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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
EID, SDM
(共催)
ITE-IDY
(連催) [詳細]
2020-12-02
13:40
ONLINE オンライン開催 粒子配向用チタン酸バリウム単結晶微粒子の合成
山﨑美沙山口正樹芝浦工大EID2020-8 SDM2020-42
本研究では,水酸化バリウム水溶液,チタン乳酸錯体,水酸化ナトリウム水溶液を基本的な出発原料とした混合液を用い,インクジェ... [more] EID2020-8 SDM2020-42
pp.29-34
SDM, EID
(共催)
2017-12-22
14:45
京都 京都大学 シリコン基板上に形成した強誘電体厚膜におよぼすプロトンビーム照射の影響
平出 惇山口正樹芝浦工大)・増田陽一郎八戸工大EID2017-22 SDM2017-83
シリコン基板上に堆積した強誘電体薄膜は,不揮発性メモリ,フォトニック結晶,圧電MEMSなどへの応用が期待されている.しか... [more] EID2017-22 SDM2017-83
pp.57-62
SDM 2013-12-13
16:20
奈良 奈良先端科学技術大学院大学 誘電体厚膜の形成とプロトンビームによる直接パターニング
渡辺和貴山口正樹西川宏之芝浦工大SDM2013-130
本研究では,非鉛系強誘電体材料の一つであるチタン酸ビスマス(Bi4Ti3O12,BIT)において,ポリビニルピロリドン(... [more] SDM2013-130
pp.85-89
SDM 2012-12-07
16:00
京都 京都大学(桂) プロトンビームを用いた強誘電体微構造の作製
山口正樹渡辺和貴芝浦工大)・増田陽一郎八戸工大SDM2012-134
次世代の微細加工手法であると考えられるプロトンビーム照射により,強誘電体膜へのパターン描画について検討を行なった.感光基... [more] SDM2012-134
pp.113-117
SDM 2009-12-04
16:10
奈良 奈良先端大 物質創成科学研究科 強誘電体インクの安定性改善
大場友裕前田慎弥山口正樹芝浦工大SDM2009-167
任意のパターンを直接描画できる利点を持つインクジェット法に注目し.自発分極や圧電効果など様々な性質を示す強誘電体薄膜の形... [more] SDM2009-167
pp.83-88
SDM 2008-12-05
15:10
京都 京都大学桂キャンパスA1-001 アルコール系原料を用いた強誘電体膜の電気的特性評価
山口正樹大場友弘芝浦工大)・増田陽一郎八戸工大SDM2008-192
近年,次世代の薄膜形成手法のひとつであるプリンテッド・エレクトロニクス手法に応用できるアルコール系インクから強誘電体薄膜... [more] SDM2008-192
pp.43-47
SDM 2007-12-14
17:20
奈良 奈良先端科学技術大学院大学 アルコール系溶液による強誘電体薄膜特性の焼成条件依存性
山口正樹芝浦工大)・増田陽一郎八戸工大SDM2007-236
近年,次世代の薄膜形成手法のひとつであるプリンテッド・エレクトロニクス手法に応用できるアルコール系インクから,強誘電体薄... [more] SDM2007-236
pp.59-62
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