-EDD, IEIJ-SSL
(連催)
2011-01-28
13:00
高知 高知工科大学 研究教育棟B ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 ~ スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て ~
王 大鵬川原村敏幸李 朝陽平尾 孝高知工科大
 [more]
EID, ITE-IDY, IEE-EDD, IEIJ-SSL
(連催)
2011-01-28
14:40
高知 高知工科大学 研究教育棟B ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 ~ 大気圧下、低温成長への挑戦 ~
川原村敏幸高知工科大)・織田容征白幡孝洋東芝三菱電機産業システム)・井川拓人伊藤大師京大)・吉田章男東芝三菱電機産業システム)・藤田静雄京大)・平尾 孝高知工科大
 [more]
EID, ITE-IDY, IEE-EDD, IEIJ-SSL
(連催)
2011-01-29
09:55
高知 高知工科大学 研究教育棟B 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
松田時宜古田 守平松孝浩古田 寛平尾 孝高知工科大EID2010-35
薄膜トランジスタのような半導体デバイスを、フレキシブル電子ペーパーなどへの応用が期待される低耐熱性基板へ応用するため、絶... [more] EID2010-35
pp.87-90
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