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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2011-07-04
09:40
愛知 名古屋大学(ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー) Al2O3堆積膜をゲート絶縁膜に用いたSiC-MOSFETの作製と評価
山田泰之石黒暁夫東工大)・日野史郎三浦成久今泉昌之炭谷博昭三菱電機)・徳光永輔東工大SDM2011-52
 [more] SDM2011-52
pp.11-15
EMD, CPM, OME
(共催)
2010-06-25
14:25
東京 機械振興会館 地下3階研修2号室 ポルフィリン自己組織化単分子膜によるペンタセンTFTの接触抵抗の低減
東 康男鈴木太陽東工大/JST)・山田泰之田中健太郎名大/JST)・金原正幸寺西利治筑波大/JST)・真島 豊東工大/JSTEMD2010-10 CPM2010-24 OME2010-29
 [more] EMD2010-10 CPM2010-24 OME2010-29
pp.7-12
EMD, CPM, OME
(共催)
2010-06-25
15:15
東京 機械振興会館 地下3階研修2号室 走査トンネル顕微鏡を用いたポルフィリン分子の電気的特性の観察
加納伸也皆川慶嘉東 康男東工大/JST)・山田泰之田中健太郎名大/JST)・真島 豊東工大/JSTEMD2010-12 CPM2010-26 OME2010-31
我々は走査トンネル顕微鏡(Scanning Tunneling Microscopy : STM)/走査トンネル分光(S... [more] EMD2010-12 CPM2010-26 OME2010-31
pp.19-23
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