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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
MW 2017-11-09
14:20
沖縄 宮古島マリンターミナルビル GaAs出力整合回路を用いたX帯30W級GaN-on-Si MMIC増幅器
神岡 純河村由文中原和彦岡崎拓行半谷政毅山中宏治三菱電機MW2017-122
 [more] MW2017-122
pp.57-60
MW, ED
(共催)
2017-01-27
11:20
東京 機械振興会館地下2階1号室 GaN on Siを用いたX帯低損失・高耐電力スイッチ
幸丸竜太半谷政毅中原和彦岡崎拓行山中宏治三菱電機ED2016-106 MW2016-182
GaN on Siを用いた低損失・高耐電力な特性を有するスイッチの試作結果について報告する. 本スイッチにはSi基板上に... [more] ED2016-106 MW2016-182
pp.53-56
MW, ED
(共催)
2017-01-27
14:00
東京 機械振興会館地下2階1号室 低コスト送信器向け小型8.5-10.5GHz GaN-on-Si MMIC増幅器
神岡 純半谷政毅中原和彦岡崎拓行山中宏治三菱電機ED2016-109 MW2016-185
 [more] ED2016-109 MW2016-185
pp.69-73
ED, SDM
(共催)
2010-06-30
16:00
東京 東工大 大岡山キャンパス Electrochemical formation of InP porous structures for their application to photoelectric conversion devices
Hiroyuki OkazakiTaketomo SatoNaoki YoshizawaTamotsu HashizumeHokkaido UnivED2010-71 SDM2010-72
 [more] ED2010-71 SDM2010-72
pp.85-89
ED 2010-06-17
13:50
石川 北陸先端大 電気化学的手法によるInP多孔質構造の形成と高感度化学センサへの応用
佐藤威友吉澤直樹岡崎拓行橋詰 保北大ED2010-35
電気化学的手法により自己組織化形成されるn-InP多孔質構造の形成条件を最適化し、孔径約100nmで深さ10ミクロン以上... [more] ED2010-35
pp.11-15
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